一種除塵風(fēng)櫥的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明是有關(guān)于一種除塵風(fēng)櫥，用于硅片背面干法噴砂制造吸雜源以消除硅拋光表面氧化霧，其中所述除塵風(fēng)櫥為密閉式風(fēng)櫥，設(shè)置于硅片傳送帶的上方，并且由所述硅片傳送帶的上方向下延伸至所述硅片傳送帶的上表面；在所述除塵風(fēng)櫥內(nèi)設(shè)有金剛砂噴嘴。本發(fā)明通過(guò)在金剛砂噴嘴外設(shè)置除塵風(fēng)櫥，使除塵風(fēng)櫥由金剛砂噴嘴的上方延伸至硅片傳送帶的上表面，可以對(duì)噴砂時(shí)產(chǎn)生的粉塵進(jìn)行有效控制，避免粉塵飛揚(yáng)。
【專利說(shuō)明】—種除塵風(fēng)櫥【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及IC級(jí)硅單晶拋光片【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種用于硅片背面干法噴砂制造吸雜源以消除硅拋光表面氧化霧的除塵風(fēng)櫥。
【背景技術(shù)】
[0002]IC級(jí)硅單晶拋光片是制造大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的核心材料，主要用于高速計(jì)算機(jī)、航空航天等高科技領(lǐng)域。硅單晶拋光片的微缺陷“氧化霧”一直困擾著高可靠性器件用硅單晶拋光片的質(zhì)量。長(zhǎng)期以來(lái)，人們采用多種方法以消除硅拋光片表面的氧化霧。所采用的方法主要是通過(guò)吸雜的方式，有內(nèi)吸雜和外吸雜兩種。內(nèi)吸雜主要是利用硅片中的氧沉淀產(chǎn)生吸雜區(qū)消除硅拋光表面的氧化霧，因其設(shè)備昂貴，工藝復(fù)雜，要求硅片內(nèi)氧沉淀分布均勻，不易控制，重復(fù)性差，因此在國(guó)內(nèi)外應(yīng)用較少。外吸雜主要是利用外部手段在硅片背面形成損傷或應(yīng)力，具體方式有在硅片背面用金鋼砂帶損傷、激光損傷或LPCVD生長(zhǎng)多晶硅層等，或者采用輻照、加熱預(yù)處理、硅片背面軟損傷等方法對(duì)硅片的氧化霧進(jìn)行消除。
[0003]對(duì)硅片的背面采用干法噴砂制造吸雜源消除硅拋光表面的氧化霧是近年來(lái)新興的一種可有效消除硅拋光片表面的氧化霧，同時(shí)又工藝簡(jiǎn)單合理，投資小，可操作性強(qiáng)，易于實(shí)施的外吸雜方法。其是根據(jù)背損吸雜原理，在硅片背面干法噴砂，產(chǎn)生晶格損傷或畸變，制造吸雜源，通過(guò)對(duì)噴砂粒度、噴砂壓力、作業(yè)片距、時(shí)間過(guò)程的控制和調(diào)制，在硅片背面制造均勻的層錯(cuò)密度，即在硅片背面產(chǎn)生6-38X 104個(gè)/ cm2的損傷層錯(cuò)，誘生堆雜層錯(cuò)，使硅片具有非本征的吸雜能力。在高溫下，硅片的雜質(zhì)會(huì)移位，并且轉(zhuǎn)移到硅片里面和背面的非要害部位，在拋光片表面的制作集成電路區(qū)域，形成厚度幾個(gè)um的潔凈區(qū)，從而獲得無(wú)“氧化霧”的高品質(zhì)硅拋光片，確保IC產(chǎn)品電路特性不受影響。
[0004]在現(xiàn)有技術(shù)中，對(duì)硅片的背面采用干法噴砂制造吸雜源以消除硅拋光表面的氧化霧，通常是通過(guò)在運(yùn)送硅片的傳送帶上方設(shè)置金剛砂噴嘴，通過(guò)金剛砂噴嘴向傳送帶2上的硅片噴灑金剛砂來(lái)實(shí)現(xiàn)。其中在金剛砂噴嘴的上方可設(shè)置一風(fēng)罩1，用于排風(fēng)除塵，對(duì)噴砂時(shí)飛揚(yáng)的粉塵進(jìn)行去除，如圖1所示，圖1是現(xiàn)有技術(shù)在傳送帶的上方設(shè)置風(fēng)罩的示意圖。盡管在金剛砂噴嘴的上方增設(shè)風(fēng)罩1，可以起到一定的除塵效果，但由于風(fēng)罩I與傳送帶2之間存在著較大的敞開的空間，在金剛砂噴灑時(shí)產(chǎn)生的大量粉塵仍會(huì)有部分飛揚(yáng)進(jìn)入大氣，造成環(huán)境污染。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明的目的在于，克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，而提供一種新型結(jié)構(gòu)的除塵風(fēng)櫥，所要解決的技術(shù)問題是使其通過(guò)在金剛砂噴嘴外設(shè)置除塵風(fēng)櫥，使除塵風(fēng)櫥由金剛砂噴嘴的上方延伸至硅片傳送帶的上表面，可以對(duì)噴砂時(shí)產(chǎn)生的粉塵進(jìn)行有效控制，避免粉塵飛揚(yáng)，非常適于實(shí)用。
[0006]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的一種除塵風(fēng)櫥，用于硅片背面干法噴砂制造吸雜源以消除硅拋光表面氧化霧，其中所述除塵風(fēng)櫥為密閉式風(fēng)櫥，設(shè)置于硅片傳送帶的上方，并且由所述硅片傳送帶的上方向下延伸至所述硅片傳送帶的上表面；在所述除塵風(fēng)櫥內(nèi)設(shè)有金剛砂噴嘴。
[0007]本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0008]前述的除塵風(fēng)櫥，其中在所述除塵風(fēng)櫥的頂部設(shè)有通孔，所述除塵風(fēng)櫥通過(guò)所述通孔與粉塵收集裝置通過(guò)管道連通。
[0009]前述的除塵風(fēng)櫥，其中在所述除塵風(fēng)櫥正對(duì)所述金剛砂噴嘴的一面上設(shè)有可觀察硅片背面金剛砂噴射打毛情況的有機(jī)玻璃門。
[0010]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明一種除塵風(fēng)櫥至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果:本發(fā)明通過(guò)在金剛砂噴嘴外設(shè)置除塵風(fēng)櫥，使除塵風(fēng)櫥由金剛砂噴嘴的上方延伸至硅片傳送帶的上表面，可以對(duì)噴砂時(shí)產(chǎn)生的粉塵進(jìn)行有效控制，避免粉塵飛揚(yáng)。
[0011]上述說(shuō)明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說(shuō)明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說(shuō)明如下。
【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1是現(xiàn)有技術(shù)在傳送帶的上方設(shè)置風(fēng)罩的示意圖。
[0013]圖2是本發(fā)明在傳送帶上設(shè)置除塵風(fēng)櫥的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明提出的一種除塵風(fēng)櫥其【具體實(shí)施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。
[0015]有關(guān)本發(fā)明的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)及功效，在以下配合參考圖式的較佳實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明中將可清楚呈現(xiàn)。通過(guò)【具體實(shí)施方式】的說(shuō)明，應(yīng)當(dāng)可對(duì)本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定目的所采取的技術(shù)手段及功效獲得一更加深入且具體的了解，然而所附圖式僅是提供參考與說(shuō)明之用，并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明加以限制。
[0016]請(qǐng)參閱圖2所示，是本發(fā)明在傳送帶上設(shè)置除塵風(fēng)櫥的示意圖。本發(fā)明的除塵風(fēng)櫥3為密閉式風(fēng)櫥，用于硅片背面干法噴砂制造吸雜源以消除硅拋光表面氧化霧。其中除塵風(fēng)櫥3設(shè)置于硅片傳送帶4的上方，并且由硅片傳送帶4的上方向下延伸至硅片傳送帶4的上表面，在除塵風(fēng)櫥3內(nèi)設(shè)有金剛砂噴嘴(未圖示)。
[0017]如圖2所示，在除塵風(fēng)櫥3的頂部設(shè)有通孔5，除塵風(fēng)櫥3通過(guò)通孔5可與粉塵收集裝置(未圖示)通過(guò)管道連通。在除塵風(fēng)櫥3正對(duì)金剛砂噴嘴I的一面上可設(shè)有可觀察硅片背面金剛砂噴射打毛情況的有機(jī)玻璃門6。
[0018]本發(fā)明通過(guò)在金剛砂噴嘴外設(shè)置除塵風(fēng)櫥3，相對(duì)于在硅片傳送帶的上方設(shè)置金剛砂噴嘴，或者在金剛砂噴嘴的上方再加設(shè)一風(fēng)罩的方式，可以使金剛砂噴灑時(shí)產(chǎn)生的粉塵得到有效地控制，避免粉塵飛揚(yáng)。
[0019]以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種除塵風(fēng)櫥，用于硅片背面干法噴砂制造吸雜源以消除硅拋光表面氧化霧，其特征在于:所述除塵風(fēng)櫥為密閉式風(fēng)櫥，設(shè)置于硅片傳送帶的上方，并且由所述硅片傳送帶的上方向下延伸至所述硅片傳送帶的上表面；在所述除塵風(fēng)櫥內(nèi)設(shè)有金剛砂噴嘴。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的除塵風(fēng)櫥，其特征在于其中在所述除塵風(fēng)櫥的頂部設(shè)有通孔，所述除塵風(fēng)櫥通過(guò)所述通孔與粉塵收集裝置通過(guò)管道連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的除塵風(fēng)櫥，其特征在于其中在所述除塵風(fēng)櫥正對(duì)所述金剛砂噴嘴的一面上設(shè)有可觀察硅片背面金剛砂噴射打毛情況的有機(jī)玻璃門。
【文檔編號(hào)】B24C9/00GK103846815SQ201310502758
【公開日】2014年6月11日 申請(qǐng)日期:2013年10月23日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月23日
【發(fā)明者】郭金娥, 徐信富, 徐力, 陳興邦 申請(qǐng)人:洛陽(yáng)市鼎晶電子材料有限公司