薄膜電容器端子專用鑄焊合金組合物的制作方法
【專利摘要】一種薄膜電容器端子專用鑄焊合金組合物，其特征在于，是由以下質量百分比的組分構成：錫0.6-0.8％、鈦0.2-0.4％、釔0.02-0.03％、金屬銦0.006-0.007％、其余組分銅。本發明對傳統鑄焊合金的配方進行了優化，錫含量控制在0.6-0.8％之間，另外添加了0.2-0.4％的金屬鈦，保證合金流動性的同時，降低生產成本，提高耐腐性。
【專利說明】薄膜電容器端子專用鑄焊合金組合物
【技術領域】
[0001] 本發明涉及合金材料【技術領域】，具體涉及一種薄膜電容器端子專用鑄焊合金組合 物。
【背景技術】
[0002] 薄膜電容器是一種性能優越的電容器，其具有如下主要特性：無極性，絕緣阻抗很 高，頻率特性優異（頻率響應寬廣），介質損失很小，并且體積小容量大。因此，薄膜電容 器有著較為廣泛的用途，可以形成不同的系列產品，如高比能儲能電容器、抗電磁干擾電容 器、抗輻射電容器、安全膜電容器、長壽命電容器、高可靠電容器、高壓全膜電容器等。薄膜 電容器的結構形式主要有二種：一種結構形式是以金屬箔當電極，將金屬箔和塑料薄膜層 疊后卷繞在一起而制成；薄膜電容器的另一種結構形式，是采用金屬化薄膜來制作，金屬化 薄膜是由塑料薄膜上真空蒸鍍上一層很薄的金屬構成，該層金屬被用來作為電極，即相當 于傳統薄膜電容器的金屬箔；采用金屬化薄膜來制作薄膜電容器，可以省去電極箔的厚度， 進一步縮小電容器單位容量的體積，所以該種方式較容易制成體積小、容量大的電容器。傳 統的鑄焊端子用合金材料流動性能差，易腐蝕。
【發明內容】
[0003] 本發明所要解決的技術問題在于提供一種流動性好，耐腐蝕的薄膜電容器端子專 用鑄焊合金組合物。
[0004] 本發明所要解決的技術問題采用以下技術方案來實現：
[0005] -種薄膜電容器端子專用鑄焊合金組合物，是由以下質量百分比的組分構成：
【權利要求】
1. 一種薄膜電容器端子專用鑄焊合金組合物，其特征在于，是由以下質量百分比的組 分構成： 錫 0. 6-0. 8% 鈦 0. 2-0. 4% 令乙 0. 02-0. 03% 金試銦 〇. ()〇6-(). ()()7% 其余組分銅。
2. 根據權利要求1所述的薄膜電容器端子專用鑄焊合金組合物，其特征在于，是由以 下質量百分比的組分構成： 錫 0? 7% 鈦 0.3% 韋乙 0.025% 金屬銦0. 0065% 其余組分銅。
【文檔編號】C22C9/02GK104480343SQ201410697072
【公開日】2015年4月1日 申請日期:2014年11月26日 優先權日:2014年11月26日
【發明者】孔祥新 申請人:銅陵市新泰電容電器有限責任公司