一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭的制作方法
【專利摘要】一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，包括靶體，所述靶體上一體連接基座，所述基座內開設一凹孔，凹孔側壁上設置內螺紋；所述基座上開設凹陷部。本靶材接頭通過凹陷部的設計，提高了利用率，減少基座的體積，避免了金屬的浪費，增加了靶體的使用時間，并可以回收一部分的冷凝后的金屬。
【專利說明】一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及鍍膜設備，特別是用于真空鍍鈦工藝的靶材接頭。
【背景技術】
[0002]現有的離子鍍膜技術是利用在真空條件下吧性能優異的太空金屬鈦做成靶體接頭，用電弧方式直接產生等離子體，并在真空爐中通入高純氮氣，是鈦離子和氮離子在電廠作用下直接“打入”由各種基材制成的產品上，并形成一層厚度約I微米結合力很強的氮化鈦層，不僅外觀金光閃閃而且耐磨耐蝕性能優異，從而大大的提高產品的使用價值與經濟價值。
[0003]在真空離子鍍鈦工藝中需要用到很多鈦合金制作的靶材。鈦合金是稀有金屬，所以其靶材的價格非常貴。靶材是在真空離子鍍鈦不斷消耗的。靶材是靠螺紋接頭與鍍鈦爐連接的。當靶材消耗到連接部的時候，就要更換，這樣既麻煩又浪費。
實用新型內容
[0004]本實用新型的目的，是解決上述技術問題，提供一種提高靶材接頭的利用率，降低成本的一種靶材接頭。
[0005]本實用新型的技術解決方案是:一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，包括靶體，所述靶體上一體連接基座， 所述基座內開設一凹孔，凹孔側壁上設置內螺紋；所述基座上開設凹陷部。
[0006]由于靶體使用到基座位置基本也就需要更換了，但在實際制作的時候，靶體和基座都是一體成型的，并且都用鈦材料來制作，所以剩下的基座部分就比較浪費，所以設置凹陷部，一來可以減少基座的體積，降低成本，二就是回收，由于一些鈦離子冷卻后會附著在靶體上，如果沒有這些凹陷部，就會因附著力不夠而脫離靶體，滴落到爐底上，造成一定的浪費和污染。
[0007]作為優選，所述凹陷部在基座與靶體的連接處設置并且致使基座的表面傾斜。基座的表面傾斜一是最大化的縮減基座的體積，二是可以讓冷凝在基座上的液體可以順利回流到凹陷部內，可以再次使用。
[0008]作為進一步優選，所述凹陷部的橫截面為三角形。三角形的結構設計可以讓基座的表面傾斜，又最大的減小基座的體積而不減少基座的連接強度。
[0009]作為優選，所述凹陷部在基座與靶體的連接處設置并且致使基座的外表面呈圓弧形。由于靶材接頭與真空爐是螺紋連接，所以基座的連接部也是圓柱形，其外表面如果也是圓弧形就可以既保持連接強度也可以降低基座體積。
[0010]作為進一步優選，所述凹陷部的橫截面為矩形。
[0011]作為優選，所述凹陷部以基座的中心軸為中心線，圓周陣列分布。
[0012]作為優選，所述靶體為圓臺形。
[0013]本實用新型有益效果是:
[0014]本靶材接頭通過凹陷部的設計，提高了利用率，減少基座的體積，避免了金屬的浪費，增加了靶體的使用時間，并可以回收一部分的冷凝后的金屬。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0015]圖1為本實用新型實施例結構示意圖；
[0016]圖2為本實用新型實施例主視圖結構；
[0017]圖3為本實用新型實施例凹陷部的另一種結構示意圖。
[0018]圖中:1-靶體，2-基座，21-凹陷部，3-凹孔，31-內螺紋。
【具體實施方式】
[0019]下面結合附圖以實施例對本實用新型作進一步說明。
[0020]本具體實施例僅僅是對本實用新型的解釋，其并不是對本實用新型的限制，本領域技術人員在閱讀完本說明書后可以根據需要對本實施例做出沒有創造性貢獻的修改，但只要在本實用新型的權利要求范圍內都受到專利法的保護。
[0021]實施例1，如圖1-2所示，一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，包括靶體1，所述靶體I上一體連接基座2，所述基座2內開設一凹孔3，凹孔3側壁上設置內螺紋31 ;所述基座2上開設凹陷部21。靶體I設置成圓臺形，且靶體I外徑的縮小方向是越靠近基座2，其外徑越小。這樣可以增加靶體的體積，提高靶體的工作時間，減少更換次數，提高工作效率。
[0022]所述凹陷部21在基座2與靶體I的連接處設置并且致使基座2的表面傾斜。如圖2所示，凹陷部21的橫截面為三角形，并且靶體I的連接面還是平行設置，這樣就不會減少靶體I的體積。
[0023]如圖3所示，所述凹陷部21在基座2與靶體I的連接處設置并且致使基座2的外表面呈圓弧形。所述凹陷部21的橫截面為矩形。
[0024]所述凹陷部21以基座2的中心軸為中心線，圓周陣列分布。這樣既保留了原基座2的連接強度，又可以減少基座2的體積，并且凹陷部21可以收集冷凝后金屬，一是方便回收利用，二是防止滴落到真空爐內，造成污染和浪費。
【權利要求】
1.一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，包括靶體(I)，其特征在于:所述靶體(I)上一體連接基座(2)，所述基座(2)內開設一凹孔(3)，凹孔(3)側壁上設置內螺紋(31);所述基座(2)上開設凹陷部(21)。
2.按權利要求1所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于:所述凹陷部(21)在基座(2)與靶體(I)的連接處設置并且致使基座(2)的表面傾斜。
3.按權利要求2所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于:所述凹陷部(21)的橫截面為三角形。
4.按權利要求1所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于:所述凹陷部(21)在基座(2)與靶體(I)的連接處設置并且致使基座(2)的外表面呈圓弧形。
5.按權利要求4所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于:所述凹陷部(21)的橫截面為矩形。
6.按權利要求3或5所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于:所述凹陷部(21)以基座(2)的中心軸為中心線，圓周陣列分布。
7.按權利要求6所述的一種真空離子鍍鈦爐的靶材接頭，其特征在于:所述靶體(I)為圓臺形。
【文檔編號】C23C14/32GK203976899SQ201420413854
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年7月25日 優先權日:2014年7月25日
【發明者】韓永全 申請人:浙江博海金屬制品科技有限公司