專利名稱：一種用于高轉速拋光頭主體止轉的導軌滑塊裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種用于高轉速拋光頭主體止轉的導軌滑塊裝置，該裝置適用于中大口徑光學元件主動高速拋光加工。
背景技術：
國內外現有光學小工具拋光機床中的拋光頭結構系統均采用燕尾槽調整偏心、四連桿結構限制主體轉動的機構。四連桿結構是在拋光頭平轉動過程中，限制拋光頭主體旋轉運動，使拋光頭平動，起到拋光頭的止轉作用。由于平行四連桿部件結構復雜，零件多，零件間的相對運動多，正反向交換運動頻繁，易產生振動，限制了平行四連桿式拋光頭的高轉速運動，影響拋光去除函數的準確性，拋光收斂效率低，故障率高，難以實現中大口徑光學元件的快速、高效、高可靠性的拋光要求。
發明內容
本發明的目的在于提供一種用于高轉速拋光頭主體止轉的導軌滑塊裝置，該裝置能夠有效地控制拋光頭主體的平轉動運動，使雙偏心拋光頭的公轉、自轉速度均可以達到400r/min，保證公轉和自轉不產生任何干涉，不產生振動，提高了拋光加工中運動的平穩性，滿足拋光盤高速旋轉、快速拋光、減小振動的要求，實現了中大口徑光學元件的快速、高效、高可靠性的拋光要求。實現本發明目的的技術解決方案為
采用止轉的導軌滑塊裝置主體、轉軸支座、球面軸承、銷、套、滑座、滑塊、直線導軌、連接板組成，轉軸支座固定在主體上，滑座與轉軸支座通過套及銷進行軸向連接，在鉸接處采用球面軸承連接，使轉軸支座通過微小的轉動，消除拋光頭主體在平面方向與直線導軌的不平度誤差。這種滑塊結構的直線運動，在限制拋光頭主體的旋轉運動的同時，提高了主軸旋轉公轉速度以及拋光頭拋光軸的主動自轉速度，改善了運動平穩性，加工中可以得到最大的去除函數。本發明與現有技術相比，其顯著優點是
(I)在結構上，由原四連桿部件結構改為導軌滑塊結構，將轉動運動變為直線運動，精簡了結構，大幅度減少機械傳動的部件關系，減少了零件的安裝誤差，提高了傳動效率，降低了故障率，最大程度地避免了機械頻繁正反轉引起到振動。(2)在功能上，止轉的導軌滑塊裝置在拋光過程中能夠提高自轉的速度，拋光盤可以平穩作用在元件表面進行拋光加工，滿足拋光盤高速回轉、快速拋光時抑制振動的要求。
下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明。圖I是本發明用于拋光頭主體止轉的導軌滑塊裝置結構圖。圖2是圖I的俯視圖。
圖3是圖I的A向視圖。圖4是圖I的局部放大圖B，放大比例4 :1。圖5是運動方向圖解圖。
具體實施例方式參照圖1，圖2，圖3，本發明提供的用于拋光頭止轉的導軌滑塊裝置，包括拋光盤(I)、拋光軸(2)、主體(3)、偏心體(4)、主軸(5)、轉軸支座(6)、球面軸承(7)、銷(8)、套(9)、滑座(10)、滑塊(11)、直線導軌(12)、連接板(13)。參照圖1，圖2，圖4，轉軸支座(6)固定在主體(3)上，滑座(10)與轉軸支座(6)通過銷(8)及套(9)進行軸向連接，滑座(10)與滑塊(11)通過螺釘固定連接，鉸接處用球面軸承(7)連接，滑塊(11)在直線導軌(12)上做直線運動，直線導軌(12)固定連接在連接板(13)中。·參照圖3，拋光盤(I)通過拋光軸(2)與主體(3)連接，偏心體(4)與主軸(5)連接，偏心體(4)與主體(3)之間有徑向軸線距離偏心尺寸。參照圖5，滑塊(11)與滑座(10)沿直線導軌(12)在平面內做Xich11向直線運動，轉軸支座(6 )與滑座(10 )通過球面軸承(7 )連接，轉軸支座(6 )與主體(3 )固定聯接在一起，在平面內以角速度《3_6作平轉動運動，偏心體(4)與主體(3)之間有徑向軸線距離偏心尺寸，偏心體(4)以角速度轉動。拋光軸(2)與主體(3)同軸心,偏心體(4)與主軸(5)同軸心,主軸(5)的動力通過偏心體(4)傳遞，通過偏心體(4)與主體(3)之間圓周相對位置變化，調整徑向軸線距離偏心尺寸，使拋光盤(I)獲得不同公轉半徑；滑座(10)與轉軸支座(6)通過銷(8)及套(9)進行軸向連接，在鉸接處采用球面軸承(7)連接，使轉軸支座(6)通過微小的轉動，消除拋光頭主體(3)轉動在平面方向與直線導軌(12)的不平度誤差。
權利要求
1.一種用于高轉速拋光頭主體止轉的導軌滑塊裝置，包括拋光盤、拋光軸、主體、偏心體、主軸、轉軸支座、球面軸承、銷、套、滑座、滑塊、直線導軌、連接板；其特征在于拋光盤通過拋光軸與主體連接,偏心體與主軸連接,拋光軸與主體同軸心,偏心體與主軸同軸心， 主軸的動力通過偏心體傳遞，通過偏心體與主體之間圓周相對位置變化，調整徑向軸線距離偏心尺寸，使拋光盤獲得不同公轉半徑；直線導軌固定連接在連接板中，滑塊在直線導軌上做直線運動，滑座與滑塊通過螺釘固定連接，滑座與轉軸支座通過銷及套進行軸向連接，在鉸接處采用球面軸承連接，轉軸支座固定在體上；滑塊與滑座沿直線導軌在平面內做X10-H向直線運動，轉軸支座與滑座間通過球面軸承連接，轉軸支座與主體固定聯接在一起，在平面內以角速度ω3_6作平轉動運動，偏心體與主體之間有徑向軸線距離偏心尺寸，偏心體以角速度ω4轉動。
全文摘要
本發明公開了一種用于高轉速拋光頭主體止轉的導軌滑塊裝置，應用于中大口徑光學元件主動高速拋光加工，由主體、轉軸支座、球面軸承、銷、套、滑座、滑塊、直線導軌、連接板組成止轉的導軌滑塊裝置，轉軸支座固定在主體上，滑座與轉軸支座通過套及銷進行軸向連接，在鉸接處采用球面軸承連接，使轉軸支座通過微小的轉動，消除拋光頭主體在平面方向與直線導軌的不平度誤差；這種滑塊結構的直線運動，在限制拋光頭主體的旋轉運動的同時，提高了主軸旋轉公轉速度以及拋光頭拋光軸的主動自轉速度，改善了運動平穩性，加工中可以得到最大的去除函數，滿足拋光盤高速回轉快速拋光時抑制振動的要求。
文檔編號B24B41/00GK102950540SQ201210488029
公開日2013年3月6日 申請日期2012年11月7日 優先權日2012年11月7日
發明者吳慶堂, 聶鳳明, 郭波, 康戰, 劉振栓, 吳煥, 王凱, 魏巍, 修冬, 陳洪海, 盧政宇, 胡寶共, 張維杰 申請人:長春設備工藝研究所