用于加熱cvd反應器的基座的設備的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種用于加熱尤其CVD反應器的基座的設備，具有第一加熱件(1.1)和第二加熱件(1.2)，其中，每個加熱件(1.1、1.2)具有由加熱絲(8)構成的加熱機構(2.1、2.2)，其中，加熱機構(2.1、2.2)位于加熱面(H1、H2)中，并且具有接觸件(3.1、4.1、3.2、4.2)的加熱機構(2.1、2.2)的端部分別與接觸板(5、6)相連接，接觸件(3.1、3.2、4.1、4.2)如此并排安置在接觸面(K1、K2)中，使得加熱件(1.1、1.2)在接觸板(5、6)之間電氣并聯。為了提高加熱設備的使用壽命，在此建議，加熱機構(2.1、2.2)是等長的并且具有相同的電阻，第二加熱件(1.2)的接觸件(3.2、4.2)相互間具有間距(A2)，該間距(A2)小于第一加熱件(1.1)的接觸件(3.1、4.1)的間距(A1)，并且第二加熱件(1.2)的接觸件(3.2、4.2)比第一加熱件(1.1)的接觸件(3.1、4.1)更短。
【專利說明】用于加熱CVD反應器的基座的設備
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種用于加熱尤其CVD (化學氣相沉積)反應器的基座的設備，具有至少一個第一加熱件和至少一個第二加熱件，其中，每個第一和第二加熱件具有由一條或多條加熱絲構成的加熱機構，其中，所述加熱機構位于一個或多個相互平行的加熱面中，并且具有橫向于所述一個或多個加熱面延伸的接觸件的加熱機構的端部與位于一個或多個相互平行和平行于加熱面的接觸面中的接觸板相連接，其中，所述接觸件如此并排安置在所述一個或多個接觸面中，使得所述加熱件在所述接觸板之間電氣并聯。
【背景技術】
[0002]在CVD反應器中，處理室位于相對于周圍環境氣密封閉的反應器殼體內，處理氣體通過進氣機構被導入處理室內。基座位于處理室內，該基座被加熱裝置加熱。例如由娃或第III主族和第V主族元素材料制成的待涂覆的基板位于基座的上側。在基板的上表面上，沉積半導體層、尤其第III主族和第V主族元素構成的半導體層。這在大于1000°C的溫度時實現。為了達到處理溫度所需的熱量由加熱裝置提供。因為進氣機構被主動冷卻并且基座密封地相鄰，所以在基座和進氣機構之間形成陡峭的溫度梯度。由于該溫度梯度，從基座至進氣機構的冷卻設備產生巨大的熱流。為了能夠達到所需的處理溫度，加熱裝置必須將溫度加熱到2000°C并且輸送足夠的熱功率。
[0003]在DE 10 2009 043 960 AU DE 103 29 107 AUDE 10 2006 018 515 AUDE 102007 009 145 AUDE 10 2005 056 536 Al 或 DE 10 2007 027 704 Al 中描述了一種具有加熱裝置的CVD反應器。在DE 26 30 466 Al或US 3，345，498中所描述的加熱裝置具有加熱件，該加熱件在加熱面中沿螺旋線延伸。US 7，573，004描述了一種在加熱面內沿圓弧線延伸的加熱件。
[0004]在用于CVD反應器的加熱裝置中，至少兩個加熱機構并排延伸。加熱機構通過其連接觸頭與同一個接觸板相連接。這通過接觸件實現。由此，加熱件電氣并聯。加熱件如此緊密地并排延伸，使得它們在加熱時由于熱運動可能相觸碰。如果加熱件在碰觸點上具有電位差，則在此會導致局部過熱或形成電弧。這會造成加熱件的損壞。
實用新型內容
[0005]本實用新型所要解決的技術問題是，提高加熱設備的使用壽命。
[0006]所述技術問題通過按照本實用新型的一種用于加熱尤其CVD反應器的基座的設備得以解決。
[0007]按照本實用新型，并排延伸的加熱機構被設計為等長的、相互不同的、電氣并聯的加熱件。此外，加熱機構在電氣或機械方面也被設計為相同的。例如，加熱機構可以具有一個或多個螺旋形狀延伸的加熱絲，該加熱絲具有相同的電阻。所述加熱絲安置在加熱面中。相互不同的加熱件的接觸件具有相互不同的間距。由此，第二加熱件的接觸件的相互間距比第一加熱件的接觸件的間距小。按照本實用新型還規定，第二加熱件的接觸件比第一加熱件的接觸件短。所述加熱絲具有比接觸件至少大10倍的單位長度電阻，所述接觸件優選被設計為厚壁的接觸銷。接觸件具有橫向于加熱面或接觸面延伸的延伸方向。一個或多個接觸板在接觸面內延伸。由一條或多條加熱絲構成的加熱機構在一個或多個相互平行延伸的加熱面內延伸。在優選設計方案中，具有比第一加熱件的接觸件更小間距的加熱機構的端部至少在加熱面和接觸面之間的空隙內延伸。可以設置一個或多個第三或第四加熱件。第三和第四加熱件同樣具有由一條或多條加熱絲構成的加熱機構。加熱機構的端部通過橫向于一個或多個加熱面延伸的接觸件、優選接觸銷，與一個或多個相互平行且相對加熱面平行的接觸面相連接。第三和/或第四加熱件與第一和第二加熱件電氣并聯。第一至第四加熱件的所有加熱機構優選是等長的并且也具有相同設計。它們尤其具有相同的電阻。在加熱機構上，在相同的部段上施加相同的電壓。由此，加熱件在可能的碰觸位置上設有一致的電位，使得在加熱件之間在碰觸位置上不會形成無功電流。第三和第四加熱件具有接觸件，該接觸件具有比第二加熱件的接觸件更小的間距。第三加熱件和第四加熱件的加熱機構具有橫向于相應加熱面沿接觸面的方向突出的端部部段，該端部部段具有一個長度，該長度大于第一和第二加熱件的加熱機構的端部部段的長度。加熱機構的端部部段具有一個長度，該長度基本上等于所屬接觸件與相鄰的屬于同一個加熱件的接觸件的間距、該加熱件的接觸件也相互間隔。接觸件的長度基本與加熱機構的端部部段的長度和所屬加熱面的位置相關。尤其規定，基本垂直于加熱面延伸的端部部段與所屬接觸件的延伸方向平齊地連接著接觸件的端側。接觸件的相對置的端側與接觸板相連接。接觸板可以位于統一的水平面上并且在統一的接觸面中。但是還規定，接觸板安置在平行平面中，即沿著橫向于平面延伸的方向相互間隔。
[0008]特別優選的是，在接觸板之間電氣并聯的所有加熱機構具有相同的長度和相同設計的加熱機構，其中，加熱件的加熱機構通過其端部部段伸入配屬于相應加熱件的加熱面和配屬于相應接觸件的接觸面之間的間隙中，所述加熱件的接觸件彼此間的間距比第一加熱件的接觸件的間距更小，在所述端部部段上連接著接觸件。所有加熱機構可以在不同的加熱面內延伸。加熱機構在加熱面內尤其沿圓弧線或螺旋弧線延伸。但還可行的是，相互不同的加熱件的一個或多個加熱機構在共同的加熱面內延伸。尤其規定，所有加熱機構在共同的加熱面內延伸。但是備選地也可以規定，所有加熱機構在彼此不同的加熱面內延伸。加熱機構的伸入間隙內的端部部段的長度優選等于所屬接觸件至第一加熱件的接觸件的距離。相對地，所有其它加熱件與第一加熱件的接觸件在最遠端相互間隔。加熱機構可以如此并排地延伸并且如此通過其所屬的接觸件與接觸板相連接，使得當在接觸件上施加加熱電壓時，在最可能的碰觸位置上設有相同的電位。加熱絲可以由鎢絲制成。該加熱絲被設置為螺旋線形狀。由此產生的長形的加熱機構在加熱面內尤其沿弧線延伸。所述設備具有基本上圓形的平面圖或基礎輪廓。所述設備可以具有多個相互電氣分離的加熱裝置。由此，尤其設置有圓盤形狀的中心加熱裝置，該加熱裝置被第一環形加熱裝置環繞，所述第一環形加熱裝置再次被第二環形加熱裝置環繞。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0009]以下結合附圖對本實用新型的實施例進行說明。在附圖中:
[0010]圖1示出CVD反應器的結構示意圖；
[0011]圖2示出由三個加熱區14、15、16構成的加熱器的俯視圖，該加熱器尤其具有三個加熱裝置14、15、16 ；
[0012]圖3示出沿箭頭III的方向觀察圖2所示加熱器所得的側視圖；
[0013]圖4示出沿圖2中的箭頭IV的方向觀察圖2中的徑向最外側的加熱裝置14所得的立體圖；
[0014]圖5示出加熱件裝置的兩個接觸區的示圖，其中加熱件1.1、1.2、1.3、1.4按照本實用新型的方式設計并且設有按照本實用新型的接觸件3.1,3.2,3.3,3.4 ；
[0015]圖6示出加熱件I的第一實施例，其中接觸件3與單螺旋線圈2的端部部段7相連接；和
[0016]圖7示出加熱件7的第二實施例，其中加熱機構2被設計為雙螺旋線圈。
【具體實施方式】
[0017]圖1至4首先并且基本上用于顯示這種類型的設備。在這些附圖中，以下實用新型解決了所述技術問題。
[0018]圖1大致示意地示出CVD反應器10的一些基本的部件。CVD反應器10具有向外氣密封閉的殼體。具有以淋浴頭形式安置的排氣口的進氣機構11位于殼體內，該排氣口朝向處理室13的方向。一種或多種相互不同的處理氣體可以通過進氣機構11的排氣口被導入處理室13中。處理室13的底板由例如有涂層的石墨制成的基座12構成，在基座12的朝向處理室13的上側上安置有一個或多個基板，該基板應被涂覆有單晶的半導體層。由多個加熱裝置14、15、16構成的加熱器位于基座12的下面，該加熱裝置通過被提供電能而產生熱量，基座12通過該熱量提高處理溫度。
[0019]圖2示出在圖1中僅示意示出的由加熱裝置14、15、16構成的加熱器的俯視圖。具有多個加熱件的圓盤形狀的加熱裝置16位于中心，這些加熱件螺旋地被安置在單一的加熱平面內。
[0020]中心加熱裝置16被在中間的加熱裝置15環繞，該加熱裝置15同樣具有多個加熱件，該加熱件在共同的加熱平面內在螺旋曲線上延伸。位于最外側的加熱件僅能在更遠的加熱面上延伸。
[0021]位于徑向最外側的加熱裝置14是環形并且具有在圓形曲線上延伸的加熱件I。該加熱件I是電氣并聯的。分別總共設置五個加熱件，這些加熱件分別在約三分之一的圓形弧線上延伸。加熱件I的端部分別與彼此不同的接觸板5、6相互連接。在接觸板5、6上，力口熱件I被通電。接觸板5、6在彼此間隔的接觸面KpK2中延伸。在圖3和4中，接觸件3、4被顯示為接觸銷，其分別具有統一的長度。單個加熱件1.1、1.2、1.3、1.4、1.5借助各個相同長度的接觸件3、4與接觸板5、6相連接。加熱件1.1、1.2、1.3、1.4、1.5分別具有加熱機構2.1,2.2,2.3,2.4,2.5，這些加熱機構由未詳細示出的螺旋彎曲的鎢絲構成。在圖1至4中，加熱機構2.1至2.5僅通過簡略圖未示出螺旋走向的結構，而是顯示為圓柱形結構。螺旋形狀的鎢絲在圓柱形結構中延伸。相互不同的加熱件1.1至1.5的單個接觸件3、4具有彼此不同的間距。因此，在加熱機構2.1至2.5的不同的圓周位置上釋放不同的電壓。當相互不同的加熱機構2.1至2.5的各個加熱絲在加熱時出現相對的熱變形的情況下，由此可能會在此處流動局部的無功電流。因此，在觸碰部位上可能會造成局部的過熱。在觸碰部位上可能構成電弧。
[0022]為了避免這種局部的溫度峰值，本實用新型建議，各個加熱機構2.1至2.5被設計為相同的。加熱機構2.1、2.5尤其是相同長度的、螺旋成型的加熱絲。它們在其長度上具有相同的電阻，使得在并聯狀態下通過它們流動相同的電流。還規定，在接觸位置上安置的接觸件3、4具有不同的長度。接觸件的長度與加熱件I的接觸件3的間距有關。加熱件的接觸件3、4相互間距越遠，則接觸件3、4越長。所述接觸件能是一種圓柱形的銷，其橫向于接觸面1、K2或橫向于加熱面氏、H2、H3、H4延伸。
[0023]以下根據圖5詳細闡述本實用新型。圖5示出兩個接觸板5、6，在該接觸板上設置有不同的電位。在圖5中，這些接觸板配屬于兩個相互間隔的接觸面K1和1(2。但還可行的是，接觸板5、6位于共同的接觸面K1中。在任何情況下，這些接觸板5、6電流上相互分離。
[0024]圖5示出一共四個加熱件1.1、1.2、1.3、1.4。這些加熱件分別在加熱面氏、!12、!13、H4上延伸。加熱面HpH2、H3、H4平行于兩個接觸面1、K2延伸。在加熱面HpHyHyH4中，力口熱件1.1至1.4的加熱機構2.1,2.2,2.3,2.4分別在圓弧線上延伸，如圖2至4所示。根據簡化圖所示，加熱機構2.1至2.4僅在彼此不同的加熱面故、H2, H3> H4上被示出。但是，彼此不同的加熱件1.1至1.4的加熱機構2.1至2.4也可以在同一個加熱面中延伸。
[0025]加熱機構2.1至2.4通過其端部部段7.1、7.2、7.3、7.4分別通過圓柱銷形狀的接觸銷3.1、3.2、3.3、3.4或4.1、4.2、4.3、4.4與兩個接觸板5、6之一電氣連接。加熱機構
2.1至2.4的長度是相同的。該長度分別由在所屬加熱面HpHyHyH4中延伸的相應加熱機構2.1至2.4的部段和兩個端部部段7.1至7.4的長度所組成。端部部段7.1至7.4垂直于所屬加熱面民、H2, H3> H4、沿著接觸面1、K2的方向延伸。端部部段7.1至7.4的延伸方向與接觸銷3.1至3.4或4.1至4.4的延伸方向平齊。
[0026]第一加熱件1.1的接觸銷3.1,4.1彼此間隔最遠。該間距被標記為Ap所配屬的接觸銷3.1,4.1比其余的加熱件1.2至1.4的接觸銷3.2至3.4或4.2至4.4更長。第一加熱件1.1的端部部段7.1相對于其它的端部部段更短。
[0027]相對具有更短間距A2至A4的接觸件3.2至3.4或4.2至4.4具有比接觸件3.1、
4.1更短的長度。最短的接觸件3.4,4.4屬于加熱件2.4，該加熱件2.4的橫向于加熱面H4延伸的端部部段7.4是最長的，并且其間距A4小于其余接觸件3.1至3.3或4.1至4.3的間距 A1^ A2>A3o
[0028]加熱件1.2至1.4的加熱螺旋線圈2.2至2.4的端部部段7.2至7.4具有一個長度，該長度等于所配屬的接觸件3.2,3.3,3.4,4.2,4.3,4.4與具有最短端部部段7.1的加熱件的相應接觸件3.1,4.1的間距，加熱件1.2至1.4的接觸件3.2至3.4,4.2至4.4相互間具有比加熱件1.1的接觸件3.1,4.1更小的間距A2、A3> A4，加熱件1.1的加熱螺旋線圈2.1具有最短的端部部段7.1。至相應最外側的接觸件3.1,4.1的間距差確定了端部部段7.2至7.3的長度的尺寸，并且后者連同加熱螺旋線圈2.1至2.4的高度確定了接觸件
3.1至3.4或4.1至4.4的長度。
[0029]標記為9的加熱絲支架由金屬制成。加熱絲支架9在相應的圓周位置上支承全部的四個加熱件，在該圓周位置上在加熱機構2.1至2.4上分別施加相同的電壓，使得通過加熱絲支架9不會流過無功電流。
[0030]在圖5中依據簡略圖通過兩條平行延伸的線示出加熱機構2.1至2.4。在圖6中以螺旋線形狀延伸的加熱絲8的形式示出加熱機構2的第一優選設計方案。圖6示出單一的、螺旋線形狀彎曲的加熱絲8。但是還規定，整體上螺旋線形狀地設置兩條或三條加熱絲
8。圖7示出具有雙股螺旋線圈的相關的特別優選的設計方案。
[0031]加熱機構2或加熱絲8的每個單位長度的電阻比接觸件3、4的每個單位長度的電阻大至少10倍。接觸件3、4優選是具有足夠大直徑的圓柱銷，使得在每個接觸銷3、4的軸向長度上僅施加微小的電壓。由此，雖然接觸銷3、4的軸向長度不同，但是在接觸銷3、4的固定有加熱機構2.1至2.4的端面上卻設置有相同的電位。在加熱機構2的空心的螺旋線圈中插入接觸銷3的直徑變小的接觸部段。
[0032]前述實施方式用于闡述由本申請中獲得的本實用新型，其至少通過以下技術特征組合相應獨立地改進現有技術，即:
[0033]一種設備，其特征在于，加熱件1.1、1.2的加熱機構2.1、2.2是等長的并且結構設計相同，第二加熱件1.2的接觸件3.2,4.2具有更小的間距A2并且比第一加熱件1.1的接觸件3.1、4.1更短。
[0034]—種設備,其特征在于,至少一個第三和/或第四加熱件1.3、1.4具有由一條或多條加熱絲構成的加熱機構2.3,2.4，具有橫向于一個或多個加熱面HpHyHyH4延伸的接觸件3.3,3.4,4.3,4.4的加熱機構2.3,2.4的端部與位于一個或多個相互間且相對于加熱面H1^H2,H3^H4平行的接觸面KpK2中的接觸板5、6相連接，其中，第三和/或第四加熱件1.3、
1.4與第一和第二加熱件1.1、1.2在接觸板5、6之間電氣并聯，其中，第三和/或第四加熱件1.3、1.4的加熱機構2.3,2.4是等長的并且設計得與第一和第二加熱件1.1、1.2的加熱機構2.1、2.2 —樣，其中，第三和/或第四加熱件1.3、1.4的接觸件3.3、3.4、4.3、4.4相互間具有更小的間距A3、A4并且比第二加熱件1.2的接觸件3.2,4.2更短。
[0035]一種設備，其特征在于，所有在接觸板5、6之間電氣并聯的加熱機構2.1、2.2、
2.3、2.4是等長的并且具有相同的設計，其中加熱件1.2、1.3、1.4的加熱機構2.2、2.3、2.4通過其端部部段7.2,7.3,7.4伸入配屬于相應加熱件的加熱面故、H2, H3> H4和配屬于相應接觸件的接觸面1^、1(2之間的間隙中，加熱件1.2,1.3、1.4的接觸件3.2,3.3,3.4,4.2,4.3、
4.4彼此間的間距比第一加熱件1.1的接觸件3.1,4.1的間距更小，在端部部段7.2,7.3、7.4 上連接著接觸件 3.2,3.3,3.4,4.2,4.3,4.4。
[0036]一種設備，其特征在于，加熱機構2.2,2.3,2.4的伸入間隙中的端部部段7.2、7.3,7.4的長度等于所屬的接觸件3.2,3.3,3.4,4.2,4.3,4.4至第一加熱件1.1的接觸件
3.1,4.1的距離。
[0037]一種設備，其特征在于，加熱機構2.1,2.2,2.3,2.4如此并排延伸并且如此通過配屬于它們的接觸件3.1,3.2,3.3,3.4,4.1,4.2,4.3,4.4與接觸板5、6相連接，使得當在接觸件上施加加熱電壓時，并排設置的加熱機構2.1、2.2、2.3、2.4由于熱變形而相互碰觸的碰觸位置處在相同的電位上。
[0038]一種設備，其特征在于，加熱絲8由設置為螺旋線形狀的鎢絲構成，其中，尤其兩條或三條鎢絲相互平行延伸。
[0039]一種設備，其特征在于，加熱機構2.1,2.2,2.3,2.4在相應的加熱面H1至H4中沿弧線延伸。
[0040]一種設備，其特征在于，所述設備具有基本上圓形的平面圖或基礎輪廓。
[0041]所有公開的特征(本身及其相互組合)都有實用新型意義或實用新型價值。在本申請的公開文件中，所屬/附屬的優先權文本(在先申請文件)的公開內容也被完全包括在內，為此也將該優先權文本中的特征納入本申請的權利要求書中。從屬權利要求的特征都是對于現有技術有獨立實用新型意義或價值的改進設計，尤其可以這些從屬權利要求為基礎提出分案申請。
[0042]附圖標記列表
[0043]I 加熱件
[0044]2 加熱機構
[0045]3 接觸件
[0046]4 接觸件
[0047]5 接觸板
[0048]6 接觸板
[0049]7 端部部段
[0050]8 加熱絲
[0051]9 加熱絲支架
[0052]10 CVD 反應器
[0053]11進氣機構
[0054]12 基座
[0055]13 處理室
[0056]14加熱裝置
[0057]15加熱裝置
[0058]16加熱裝置
【權利要求】
1.一種用于加熱CVD反應器的基座的設備，具有至少一個第一加熱件(1.1)和至少一個第二加熱件(1.2)，其中，每個加熱件(1.1、1.2)具有由一條或多條加熱絲(8)構成的加熱機構(2.1,2.2)，其中，所述加熱機構(2.1,2.2)位于共同的加熱面中或多個相互平行的加熱面(HpH2)中，并且具有橫向于所述加熱面(HpH2)延伸的接觸件(3.1,4.1,3.2,4.2)的所述加熱機構(2.1,2.2)的端部分別與位于平行于所述加熱面(HpH2)的接觸面(KpK2)中的接觸板(5、6)相連接，其中，所述接觸件(3.1、3.2、4.1,4.2)如此并排安置在所述接觸面(KpK2)中，使得所述加熱件(1.1、1.2)在所述接觸板(5、6)之間電氣并聯，其特征在于，所述加熱件(1.1、1.2)的加熱機構(2.1,2.2)是等長的并且具有相同的電阻，所述第二加熱件(1.2)的接觸件(3.2、4.2)相互間具有間距(A2)，該間距(A2)小于所述第一加熱件(1.D的接觸件(3.1,4.1)的間距(A1)，并且所述第二加熱件(1.2)的接觸件(3.2,4.2)比所述第一加熱件(1.D的接觸件(3.1、4.1)更短。
2.如權利要求1所述的設備，其特征在于，至少一個第三和/或第四加熱件(1.3、1.4)具有由一條或多條加熱絲構成的加熱機構(2.3、2.4)，具有橫向于加熱面(HpHyHyH4)延伸的接觸件(3.3,3.4,4.3,4.4)的所述加熱機構(2.3,2.4)的端部分別與接觸板(5、6)相連接，其中，所述第三和/或第四加熱件(1.3、1.4)與所述第一和第二加熱件(1.1,1.2)在所述接觸板(5、6)之間電氣并聯，其中，所述第三和/或第四加熱件(1.3、1.4)的加熱機構(2.3,2.4)是等長的并且設計得與所述第一和第二加熱件(1.1、1.2)的加熱機構(2.1、2.2) —樣并且具有相同的電阻，其中，所述第三和/或第四加熱件(1.3、1.4)的接觸件(3.3,3.4,4.3,4.4)相互間具有更小的間距(A3、A4)，并且所述第三和/或第四加熱件(1.3、1.4)的接觸件(3.3、3.4、4.3、4.4)比所述第二加熱件(1.2)的接觸件(3.2,4.2)更短。
3.如權利要求2所述的設備，其特征在于，所有在所述接觸板(5、6)之間電氣并聯的加熱機構(2.1,2.2,2.3,2.4)具有等長的并且電氣方面設計相同的加熱機構(2.1,2.2,2.3、2.4)，其中，所述加熱件(1.2、1.3、1.4)的加熱機構(2.2、2.3、2.4)通過其端部部段(7.2、7.3,7.4)伸入配屬于相應加熱件的加熱面(氏、H2, H3> H4)和配屬于相應接觸件的接觸面(H2)之間的間隙中，所述加熱件(1.2、1.3、1.4)的接觸件(3.2,3.3,3.4,4.2,4.3,4.4)彼此間的間距比所述第一加熱件(1.1)的接觸件(3.1,4.1)的間距更小，所述接觸件(3.2、3.3,3.4,4.2,4.3,4.4)連接在所述端部部段(7.2,7.3,7.4)上。
4.如權利要求3所述的設備，其特征在于，所述加熱機構(2.2、2.3、2.4)的伸入所述間隙中的端部部段(7.2,7.3,7.4)的長度等于所屬的接觸件(3.2,3.3,3.4,4.2,4.3,4.4)至所述第一加熱件(1.D的接觸件(3.1、4.1)的距離。
5.如權利要求2所述的設備，其特征在于，所述加熱機構(2.1、2.2、2.3、2.4)如此并排延伸并且如此通過配屬于所述加熱機構的接觸件(3.1,3.2,3.3,3.4,4.1,4.2,4.3,4.4)與所述接觸板(5、6)相連接，使得當在所述接觸件上施加加熱電壓時，并排設置的加熱機構(2.1、2.2、2.3、2.4)由于熱變形而可能相互碰觸的觸碰部位處于相同的電位上。
6.如權利要求1所述的設備，其特征在于，所述加熱絲(8)由至少一條設置為螺旋線形狀的鎢絲構成。
7.如權利要求6所述的設備，其特征在于，兩條或三條鎢絲相互平行延伸。
8.如權利要求2所述的設備，其特征在于，所述加熱機構(2.1,2.2,2.3,2.4)在相應的加熱面餌至抑中沿弧線延伸。
9.如權利要求1所述的設備，其特征在于，所述設備具有基本上圓形的平面圖或基礎輪廓。
【文檔編號】C23C16/46GK204162787SQ201420245938
【公開日】2015年2月18日 申請日期:2014年5月14日 優先權日:2013年11月26日
【發明者】P-A.伯丁, K.艾倫 申請人:艾克斯特朗歐洲公司