薄膜形成裝置制造方法

薄膜形成裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種薄膜形成裝置，減少因蒸發(fā)物質(zhì)從收納于真空容器的基板保持部件和真空容器內(nèi)壁之間的間隙迂回進(jìn)入而引起的真空容器內(nèi)的污染和異物混入。薄膜形成裝置（1）具備：真空容器（2）；基板保持部件（10），其收納于真空容器內(nèi)，用于保持基板（K）；和蒸鍍?cè)矗?），其配置于基板保持部件（10）的下方位置。在基板保持部件（10）的外周下端部和真空容器內(nèi)壁之間的間隙設(shè)置有防附著遮護(hù)部（20）。防附著遮護(hù)部（20）由配置于基板保持部件（10）的外周下端部的第1防附著遮護(hù)部（21）、和配置于真空容器的內(nèi)壁面的第2防附著遮護(hù)部（22）構(gòu)成。第1防附著遮護(hù)部配置成在上下方向上至少一部分與第2防附著遮護(hù)部重疊。
【專利說(shuō)明】薄膜形成裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本實(shí)用新型涉及薄膜形成裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在過(guò)去，已知有各種各樣的薄膜形成裝置，在所述薄膜形成裝置中，在真空容器內(nèi)具備:蒸鍍?cè)?，其使蒸發(fā)物質(zhì)蒸發(fā)；以及基板保持部件，其配置于蒸鍍?cè)吹纳戏?，用于保持基板，使通過(guò)蒸鍍?cè)炊舭l(fā)的蒸發(fā)材料附著在基板表面(例如參照專利文獻(xiàn)I)。
[0003]在專利文獻(xiàn)I的真空成膜裝置中，在真空容器的內(nèi)壁面安裝有防附著板，以減少利用蒸鍍?cè)炊舭l(fā)的成膜材料附著在真空容器內(nèi)壁面的情況。
[0004]并且，為了避免在真空容器內(nèi)成膜材料從基板保持器和真空容器內(nèi)壁之間的間隙迂回進(jìn)入，利用升降構(gòu)件使基板保持器下降，使基板保持器210與防附著板220接觸來(lái)阻塞間隙，在此基礎(chǔ)上，使成膜材料附著到基板。
[0005]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，能夠減少真空容器內(nèi)的內(nèi)壁和頂板的污染以及異物混入的發(fā)生。
[0006]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)1:日本專利公開(kāi)2008-248319號(hào)公報(bào)
[0008]然而，在專利文獻(xiàn)I那樣的真空成膜裝置中，能夠減少成膜材料從基板保持部件和真空容器內(nèi)壁之間的間隙迂回進(jìn)入，但在基板保持部件設(shè)置升降構(gòu)件等、真空成膜裝置的結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜，并且，由于使基板保持部件和防附著部件接觸，因而耐久性差。
[0009]因此，在真空容器內(nèi)以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)緊湊地配置防附著部件，如何減少蒸發(fā)物質(zhì)從基板保持部件和真空容器內(nèi)壁之間的間隙迂回進(jìn)入是很重要的。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0010]因此，本實(shí)用新型正是鑒于上述問(wèn)題而完成的，本實(shí)用新型的目的在于提供一種薄膜形成裝置，利用簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)，減少因蒸發(fā)物質(zhì)從收納于真空容器的基板保持部件和真空容器內(nèi)壁之間的間隙迂回進(jìn)入而引起的真空容器內(nèi)的污染和異物混入，實(shí)現(xiàn)排氣劣化的減輕和維護(hù)性的提高。
[0011]根據(jù)本實(shí)用新型的薄膜形成裝置通過(guò)以下內(nèi)容解決了上述課題，提供一種薄膜形成裝置，其具備:真空容器；基板保持部件，其收納于該真空容器內(nèi)，用于保持基板；以及蒸鍍?cè)矗渑渲糜谠摶灞３植考南路轿恢?，在所述薄膜形成裝置中，在所述基板保持部件的外周下端部和所述真空容器的內(nèi)壁之間的間隙設(shè)置有防附著遮護(hù)部，該防附著遮護(hù)部具備第I防附著遮護(hù)部和第2防附著遮護(hù)部，所述第I防附著遮護(hù)部配置于所述基板保持部件的外周下端部，并向所述真空容器的內(nèi)壁側(cè)延伸，所述第2防附著遮護(hù)部配置于所述真空容器的內(nèi)壁面，并向所述第I防附著遮護(hù)部側(cè)延伸，所述第I防附著遮護(hù)部配置成在上下方向上至少一部分與所述第2防附著遮護(hù)部重疊。
[0012]由于如上述那樣構(gòu)成，因此，能夠利用在真空容器內(nèi)設(shè)置第I防附著遮護(hù)部和第2防附著遮護(hù)部這樣的簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)，來(lái)防止在真空容器內(nèi)蒸發(fā)物質(zhì)從基板保持部件的外周下端部和真空容器的內(nèi)壁之間的間隙迂回進(jìn)入。因此，能夠減少真空容器內(nèi)的污染和異物混入，能夠?qū)崿F(xiàn)排氣劣化的減輕和維護(hù)性的提高。
[0013]并且，可以構(gòu)成為，所述第I防附著遮護(hù)部具備傾斜部，所述傾斜部朝向所述真空容器的內(nèi)壁側(cè)突出，并相對(duì)于水平方向向下方傾斜。
[0014]而且，可以構(gòu)成為，所述傾斜部的傾斜面與水平面所成的角度為45°。
[0015]由于如上述那樣構(gòu)成，因此，當(dāng)從蒸鍍?cè)凑舭l(fā)的蒸發(fā)物質(zhì)朝向在基板保持部件固定的基板進(jìn)行附著時(shí)，能夠利用第I防附著遮護(hù)部的傾斜部使偏離至比基板保持部件靠真空容器內(nèi)壁側(cè)的位置的蒸發(fā)材料高效率地附著在傾斜部，能夠進(jìn)一步防止蒸發(fā)材料迂回進(jìn)入到基板保持部件和真空容器內(nèi)壁之間的間隙。
[0016]并且，可以構(gòu)成為，所述第I防附著遮護(hù)部具備豎直部，所述豎直部配置于所述基板保持部件的外周外側(cè)，并比所述第2防附著遮護(hù)部的下端部向上方突出。
[0017]而且，可以構(gòu)成為，所述第2防附著遮護(hù)部具備比所述第I防附著遮護(hù)部向上方突出的第2豎直部。
[0018]由于如上述那樣構(gòu)成，因此，即使蒸發(fā)材料迂回進(jìn)入到基板保持部件和真空容器內(nèi)壁之間的間隙，豎直部和第2豎直部也能夠使迂回進(jìn)入的蒸發(fā)材料高效率地進(jìn)行附著，從而能夠進(jìn)一步防止蒸發(fā)材料附著在真空容器的頂板和內(nèi)壁而造成污染。
[0019]并且，可以構(gòu)成為，薄膜形成裝置具備旋轉(zhuǎn)軸，所述旋轉(zhuǎn)軸使所述基板保持部件繞沿上下方向的旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)，所述基板保持部件具備:旋轉(zhuǎn)保持部，其配置于該基板保持部件的上端，用于保持所述旋轉(zhuǎn)軸；環(huán)部，其配置于所述基板保持部件的外周下端部的下端面；以及連結(jié)支承部，其連結(jié)所述旋轉(zhuǎn)保持部和所述環(huán)部，所述第I防附著遮護(hù)部安裝于所述環(huán)部。
[0020]而且，可以構(gòu)成為，所述第I防附著遮護(hù)部具備:內(nèi)側(cè)立起部，其安裝于所述環(huán)部的內(nèi)側(cè)面；作為所述豎直部的外側(cè)豎直部，其安裝于所述環(huán)部的外側(cè)面，并與所述內(nèi)側(cè)立起部對(duì)置；以及水平部，其安裝于所述環(huán)部的下端面，并將所述內(nèi)側(cè)立起部和所述外側(cè)豎直部的下端彼此連結(jié)起來(lái)，該水平部向所述真空容器的內(nèi)壁側(cè)伸出，在所述水平部的伸出端部安裝有所述傾斜部。
[0021]而且，可以構(gòu)成為，所述第2防附著遮護(hù)部由安裝于所述真空容器的內(nèi)壁面的第2水平部、和安裝于該第2水平部的上表面的所述第2豎直部構(gòu)成，所述第I防附著遮護(hù)部的所述傾斜部和所述第2防附著遮護(hù)部的所述第2水平部在所述真空容器寬度方向相互接近。
[0022]由于如上述那樣構(gòu)成，因此，即使是具備基板保持部件、且該基板保持部件具有連結(jié)旋轉(zhuǎn)軸保持部和環(huán)部的多個(gè)連結(jié)支承部的薄膜形成裝置，通過(guò)設(shè)置上述那樣的防附著遮護(hù)部，能夠防止蒸發(fā)物質(zhì)從真空容器內(nèi)的基板保持部件和真空容器內(nèi)壁之間的間隙迂回進(jìn)入，能夠?qū)崿F(xiàn)排氣劣化的減輕和維護(hù)性的提高。
[0023]實(shí)用新型效果
[0024]根據(jù)本實(shí)用新型的薄膜形成裝置，利用簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)，減少了因蒸發(fā)物質(zhì)從收納于真空容器的基板保持部件和真空容器內(nèi)壁之間的間隙迂回進(jìn)入而引起的真空容器內(nèi)的污染和異物混入，實(shí)現(xiàn)了排氣劣化的減輕和維護(hù)性的提高?！緦＠綀D】

【附圖說(shuō)明】
[0025]圖1為表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式的薄膜形成裝置的設(shè)備結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0026]圖2為圖1的示意圖中的、防附著遮護(hù)部的主要部分放大圖。
[0027]圖3為表示圖2中的防附著遮護(hù)部的變形例的圖(其I)。
[0028]圖4為表示圖2中的防附著遮護(hù)部的變形例的圖(其2)。
[0029]圖5為表示圖2中的防附著遮護(hù)部的變形例的圖(其3)。
[0030]圖6為表示本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式的薄膜形成裝置的設(shè)備結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0031]圖7為圖6的示意圖中的、防附著遮護(hù)部的主要部分放大圖。
[0032]圖8為表示圖7中的防附著遮護(hù)部的變形例的圖(其I)。
[0033]圖9為表示圖7中的防附著遮護(hù)部的變形例的圖(其2)。
[0034]圖10為表示圖7中的防附著遮護(hù)部的變形例的圖(其3)。
[0035]標(biāo)號(hào)說(shuō)明
[0036]1、101:薄膜形成裝置；
[0037]2:真空容器；
[0038]2a:間隙；
[0039]3:蒸鍍?cè)矗?br> [0040]4:離子源；
[0041]5:中和器；
[0042]10、110:基板保持部件；
[0043]11:保持部件主體；
[0044]12:旋轉(zhuǎn)軸保持部；
[0045]13:環(huán)部；
[0046]14:連結(jié)支承部；
[0047]15:旋轉(zhuǎn)軸；
[0048]20、30、40、50、120、130、140、150:防附著遮護(hù)部；
[0049]21、31、41、51、121、131、141、151:第 I 防附著遮護(hù)部；
[0050]21a:內(nèi)側(cè)立起部；
[0051]21b、121b:外側(cè)豎直部；
[0052]21c、121c:水平部；
[0053]2Id:傾斜部；
[0054]22、32、42、52、122、132、142、152:第 2 防附著遮護(hù)部；
[0055]22a、122a:第 2 水平部；
[0056]22b、122b:第 2 豎直部；
[0057]K:基板。
【具體實(shí)施方式】
[0058]本實(shí)用新型的特征性結(jié)構(gòu)為一種薄膜形成裝置，其具備:真空容器；基板保持部件，其收納于該真空容器內(nèi)，用于保持基板；以及蒸鍍?cè)矗渑渲糜谠摶灞３植考南路轿恢?，在基板保持部件的外周下端部和真空容器?nèi)壁之間的間隙設(shè)置有防附著遮護(hù)部，防附著遮護(hù)部由配置于基板保持部件的外周下端部的第I防附著遮護(hù)部、和配置于真空容器的內(nèi)壁面的第2防附著遮護(hù)部構(gòu)成，第I防附著遮護(hù)部配置成在上下方向上至少一部分與第2防附著遮護(hù)部重疊。
[0059]下面，參照附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式的薄膜形成裝置I進(jìn)行說(shuō)明。
[0060]薄膜形成裝置I是具備通過(guò)真空蒸鍍法在基板K形成膜的離子輔助設(shè)備的薄膜形成裝置，如圖1所示，薄膜形成裝置I主要由以下部分構(gòu)成:真空容器2 ;蒸鍍?cè)?、離子源4和中和器5，它們收納于真空容器2內(nèi)的下方；基板保持部件10，其收納于真空容器2內(nèi)的上方；以及防附著遮護(hù)部20，其設(shè)置于真空容器2的內(nèi)壁和基板保持部件10之間。
[0061]真空容器2是由大致圓筒形狀形成的公知的金屬制成的容器，真空容器2構(gòu)成為，真空容器2內(nèi)的空氣通過(guò)未圖示的真空泵等排氣裝置排出到容器外。
[0062]蒸鍍?cè)?使蒸發(fā)材料蒸鍍于基板K，以在基板K形成薄膜。
[0063]蒸鍍?cè)?是通常在公知的真空蒸鍍裝置中使用的蒸鍍?cè)?，例如，列舉有利用電子束對(duì)在未圖示的坩堝中保持的蒸發(fā)材料進(jìn)行加熱而使其蒸發(fā)的電子束蒸鍍裝置等。
[0064]離子源4朝向基板K放出離子束，從反應(yīng)氣體(例如O2)或稀有氣體(例如Ar)的等離子體中引出帶電的離子(02+、Ar+)，并利用加速電圧進(jìn)行加速而射出離子。離子源4由公知的結(jié)構(gòu)構(gòu)成。
[0065]中和器5朝向基板K放出電子(e —)，在基板K表面附著的離子被中和。中和器5由公知的結(jié)構(gòu)構(gòu)成。
[0066]基板保持部件10保持基板K，基板保持部件10由大致圓頂形狀的金屬制成的部件形成，基板保持部件10被保持成在真空容器2內(nèi)能夠繞豎直軸旋轉(zhuǎn)。
[0067]基板保持部件10由以下部分構(gòu)成:保持部件主體11 ;旋轉(zhuǎn)軸保持部12，其配置于保持部件主體11的上端；環(huán)部13，其配置于保持部件主體11的下端；以及多個(gè)連結(jié)支承部14，它們將旋轉(zhuǎn)軸保持部12和環(huán)部13連結(jié)起來(lái)。
[0068]保持部件主體11由下端為開(kāi)口端的大致圓頂形狀形成，多個(gè)基板K以成膜面朝下的方式支承于保持部件主體11的底面。另外，保持部件主體11的形狀也可以變更為大致圓錐圓頂形狀、大致棱錐圓頂形狀等適當(dāng)形狀。
[0069]旋轉(zhuǎn)軸保持部12由大致圓筒形狀形成，其保持旋轉(zhuǎn)軸15的下端部。旋轉(zhuǎn)軸15貫通真空容器2上壁并沿豎直方向配置，通過(guò)利用從未圖示的驅(qū)動(dòng)裝置將驅(qū)動(dòng)力傳遞至該旋轉(zhuǎn)軸15，旋轉(zhuǎn)軸15與基板保持部件10 —起旋轉(zhuǎn)。
[0070]環(huán)部13由大致環(huán)形狀形成，環(huán)部13與連結(jié)支承部14組合而支承基板保持部件10的外周部。環(huán)部13固定于保持部件主體11的外周部下端的底面，比保持部件主體11向真空容器2內(nèi)壁側(cè)突出。
[0071]連結(jié)支承部14由大致-字形狀形成，連結(jié)支承部14構(gòu)成為，從旋轉(zhuǎn)軸保持部12朝向真空容器2內(nèi)壁側(cè)延伸，在環(huán)部13的上方位置向環(huán)部13側(cè)彎曲，并與環(huán)部上表面連結(jié)。構(gòu)成有多個(gè)連結(jié)支承部14，多個(gè)連結(jié)支承部14從旋轉(zhuǎn)軸保持部12以呈放射狀地隔開(kāi)預(yù)定間隔的方式呈放射狀地延伸，并分別與環(huán)部13上表面連結(jié)。
[0072]基板保持部件10構(gòu)成為，連結(jié)成利用旋轉(zhuǎn)軸保持部12夾持旋轉(zhuǎn)軸15，并且，使基板保持部件10的外周部分經(jīng)由環(huán)部13和連結(jié)支承部14與旋轉(zhuǎn)軸15連結(jié)，因此，基板保持部件10能夠穩(wěn)定地與旋轉(zhuǎn)軸15 —體旋轉(zhuǎn)。[0073]防附著遮護(hù)部20是組合多個(gè)大致平板形狀的金屬制成的防附著板而形成的，防止蒸發(fā)物質(zhì)附著在真空容器2的內(nèi)壁和頂板。具體來(lái)說(shuō)，使在真空容器2內(nèi)壁和基板保持部件10之間形成的間隙2a盡量小來(lái)防止蒸發(fā)物質(zhì)的迂回進(jìn)入。另外，優(yōu)選在防附著遮護(hù)部20的外表面進(jìn)行噴砂處理等，使外表面整體被噴鍍膜覆蓋。
[0074]如圖2所示，防附著遮護(hù)部20主要由第I防附著遮護(hù)部21和第2防附著遮護(hù)部22構(gòu)成，該第I防附著遮護(hù)部21安裝于基板保持部件10的外周下端部，并向真空容器2的內(nèi)壁面?zhèn)妊由?，該?防附著遮護(hù)部22安裝于真空容器2的內(nèi)壁面，并向基板保持部件10側(cè)延伸。第I防附著遮護(hù)部21配置成至少一部分與第2防附著遮護(hù)部22重疊。
[0075]第I防附著遮護(hù)部21由上端為開(kāi)口端的截面呈大致F字形狀的長(zhǎng)條體構(gòu)成，并被安裝成沿著環(huán)部13的圓周方向從下方覆蓋環(huán)部13。
[0076]具體來(lái)說(shuō)，第I防附著遮護(hù)部21被設(shè)置成多個(gè)環(huán)分割體，該環(huán)分割體是將沿著環(huán)部13的形狀形成的大致環(huán)形狀在圓周方向以預(yù)定間隔進(jìn)行分割而成的。另外，本實(shí)施方式的第I防附著遮護(hù)部21為在圓周方向分割成6部分而得到的環(huán)分割體。
[0077]第I防附著遮護(hù)部21由以下部分構(gòu)成:內(nèi)側(cè)立起部21a，其安裝于環(huán)部13的靠基板保持部件10中心側(cè)的內(nèi)壁面；外側(cè)豎直部21b，其安裝于環(huán)部13的外壁面；水平部21c，其安裝于環(huán)部13的底壁面；以及傾斜部21d，其安裝于水平部21c下端面。
[0078]內(nèi)側(cè)立起部21a和外側(cè)豎直部21b在上下方向配置在對(duì)置的位置，水平部21c將內(nèi)側(cè)立起部21a和外側(cè)豎直部21b的下端部彼此連結(jié)起來(lái)，并朝向真空容器2內(nèi)壁側(cè)伸出。
[0079]內(nèi)側(cè)立起部21a為沿著環(huán)部13的內(nèi)壁面形成的長(zhǎng)條體，為了與環(huán)部13的形狀吻合，內(nèi)側(cè)立起部21a為越位于基板保持部件10的環(huán)部13下端側(cè)其外緣越大的錐形狀。
[0080]外側(cè)豎直部21b為沿著環(huán)部13的外壁面形成的長(zhǎng)條體，并與環(huán)部13的形狀對(duì)應(yīng)地大致豎直地延伸。
[0081]水平部21c為沿著環(huán)部13的底壁面形成的長(zhǎng)條體，水平部21c形成為，從內(nèi)側(cè)立起部21a下端部向真空容器2內(nèi)壁側(cè)延伸，并且比與外側(cè)豎直部21b下端部連結(jié)的部分進(jìn)一步向真空容器2內(nèi)壁側(cè)突出。在水平部21c的突出末端部分安裝有傾斜部21d。
[0082]傾斜部21d為在環(huán)部13的圓周方向較長(zhǎng)的部件，傾斜部21d朝向真空容器2內(nèi)壁側(cè)突出，并相對(duì)于水平方向以預(yù)定角度向下方傾斜地延伸。這時(shí)，優(yōu)選傾斜部21d的傾斜面與水平面所成的傾斜角度為45°，因?yàn)檫@樣的話，能夠高效率地使蒸發(fā)材料附著在傾斜部21d。
[0083]第2防附著遮護(hù)部22由截面呈大致T字形狀的大致環(huán)狀體形成，并沿著真空容器2的內(nèi)壁的圓周方向進(jìn)行安裝。
[0084]第2防附著遮護(hù)部22由第2水平部22a和第2豎直部22b構(gòu)成，該第2水平部22a安裝于真空容器2內(nèi)壁面，該第2豎直部22b從第2水平部22a外表面向上方立起設(shè)置。
[0085]第2水平部22a從真空容器2內(nèi)壁向基板保持部件10側(cè)延伸，并接近第I防附著遮護(hù)部21。第2水平部22a配置于比相當(dāng)于第I防附著遮護(hù)部21下端部的水平部21c靠上方的位置，并配置于比第I防附著遮護(hù)部21上端部靠下方的位置。
[0086]第2豎直部22b從第2水平部22a上表面向上方延伸，并延伸至比第I防附著遮護(hù)部21上端部靠上方的位置。
[0087]在上述的實(shí)施方式中，第I防附著遮護(hù)部21和第2防附著遮護(hù)部22以當(dāng)使一方沿上下方向移動(dòng)時(shí)不會(huì)互相干渉的位置關(guān)系進(jìn)行配置。具體來(lái)說(shuō)，為第I防附著遮護(hù)部21的傾斜部21d和第2防附著遮護(hù)部22的第2水平部22a接近的結(jié)構(gòu)。
[0088]因此，在進(jìn)行第I防附著遮護(hù)部21的更換、第2防附著遮護(hù)部22的更換、或者基板保持部件10的更換和維護(hù)的時(shí)候，當(dāng)使這些結(jié)構(gòu)部件沿上下方向移動(dòng)而卸下時(shí)，能夠容易地卸下結(jié)構(gòu)部件，并且能夠防止由結(jié)構(gòu)部件之間的接觸導(dǎo)致的損傷。
[0089]這樣，薄膜形成裝置I為這樣的結(jié)構(gòu):以考慮了部件更換和維護(hù)性的配置，將防附著遮護(hù)部20以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)緊湊地配置在真空容器2內(nèi)，減少蒸發(fā)物質(zhì)從真空容器2的內(nèi)壁和基板保持部件10之間的間隙2a迂回進(jìn)入。
[0090]因此，薄膜形成裝置I減少了真空容器內(nèi)的污染和異物混入，結(jié)果是能夠?qū)崿F(xiàn)排氣劣化的減輕和維護(hù)性的提高。
[0091]并且，關(guān)于第I防附著遮護(hù)部21，傾斜部21d的突出末端部分朝向真空容器2內(nèi)壁側(cè)相對(duì)于水平方向以預(yù)定角度向下方傾斜地延伸，因此，如圖1所示，當(dāng)從蒸鍍?cè)?蒸發(fā)的蒸發(fā)材料朝向基板K表面附著時(shí)，能夠使偏離至比基板保持部件10靠真空容器2內(nèi)壁側(cè)的位置的蒸發(fā)材料高效率地進(jìn)行附著。而且，即使蒸發(fā)材料迂回進(jìn)入到基板保持部件10和真空容器2內(nèi)壁之間的間隙2a，第I防附著遮護(hù)部21的外側(cè)豎直部21b和第2防附著遮護(hù)部22的第2豎直部22b也能夠使迂回進(jìn)入的蒸發(fā)材料高效率地進(jìn)行附著，因此，能夠很大程度地防止真空容器2的頂板和內(nèi)壁的污染。
[0092]如圖3至圖5所示，上述的實(shí)施方式的變形例也可以構(gòu)成為，具備使防附著遮護(hù)部20的形狀發(fā)生了變更而得到的防附著遮護(hù)部30、40、50，具體來(lái)說(shuō)是具備第I防附著遮護(hù)部31、41、51和第2防附著遮護(hù)部32、42、52。
[0093]接下來(lái)，對(duì)本實(shí)用新型的第2實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。另外，省略在薄膜形成裝置I中說(shuō)明過(guò)的內(nèi)容。
[0094]第2實(shí)施方式的薄膜形成裝置101與薄膜形成裝置I同樣，為通過(guò)真空蒸鍍法在基板K形成膜的薄膜形成裝置，并構(gòu)成為具備使防附著遮護(hù)部20的形狀發(fā)生了變更而得到的防附著遮護(hù)部120。
[0095]如圖3所示，薄膜形成裝置101主要由真空容器2、蒸鍍?cè)?、基板保持部件110和防附著遮護(hù)部120構(gòu)成。
[0096]如圖4所示，第I防附著遮護(hù)部121為截面呈大致T字形狀的長(zhǎng)條體，第I防附著遮護(hù)部121沿著基板保持部件110的外周下端部進(jìn)行安裝。
[0097]第I防附著遮護(hù)部121由水平部121c和外側(cè)豎直部121b構(gòu)成，該水平部121c安裝于基板保持部件110的下端部，該外側(cè)豎直部121b從水平部121c外表面向上方立起設(shè)置。
[0098]水平部121c形成為，向真空容器2內(nèi)壁側(cè)延伸，并比外側(cè)豎直部121b向真空容器2內(nèi)壁側(cè)突出。
[0099]外側(cè)豎直部121b從水平部121c向上方延伸，并延伸至比基板保持部件110的下端部靠上方的位置。
[0100]第2防附著遮護(hù)部122由截面呈大致T字形狀的大致環(huán)狀體構(gòu)成，并沿著真空容器2的內(nèi)壁的圓周方向進(jìn)行安裝。
[0101]第2防附著遮護(hù)部122由第2水平部122a和第2豎直部122b構(gòu)成，該第2水平部122a安裝于真空容器2內(nèi)壁面，該第2豎直部122b從第2水平部122a外表面向上方立起設(shè)置。
[0102]第2水平部122a從真空容器2內(nèi)壁向基板保持部件10側(cè)延伸，并接近第I防附著遮護(hù)部121。第2水平部122a配置于比相當(dāng)于第I防附著遮護(hù)部121下端部的水平部121c靠下方的位置。
[0103]第2豎直部122b從第2水平部122a向上方延伸，并延伸至比第I防附著遮護(hù)部121下端部靠上方的位置，而且是延伸至比第I防附著遮護(hù)部121上端部靠下方的位置。
[0104]在第2實(shí)施方式的薄膜形成裝置101中，與薄膜形成裝置I相比，以更緊湊的結(jié)構(gòu)配置基板保持部件110和防附著遮護(hù)部120，能夠減少蒸發(fā)物質(zhì)從真空容器2的內(nèi)壁和基板保持部件110之間的間隙2a迂回進(jìn)入。
[0105]如圖8至圖10所示，第2實(shí)施方式的變形例也可以構(gòu)成為，具備使防附著遮護(hù)部120的形狀發(fā)生了變更而得到的防附著遮護(hù)部130、140、150，具體來(lái)說(shuō)是具備第I防附著遮護(hù)部131、141、151和第2防附著遮護(hù)部132、142、152。
[0106]上述的實(shí)施方式只不過(guò)是用于使本實(shí)用新型容易理解的一個(gè)例子，并不限定本實(shí)用新型。當(dāng)然，本實(shí)用新型在不脫離其主旨的情況下能夠進(jìn)行變更、改良，并且，本實(shí)用新型包括其等效物。
【權(quán)利要求】
1.一種薄膜形成裝置，其具備:真空容器；基板保持部件，其收納于該真空容器內(nèi)，用于保持基板；以及蒸鍍?cè)?，其配置于該基板保持部件的下方位置? 所述薄膜形成裝置的特征在于， 在所述基板保持部件的外周下端部和所述真空容器的內(nèi)壁之間的間隙設(shè)置有防附著遮護(hù)部， 該防附著遮護(hù)部具備第I防附著遮護(hù)部和第2防附著遮護(hù)部，所述第I防附著遮護(hù)部配置于所述基板保持部件的外周下端部，并向所述真空容器的內(nèi)壁側(cè)延伸，所述第2防附著遮護(hù)部配置于所述真空容器的內(nèi)壁面，并向所述第I防附著遮護(hù)部側(cè)延伸， 所述第I防附著遮護(hù)部配置成在上下方向上至少一部分與所述第2防附著遮護(hù)部重疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜形成裝置，其特征在于， 所述第I防附著遮護(hù)部具備傾斜部，所述傾斜部朝向所述真空容器的內(nèi)壁側(cè)突出，并相對(duì)于水平方向向下方傾斜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜形成裝置，其特征在于， 所述傾斜部的傾斜面與水平面所成的角度為45°。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的薄膜形成裝置，其特征在于， 所述第I防附著遮護(hù)部具備豎直部，所述豎直部配置于所述基板保持部件的外周外偵牝并比所述第2防附著遮·護(hù)部的下端部向上方突出。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的薄膜形成裝置，其特征在于， 所述第2防附著遮護(hù)部具備比所述第I防附著遮護(hù)部向上方突出的第2豎直部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜形成裝置，其特征在于， 所述薄膜形成裝置具備旋轉(zhuǎn)軸，所述旋轉(zhuǎn)軸使所述基板保持部件繞沿上下方向的旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)， 所述基板保持部件具備:旋轉(zhuǎn)保持部，其配置于該基板保持部件的上端，用于保持所述旋轉(zhuǎn)軸；環(huán)部，其配置于所述基板保持部件的外周下端部的下端面；以及連結(jié)支承部，其連結(jié)所述旋轉(zhuǎn)保持部和所述環(huán)部， 所述第I防附著遮護(hù)部安裝于所述環(huán)部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的薄膜形成裝置，其特征在于， 所述第I防附著遮護(hù)部具備:內(nèi)側(cè)立起部，其安裝于所述環(huán)部的內(nèi)側(cè)面；作為所述豎直部的外側(cè)豎直部，其安裝于所述環(huán)部的外側(cè)面，并與所述內(nèi)側(cè)立起部對(duì)置；以及水平部，其安裝于所述環(huán)部的下端面，并將所述內(nèi)側(cè)立起部和所述外側(cè)豎直部的下端彼此連結(jié)起來(lái)， 該水平部向所述真空容器的內(nèi)壁側(cè)伸出， 在所述水平部的伸出端部安裝有所述傾斜部。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜形成裝置，其特征在于， 所述第2防附著遮護(hù)部由安裝于所述真空容器的內(nèi)壁面的第2水平部、和安裝于該第2水平部的上表面的所述第2豎直部構(gòu)成， 所述第I防附著遮護(hù)部的所述傾斜部和所述第2防附著遮護(hù)部的所述第2水平部在所述真空容器寬度方向相互接近。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的薄膜形成裝置，其特征在于，所述第2防附著遮護(hù)部由安裝于所述真空容器的內(nèi)壁面的第2水平部、和安裝于該第2水平部的上表面的所述第2豎直部構(gòu)成， 所述第I防附著遮護(hù)部的所述傾斜部和所述第2防附著遮護(hù)部的所述第2水平部在所述真空容器寬度方向相互接近。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的薄膜形成裝置，其特征在于， 所述第2防附著遮護(hù)部由安裝于所述真空容器的內(nèi)壁面的第2水平部、和安裝于該第2水平部的上表面的所述第2豎直部構(gòu)成， 所述第I防附著遮護(hù)部的所述傾斜部和所述第2防附著遮護(hù)部的所述第2水平部在所述真空容器寬度方向相互接近。
【文檔編號(hào)】C23C14/30GK203498464SQ201320649172
【公開(kāi)日】2014年3月26日 申請(qǐng)日期:2013年10月21日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月21日
【發(fā)明者】渡邊健, 村田尊則, 清水匡之 申請(qǐng)人:株式會(huì)社新柯隆