本發明涉及一種真空鍍膜襯底底座，屬于真空鍍膜裝置技術領域。
背景技術：
真空鍍膜裝置被廣泛應用于各種平面鍍膜領域，但是對于立體異形結構的鍍膜，往往需要復雜的襯底旋轉、翻轉等復雜機構的支持，現有的真空鍍膜襯底底座難以實現這一要求。
技術實現要素：
本發明所要解決的技術問題是克服現有技術的缺陷，提供一種真空鍍膜襯底底座，可使襯底底座在加工過程中能夠旋轉、翻轉，達到改善真空鍍膜工藝對非平面結構的臺階覆蓋率，尤其是深孔鍍膜情況下的改善深孔內壁膜厚均勻性。
為解決上述技術問題，本發明提供一種真空鍍膜襯底底座，包括襯底托盤、轉軸和傳動軸，所述傳動軸與旋轉機構連接，所述襯底托盤通過設置于中心處的轉軸與傳動軸相連，所述襯底托盤底部設置有以托盤中心為圓心的圓環形凹槽，所述襯底托盤底部還設置有角度調節桿，所述角度調節桿一端固定在設備底座上，另一端為接觸球端，所述接觸球端可在圓環形凹槽內滑動。
所述傳動軸包括旋轉機構連接軸和關節蓋帽，所述旋轉機構連接軸的末端為關節球體，所述關節球體被球關節蓋帽包合，所述球關節蓋帽與轉軸相連。
所述轉軸包括結構連接螺釘，所述結構連接螺釘一端與襯底托盤固定連接，另一端與傳動軸轉動連接。
所述結構連接螺釘通過固定螺釘固定在襯底托盤的底部。
所述襯底托盤圓心處設置有螺釘沉孔，所述固定螺釘安裝于螺釘沉孔內。
所述襯底托盤的邊緣設置有樣品限位環。
所述球關節蓋帽包括上蓋帽和下蓋帽，所述上蓋帽上設置有容納轉軸的凹孔。
本發明所達到的有益效果：
1.真空鍍膜進行時，傳動軸與旋轉機構連接并不斷旋轉，放于襯底托盤上的樣品以傳動軸為中心對稱軸在俯視平面內做圓周運動，另一方面，由于襯底托盤與角度調節桿滑動接觸，從而使襯底托盤在角度調節桿限位作用下，將圓周運動轉為在其所在的平面內做自轉運動，以實現改善真空鍍膜工藝對非平面結構的臺階覆蓋率，尤其是深孔鍍膜情況下的改善深孔內壁膜厚均勻性。
2.角度調節桿上接觸球端的接觸角度可隨著調節桿的彎折和高度而變化，進而對襯底托盤的傾斜角度進行調節，實現對真空鍍膜工藝中不同孔徑比的樣品的均勻鍍膜。
因此，本發明所提供的一種真空鍍膜襯底底座，可以實現襯底底座的簡單的類行星式轉動，以使襯底底座在加工過程中能夠旋轉、翻轉，達到改善真空鍍膜工藝對非平面結構的臺階覆蓋率，尤其是深孔鍍膜情況下的改善深孔內壁膜厚均勻性。
附圖說明
圖1是本發明的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明作進一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本發明的技術方案，而不能以此來限制本發明的保護范圍。
如圖1所示的一種真空鍍膜襯底底座，包括襯底托盤1、轉軸和傳動軸，所述傳動軸與旋轉機構連接，所述襯底托盤1通過設置于中心處的轉軸與傳動軸相連，所述襯底托盤1底部設置有以托盤中心為圓心的圓環形凹槽1-3，所述襯底托盤底部還設置有角度調節桿5，所述角度調節桿5一端固定在設備底座上，另一端為接觸球端5-1，所述接觸球端5-1可在圓環形凹槽1-3內滑動。
所述傳動軸包括旋轉機構連接軸4和關節蓋帽3，所述旋轉機構連接軸4的末端為關節球體4-1，所述關節球體4-1被球關節蓋帽3包合，所述球關節蓋帽3與轉軸相連。
所述轉軸包括結構連接螺釘2，所述結構連接螺釘2一端與襯底托盤1固定連接，另一端與傳動軸轉動連接。
所述結構連接螺釘2通過固定螺釘1-4固定在襯底托盤1的底部。
所述襯底托盤1圓心處設置有螺釘沉孔1-1，所述固定螺釘1-4安裝于螺釘沉孔1-1內，以避免固定螺釘1-4安裝后高于襯底托盤1表面，使真空鍍膜的樣品被頂起。
所述襯底托盤1的邊緣設置有樣品限位環1-2，防止在旋轉過程中樣品被甩出襯底托盤1。
所述球關節蓋帽3包括上蓋帽3-1和下蓋帽3-2，所述上蓋帽3-1上設置有容納轉軸的凹孔，由于球關節蓋帽3在轉動中容易發生磨損。這一結構使球關節蓋帽3易于安裝拆卸，便于維護更換。
以上所述僅是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明技術原理的前提下，還可以做出若干改進和變形，這些改進和變形也應視為本發明的保護范圍。