紐扣的拋光方法
【專利摘要】本發明公開了一種紐扣的拋光方法，在雙聯渦流拋光機內放入高頻瓷粒、待拋光紐扣、硅砂粉、化學拋光劑，加水浸沒上述物料；待拋光紐扣與高頻瓷粒的質量比1∶2-1∶7，硅砂粉、化學拋光劑的添加量分別為固體物料總質量的2%-7%、0.5%-1.5%；所述高頻瓷粒的尺寸為2.5×8.0mm或3×3mm；設定第一拋光時間，渦流拋光機的轉速為100-180轉/分鐘；根據第一次拋光效果，設定第二次拋光時間，至紐扣光澤度滿足要求，清洗紐扣。本發明所述紐扣的拋光方法，拋光效率較傳統方法拋光效率提高了3～4倍，拋光效果更加穩定，縮短了生產工期，降低了人工成本和員工勞動強度，且所制得的紐扣外觀優良。
【專利說明】紐扣的拋光方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及紐扣生產制造【技術領域】，特別是涉及一種紐扣的拋光方法。
【背景技術】
[0002]隨著人們審美觀點的變化和服裝制造技術的不斷發展，紐扣的裝飾效果和功能性要求也越來越廣泛。不飽和聚酯紐、塑料紐、木紐、果實紐、貝殼紐和金屬鈕等，各種材質的紐扣被廣泛應用；澆片、制棍、注塑、滴膠等多種制紐工藝層出不窮。拋光是紐扣生產過程中的一個重要工序，拋光效率和拋光效果對生產周期和光飾效果及噴油等后加工處理產生重要影響。
[0003]紐胚經車紐工序后，表面往往平整度不好，表面光澤不均勻，甚至有一些毛刺。傳統的紐扣拋光方法是采用滾筒拋光機進行水磨，利用拋光物料對紐扣表面的磨擦作用，將紐扣表面打磨光滑。對于高光澤的紐扣，則需要利用果殼糠、植物油、硅油或石蠟等進行干磨。滾筒拋光機的拋光效率較低，拋光耗時較長；水磨過程中，泡沫豐富，紐扣會漂浮起來，影響了拋光效果；水磨過程中需要多次清洗，自來水消耗量較大，造成水資源的浪費。
[0004]而目前，雙聯渦流拋光機主要使用于拋光金屬產品和工藝品，到目前為止還沒有使用到拋光非金屬鈕扣這個特別的行業；而直接將雙聯渦流拋光機替代滾筒拋光機，因為設備速度快，打磨力度大，所制得的紐扣尖角易被磨圓。
【發明內容】
[0005]基于此，本發明提供一種紐扣的拋光方法。
[0006]解決上述技術問題的具體技術方案如下:
[0007]一種紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0008](I)根據紐扣光澤度的要求，在雙聯渦流拋光機內放入高頻瓷粒、待拋光紐扣、硅砂粉、化學拋光劑，并加水浸沒上述物料；所述待拋光紐扣與高頻瓷粒的質量比為1:2-1:7,硅砂粉的添加量為固體物料總質量的1%_5%，化學拋光劑的添加量為固體物料總質量的0.5%-1.5% ;所述高頻瓷粒的尺寸為0 2.5*8.0mm或3*3mm ;所述固體物料是指上述除水之外的其余物料；
[0009](2)設定第一拋光時間，雙聯渦流拋光機的轉速為100-180轉/分鐘；
[0010](3)根據第一次拋光效果，設定第二次拋光時間，至紐扣光澤度滿足要求；
[0011](4)清洗紐扣。
[0012]在其中一些實施例中，步驟(I)所述化學拋光劑為蠟乳液、有機硅化合物、硬酯酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉或有機硅改性聚醚類表面活性劑中的一種或兩種以上的混合物。
[0013]在其中一些實施例中，所述化學拋光劑為主要由以下重量百分比的原料組成:蠟乳液75-84wt%，有機硅化合物4-6wt%和硬脂酸鈉12_19wt%。
[0014]在其中一些實施例中，步驟(I)所述硅砂粉的粒徑為150-400目。
[0015]在其中一些實施例中，步驟(2)所述第一拋光時間為2_6h，步驟(3)所述第二次拋光時間為0.5-1.5h。
[0016]在其中一些實施例中，一種紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0017](I)在雙聯渦流拋光機內放入高頻瓷粒、待拋光紐扣、硅砂粉、化學拋光劑，并加水浸沒上述物料；所述待拋光紐扣與高頻瓷粒的質量比為1:5-1:7，高頻瓷粒的尺寸為0
2.5*8.0mm，硅砂粉的添加量為固體物料總質量的3%_5%，粒徑為300-400目，化學拋光劑的添加量為固體物料總質量的1%_1.5%，所述化學拋光劑為棕櫚蠟或高密度氧化聚乙烯蠟的水乳液、有機硅化合物、硬酯酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉和有機硅改性聚醚類表面活性劑中的一種或幾種的混合物；
[0018](2)設定第一拋光時間5_6h，雙聯渦流拋光機的轉速為100-180轉/分鐘；
[0019](3)設定第二次拋光時間0.5-1.5h ;
[0020](4)清洗紐扣，得光澤度為大于80度的全光紐扣。
[0021]在其中一些實施例中，步驟(I)所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:巴西棕櫚蠟乳液75-84wt%，有機硅化合物4-6wt%和硬脂酸鈉12_19wt%。
[0022]在其中一些實施例中，步驟(I)所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:巴西棕櫚蠟乳液75-84wt%，DC-544-6wt%和硬脂酸鈉12_19wt%。
[0023]在其中一些實施例中，一種紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0024](I)在雙聯渦流拋光機內放入高頻瓷粒、待拋光紐扣、硅砂粉、化學拋光劑，并加水浸沒上述物料；所述待拋光紐扣與高頻瓷粒的質量比為1:4-1:5，高頻瓷粒的尺寸為3*3mm，硅砂粉的添加量為固體物料總質量的3%_4%，粒徑為150-300目，化學拋光劑的添加量為固體物料總質量的0.5%-1%，所述化學拋光劑為石蠟或低密度氧化聚乙烯蠟的水乳液、有機硅化合物、硬酯酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉和有機硅改性聚醚類表面活性劑中的一種或幾種的混合物；
[0025](2)設定第一拋光時間4_5h，雙聯渦流拋光機的轉速為100-180轉/分鐘；
[0026](3)設定第二次拋光時間0.5-lh ;
[0027](4)清洗紐扣，得光澤度80-30度的半啞光紐扣。
[0028]在其中一些實施例中，步驟(I)所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:低密度氧化聚乙烯蠟乳液75-84wt%，有機硅化合物4-6wt%和硬脂酸鈉12_19wt%。
[0029]在其中一些實施例中，步驟(I)所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:WE-215A75-84wt%，DC_514_6wt% 和硬脂酸鈉 12_19wt%。
[0030]在其中一些實施例中，一種紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0031](I)在雙聯渦流拋光機內放入高頻瓷粒、待拋光紐扣、硅砂粉、化學拋光劑，并加水浸沒上述物料；所述待拋光紐扣與高頻瓷粒的質量比為1:2-1:4，高頻瓷粒的尺寸為3*3mm，硅砂粉的添加量為固體物料總質量的2%_3%，粒徑為150-300目，化學拋光劑的添加量為固體物料總質量的0.5%-1%，所述化學拋光劑為石蠟或低密度氧化聚乙烯蠟的水乳液、有機硅化合物、硬酯酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉和有機硅改性聚醚類表面活性劑中的一種或幾種的混合物；
[0032](2)設定第一拋光時間2_4h，渦流拋光機的轉速為100-180轉/分鐘；
[0033](3)設定第二次拋光時間0.5-lh ;
[0034](4)清洗紐扣，得光澤度小于30度的全啞光紐扣。[0035]在其中一些實施例中，步驟(I)所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:低密度氧化聚乙烯蠟乳液75-84wt%，有機硅化合物4-6wt%和硬脂酸鈉12_19wt%。
[0036]在其中一些實施例中，步驟(I)所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:WE-215A75-84wt%，DC_514_6wt% 和硬脂酸鈉 12_19wt%。
[0037]本發明所述一種紐扣的拋光方法具有以下優點和有益效果:
[0038]( I)本發明所述紐扣的拋光方法，其拋光效率較傳統拋光方法的效率提高了 3?4倍，拋光效果更加穩定，縮短了生產工期，降低了人工成本和員工勞動強度，且所制得的紐扣外觀優良。
[0039](2)本發明采用雙聯渦流拋光機，利用機械性帶動渦流流動的原理，加快了物料的流動速度，增強了紐扣表面和磨料之間的作用力，從而提高了拋光效率。
[0040](3)本發明所述紐扣拋光方法中所用的拋光物料中還添加了化學拋光劑，該化學拋光劑的組分和含量是經發明人的大量實驗和研究確定的，其配合0 2.5*8.0mm或3*3mm的高頻瓷粒及適宜的雙聯渦流拋光機的轉速，不僅顯著增強了紐扣的光澤度，且有效消除和抑制水磨過程中的泡沫，還進一步提高了拋光效率和改善了紐扣的光飾效果。
[0041](4)本發明所述的紐扣拋光方法還針對紐扣的不同光澤度要求，設計了相應磨料配方，使得拋光效果更高，拋光效果更穩定。
[0042](5)本發明所述的紐扣拋光方法，其拋光過程中所用水為循環水或自來水，實現了拋光水的回收和重復利用，盡可能地做到能耗低，用料少的節能減排要求。
【具體實施方式】
[0043]以下將結合具體實施例對本發明做進一步說明。
[0044]下述實施例中所述雙聯渦流拋光機購自隆鑫研磨機械(東堯)有限公司；
[0045]所述巴西棕櫚蠟乳液購自東莞澳達化工有限公司；
[0046]所述DC-54、DC-51購自道康寧公司；
[0047]所述硬脂酸鈉購自常州市瓦屋山化工有限公司；
[0048]所述WE-215A購自上海新諾化工有限公司。
[0049]實施例1
[0050]一種光澤度為大于80度的全光紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0051](I)在雙聯渦流拋光機內放入30公斤，尺寸為0 2.5*8.0mm的高頻瓷粒、5公斤待拋光不飽和聚酯紐扣、1.8公斤粒徑為300-400目的硅砂粉，開機混合上述物料，同時向雙聯渦流拋光機中注入適量循環水或自來水浸沒上述物料，至使不飽和樹脂紐扣和拋光磨料在水的作用下流動起來，停機，將水位控制在高出物料I?3cm的位置，加入0.5公斤，所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:巴西棕櫚蠟乳液80wt%，DC-545wt%和硬脂酸鈉15wt% ；
[0052](2)設定第一拋光時間5h,雙聯潤流拋光機的轉速為160轉/分鐘，開始拋光，拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量的補充循環水或自來水；
[0053](3)第一次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入循環水或自來水，設定第二次拋光1.0小時；
[0054](4)清洗紐扣，倒出拋光機內所有物料，并篩分紐扣和磨料。[0055]實施例2
[0056]一種光澤度為30-80度的半啞光紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0057](I)依次向雙聯渦流拋光機內投入30公斤尺寸為3*3mm的高頻瓷粒、6公斤不飽和聚酯鈕和150?300目的硅砂粉I公斤。開機混合上述物料，同時向雙聯渦流機內注入適量的循環水或自來水浸沒上述物料，能夠使不飽和樹脂紐扣和拋光磨料在水的作用下流動起來，停機，將水位控制在高出拋光物料I?3cm的位置，加入化學拋光劑0.3公斤，所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:WE-215A80wt%，DC_515wt%和硬脂酸鈉15wt% ；
[0058](2)設定第一次拋光的時間為4.0小時,設定速度為160轉/分鐘,開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充循環水；
[0059](3)第一次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入循環水或自來水。設定第二次拋光時間為1.0小時；
[0060](4)清洗紐扣，倒出拋光機內所有物料，并篩分紐扣和磨料。
[0061]實施例3
[0062]一種光澤度為小于30度的全啞光紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0063](I)依次向雙聯潤流拋光機內投入20公斤尺寸為3*3mm的高頻瓷粒、10公斤不飽和聚酯紐和150-300目的硅砂粉0.5公斤。開機混合上述物料，同時向雙聯渦流機內注入適量的循環水或自來水浸沒上述物料，能夠使不飽和樹脂紐扣和拋光磨料在水的作用下流動起來。停機，將水位控制在高出拋光物料I?3cm的位置，加入化學拋光劑0.2公斤，所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:WE-215A80wt%，DC_515wt%和硬脂酸鈉15wt% ；
[0064](2)設定第一次拋光的時間為3.0小時,設定速度為160轉/分鐘,開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充循環水；
[0065](3)第一次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入循環水或自來水。設定第二次拋光時間為0.7小時；
[0066](4)清洗紐扣，倒出拋光機內所有物料，并篩分紐扣和磨料。
[0067]實施例4
[0068]一種光澤度為大于80度的全光紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0069](I)依次向雙聯渦流拋光機內投入30公斤尺寸為0 2.5*8.0mm的高頻瓷粒、5.9公斤塑料紐和300?400目的硅砂粉1.2公斤。開機混合上述物料，同時向雙聯渦流機內注入適量的循環水或自來水浸沒上述物料，能夠使塑料紐扣和拋光磨料在水的作用下流動起來。停機，將水位控制在高出拋光物料I?3cm的位置，加入化學拋光劑0.4公斤，所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:巴西棕櫚蠟乳液75wt%，DC-546wt%和硬脂酸鈉 19wt%0
[0070](2)設定第一次拋光的時間為5.0小時,設定速度為160轉/分鐘,開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充循環水。
[0071](3)第一次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入循環水或自來水。設定第二次拋光時間為1.5小時。
[0072](4)清洗紐扣，倒出拋光機內所有物料，并篩分紐扣和磨料。
[0073]實施例5[0074]一種光澤度為30-80度的半啞光紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0075](I)依次向雙聯潤流拋光機內投入20公斤尺寸為3*3mm的高頻瓷粒、10公斤木紐和150?300目的硅砂粉0.5公斤。開機混合所有拋光物料，同時向雙聯渦流機內注入適量的循環水或自來水浸沒上述物料，能夠使木紐扣和拋光磨料在水的作用下流動起來。停機，將水位控制在高出拋光物料I?3cm的位置，加入化學拋光劑0.2公斤，所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:巴西棕櫚蠟乳液84wt%，DC-544wt%和硬脂酸鈉12wt%。
[0076](2)設定第一次拋光的時間為3.0小時,設定速度為160轉/分鐘,開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充循環水。
[0077](3)第一次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入循環水或自來水。設定第二次拋光時間為0.5小時。
[0078](4)清洗紐扣，倒出拋光機內所有物料，并篩分紐扣和磨料。
[0079]對比例I
[0080]一種光澤度為大于80度的全光紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0081](I)依次向滾筒拋光機內投入30公斤尺寸為0 2.5*8.0mm的高頻瓷粒、5公斤不飽和聚酯紐和300?400目的硅砂粉1.8公斤。開機混合所有拋光物料，同時向雙聯渦流機內注入適量的自來水，能夠使不飽和樹脂紐扣和拋光磨料在水的作用下流動起來。停機，將水位控制在高出拋光物料I?3cm的位置。
[0082](2)設定第一次拋光的時間為4.0小時，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水。
[0083](3)第一次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水，設定第二次拋光時間為4.0小時，再加硅砂粉2公斤，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水。
[0084](4)第二次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水，設定第三次拋光時間為12小時，再加硅砂粉2公斤，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水。
[0085](5)第三次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水，設定第四次拋光時間為1.0小時。
[0086](6)清洗紐扣，倒出拋光機內所有物料，并篩分紐扣和磨料。
[0087]對比例2
[0088]一種光澤度為30-80度的半啞光紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0089](I)依次向滾筒拋光機內投入30公斤尺寸為3*3mm的高頻瓷粒、6公斤不飽和聚酯紐和150?300目的硅砂粉I公斤。開機混合所有拋光物料，同時向渦流機內注入適量的自來水，能夠使不飽和樹脂紐扣和拋光磨料在水的作用下流動起來。停機，將水位控制在高出拋光物料I?3cm的位置。
[0090](2)設定第一次拋光的時間為4.0小時，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水。
[0091](3)第一次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水，設定第二次拋光時間為4.0小時，再加硅砂粉2公斤，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水。[0092](4)第二次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水，設定第三次拋光時間為4.0小時，再加硅砂粉2公斤，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水。
[0093](5)第三次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水，設定第四次拋光時間為1.0小時。
[0094](6)清洗紐扣，倒出拋光機內所有物料，并篩分紐扣和磨料。
[0095]對比例3
[0096]一種光澤度小于30度的全啞光紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0097](I)依次向滾筒拋光機內投入20公斤尺寸為3*3mm的高頻瓷粒、10公斤不飽和聚酯紐和150?300目的硅砂粉0.5公斤。開機混合所有拋光物料，同時向雙聯渦流機內注入適量的自來水，能夠使不飽和樹脂紐扣和拋光磨料在水的作用下流動起來。停機，將水位控制在高出拋光物料I?3cm的位置；
[0098](2)設定第一次拋光的時間為4.0小時，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水；
[0099](3)第一次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水，設定第二次拋光時間為4.0小時，再加硅砂粉2公斤，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水。
[0100](4)第二次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水，設定第三次拋光時間為3.0小時，再加硅砂粉2公斤，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水。
[0101](5)第三次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水。繼續拋光2小時；
[0102](6)清洗紐扣，倒出拋光機內所有物料，并篩分紐扣和磨料。
[0103]對比例4
[0104]一種光澤度為大于80度的全光紐扣的拋光方法，包括如下步驟:
[0105](I)依次向滾筒拋光機內投入30公斤尺寸為6*6mm的高頻瓷粒、5.9公斤塑料紐和300?400目的硅砂粉2公斤。開機混合所有拋光物料，同時向渦流機內注入適量的自來水，能夠使塑料紐扣和拋光磨料在水的作用下流動起來。停機，將水位控制在高出拋光物料I?3cm的位置。
[0106](2)設定第一次拋光的時間為4.0小時，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水。
[0107](3)第一次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水，設定第二次拋光時間為4.0小時，再加硅砂粉2公斤，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水。
[0108](4)第二次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水，設定第三次拋光時間為12小時，再加硅砂粉2公斤，設定速度為40轉/分鐘，開始進行拋光。拋光過程中，根據設備內水量的變化，適量地補充自來水。
[0109](5)第三次拋光完成后，放出設備內的污水，重新注入自來水，繼續拋光時間大概
1.0小時左右。
[0110](6)清洗紐扣，倒出拋光機內所有物料，并篩分紐扣和磨料。[0111]將上述實施例1-5和對比例1-4進行比較，對比其外觀、耗水量和拋光時間，對比結果如下表1所示:
[0112]表1不同拋光方法制得的不同材質紐扣的外觀、自來水消耗量和拋光時間對比表
[0113]
【權利要求】
1.一種紐扣的拋光方法，其特征在于，包括如下步驟: (1)在雙聯渦流拋光機內放入高頻瓷粒、待拋光紐扣、硅砂粉、化學拋光劑，加水浸沒上述物料；所述待拋光紐扣與高頻瓷粒的質量比為1:2-1:7，硅砂粉的添加量為固體物料總質量的1%_5%，化學拋光劑的添加量為固體物料總質量的0.5%-1.5% ;所述高頻瓷粒的尺寸為0 2.5*8.0mm 或 3*3mm ； (2)設定第一拋光時間，雙聯渦流拋光機的轉速為100-180轉/分鐘； (3)根據第一次拋光效果，設定第二次拋光時間，至紐扣光澤度滿足要求； (4)清洗紐扣。
2.根據權利要求1所述的紐扣的拋光方法，其特征在于，步驟(1)所述化學拋光劑為蠟乳液、有機硅化合物、硬酯酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉或有機硅改性聚醚類表面活性劑中的一種或兩種以上的混合物。
3.根據權利要求2所述的紐扣的拋光方法，其特征在于，所述化學拋光劑為主要由以下重量百分比的原料組成:蠟乳液75-84wt%，有機硅化合物4-6wt%和硬脂酸鈉12_19wt%。
4.根據權利要求1所述的紐扣的拋光方法，其特征在于，步驟(1)所述硅砂粉的粒徑為150-400 目。
5.根據權利要求1所述的紐扣的拋光方法，其特征在于，步驟(2)所述第一拋光時間為2-6h，步驟(3)所述第二次拋光時間為0.5-1.5h。
6.根據權利要求1所述的紐扣的拋光方法，其特征在于，包括如下步驟: (1)在雙聯渦流拋光機內放入高頻瓷粒、待拋光紐扣、硅砂粉、化學拋光劑，加水浸沒上述物料；所述待拋光紐扣與高頻瓷粒的質量比為1:5-1:7，高頻瓷粒的尺寸為02.5*8.0mm,硅砂粉的添加量為固體物料總質量的3%-5%，粒徑為300-400目，化學拋光劑的添加量為固體物料總質量的1%_1.5%，所述化學拋光劑為棕櫚蠟或高密度氧化聚乙烯蠟的水乳液、有機硅化合物、硬酯酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉和有機硅改性聚醚類表面活性劑中的一種或兩種以上的混合物； (2)設定第一拋光時間5-6h，雙聯渦流拋光機的轉速為100-180轉/分鐘； (3)設定第二次拋光時間0.5-1.5h ； (4)清洗紐扣，得光澤度大于80度的全光紐扣。
7.根據權利要求6所述的紐扣的拋光方法，其特征在于，步驟(1)所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:巴西棕櫚蠟乳液75-84wt%，有機硅化合物4-6wt%和硬脂酸鈉 12-19wt%0
8.根據權利要求1所述的紐扣的拋光方法，其特征在于，包括如下步驟: (1)在雙聯渦流拋光機內放入高頻瓷粒、待拋光紐扣、硅砂粉、化學拋光劑，加水浸沒上述物料；所述待拋光紐扣與高頻瓷粒的質量比為1:3-1:5，高頻瓷粒的尺寸為3*3mm，硅砂粉的添加量為固體物料總質量的2%-3%，粒徑為150-300目，化學拋光劑的添加量為固體物料總質量的0.5%-1%，所述化學拋光劑為石蠟或低密度氧化聚乙烯蠟的水乳液、有機硅化合物、硬酯酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉和有機硅改性聚醚類表面活性劑中的一種或兩種以上的混合物； (2)設定第一拋光時間4-5h，雙聯渦流拋光機的轉速為100-180轉/分鐘； (3)設定第二次拋光時間0.5-lh ；(4)清洗紐扣，得光澤度30-80度的半啞光紐扣。
9.根據權利要求1所述的紐扣的拋光方法，其特征在于，包括如下步驟: (1)在雙聯渦流拋光機內放入高頻瓷粒、待拋光紐扣、硅砂粉、化學拋光劑，并加水浸沒上述物料；所述待拋光紐扣與高頻瓷粒的質量比為1:2-1:3，高頻瓷粒的尺寸為3*3mm，硅砂粉的添加量為固體物料總質量的1%_2%，粒徑為150-300目，化學拋光劑的添加量為固體物料總質量的0.5%-1%，所述化學拋光劑為石蠟或低密度氧化聚乙烯蠟的水乳液、有機硅化合物、硬酯酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉和有機硅改性聚醚類表面活性劑中的一種或兩種以上的混合物； (2)設定第一拋光時間2-4h，渦流拋光機的轉速為100-180轉/分鐘； (3)設定第二次拋光時間0.5-lh ； (4)清洗紐扣，得光澤度小于30度的全啞光紐扣。
10.根據權利要求8或9任一項所述的紐扣的拋光方法，其特征在于，步驟(1)所述化學拋光劑主要由以下重量百分比的原料組成:低密度氧化聚乙烯蠟乳液75-84wt%，有機硅化合物4-6wt%和硬脂酸鈉12-19wt%。
【文檔編號】B24B37/00GK103639884SQ201310629353
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年11月29日 優先權日:2013年11月29日
【發明者】王學甜, 盛峭敏, 龔凡, 王青松, 程福奎 申請人:廣東溢達紡織有限公司