專利名稱：超聲波清洗裝置以及超聲波清洗方法
技術領域：
本發明涉及對被清洗物進行超聲波清洗的超聲波清洗裝置、以及超聲波清洗方法
坐寸O
背景技術：
圖8是示出現有的超聲波清洗槽的剖視圖。該超聲波清洗槽具有作為被清洗物的晶片I、清洗箱2、清洗液3、石英制的清洗槽4、用于進行清洗箱2的定位的引導件5、超聲波輻射板6、安裝于輻射板6的超聲波振子7、將超聲波從輻射板6傳遞至清洗槽4的介質8、以及設置于清洗箱2的晶片I的支承部 11 (例如參照專利文獻I)。在上述現有的超聲波清洗裝槽中，由于超聲波被晶片I的支承部11反射而衰減，因此朝向支承部11的上方傳遞超聲波的比例變小。因此，在晶片I形成支承部11的影子13。該影子13是因超聲波在支承部11的影響下沒有傳遞至晶片I而產生的影子。而且，由于超聲波沒有充分地傳遞至晶片I的中央部，因此在晶片I的中央部與支承部的影子13之間，清洗結果產生明顯的差別。根據此類情況，若想要在支承部的影子13充分地得到清洗的效果，則需要進行長時間地清洗，并且當晶片I中的超聲波容易傳遞時，容易產生損傷。圖9是示出現有的超聲波清洗裝置的示意圖。該超聲波清洗裝置具備由用于對被清洗物W進行清洗的清洗液4填滿的清洗槽15 ;使超聲波振動傳播至清洗液的兩個振子111、112 ;以及用于向這些振子施加高頻電壓的超聲波振蕩器16、17。兩個振子111、112分別安裝于輻射板19a、19b。該超聲波清洗裝置通過掃描兩個振子中的至少一個振子的頻率來使在清洗液內產生的空泡區域移動并對被清洗物進行清洗(例如參照專利文獻2)。在上述現有的超聲波清洗裝置中，掃描振子的頻率具有局限性，由于僅能夠掃描有限的頻率范圍，因此能夠移動的空泡區域的范圍也受到限制。并且，由于利用偏離共振頻率的頻率來產生振蕩，因此產生聲壓降低，導致清洗效果的降低。另外，由于該聲壓降低因頻率、振動元件的不同而相應地有所差別，因此難以進行管理。現有技術文獻專利文獻專利文獻I :日本特許平4-49619號公報(第4圖)專利文獻2 :日本特開2009-125645號公報(說明書摘要及圖I)
發明內容
發明要解決的問題本發明的一個實施方式的課題在于，提供一種能夠抑制在對被清洗物進行了超聲波清洗之后產生清洗不均的超聲波清洗裝置以及超聲波清洗方法。用于解決問題的方法
技術領域：
本發明的一個實施方式的超聲波清洗裝置的特征在于，所述超聲波清洗裝置具備清洗槽，其用于裝入清洗液；第一超聲波振子以及第二超聲波振子，它們向浸潰在所述清洗槽內的清洗液中的被清洗物給予超聲波振動；第一超聲波振蕩器，其向所述第一超聲波振子施加高頻輸出；第二超聲波振蕩器，其向所述第二超聲波振子施加高頻輸出；以及控制器，其進行控制來改變所述第一超聲波振蕩器以及第二超聲波振蕩器的至少一方的輸出，所述超聲波清洗裝置使從所述第一超聲波振子發出的第一超聲波與從所述第二超聲波振子發出的第二超聲波發生干涉。需要說明的是，所述干涉也包含從斜向干涉的情況。本發明的一個實施方式的超聲波清洗裝置的特征在于，所述超聲波清洗裝置具備清洗槽，其用于裝入清洗液；多個超聲波振子，它們向浸潰在所述清洗槽內的清洗液中的被清洗物給予超聲波振動；多個超聲波振蕩器，它們向所述多個超聲波振子的每個超聲波振子施加高頻輸出；以及控制器，其進行控制來改變所述多個超聲波振蕩器中的一個以 上的超聲波振蕩器的輸出，所述超聲波清洗裝置使從由所述一個以上的超聲波振蕩器施加了高頻輸出的超聲波振子發出的超聲波、與從由所述多個超聲波振蕩器中的至少一個超聲波振蕩器施加了聞頻輸出的超聲波振子發出的超聲波發生干涉。另外,在本發明的一個實施方式中，改變所述一個以上的超聲波振蕩器的輸出的情況也可以是以下的輸出變動中的任意一者或多者從0%以上的輸出連續地增加至100%以下的輸出這樣的輸出變動、從0%以上的輸出呈階梯狀地增加至100%以下的輸出這樣的輸出變動、從100 %以下的輸出連續地減少至O %以上的輸出這樣的輸出變動、從100 %以下的輸出呈階梯狀地減少至O %以上的輸出這樣的輸出變動、從高于O %的輸出瞬間增加至不足100%的輸出這樣的輸出變動、以及從不足100%的輸出瞬間減少至高于0%的輸出這樣的輸出變動。另外，在本發明的一個實施方式中，所述被清洗物也可以是一個被清洗物或者多個被清洗物。在本發明的一個實施方式的超聲波清洗方法中，使被清洗物浸潰在清洗槽內的清洗液中，一邊利用第一超聲波振子向所述被清洗物給予超聲波振動、一邊利用第二超聲波振子向所述被清洗物給予超聲波振動，由此對所述被清洗物進行清洗，所述超聲波清洗方法的特征在于，一邊使從所述第一超聲波振子發出的第一超聲波與從所述第二超聲波振子發出的第二超聲波發生干涉，一邊改變向所述第一超聲波振子以及第二超聲波振子的至少一方施加的高頻輸出。在本發明的一個實施方式的超聲波清洗方法中，使被清洗物浸潰在清洗槽內的清洗液中，利用多個超聲波振子向所述被清洗物給予超聲波振動，由此對所述被清洗物進行清洗，所述超聲波清洗方法的特征在于，一邊使從所述多個超聲波振子中的一個以上的超聲波振子發出的超聲波與從所述多個超聲波振子中的至少一個超聲波振子發出的超聲波發生干涉，一邊改變向所述一個以上的超聲波振子施加的高頻輸出。發明效果根據本發明的一個實施方式，能夠提供一種超聲波清洗裝置以及超聲波清洗方法，其能夠抑制在對被清洗物進行了超聲波清洗之后產生清洗不均。
圖I是示出本發明的一個實施方式所涉及的超聲波清洗裝置的結構的概要圖。圖2㈧ ⑶是示出利用圖I所示的控制器28對第一超聲波振蕩器26以及第二超聲波振蕩器27各自的輸出進行控制的具體例的圖。圖3是示出本發明的一個實施方式的變形例所涉及的清洗槽的結構的概要圖。
圖4(A)是示意性地示出本發明的一個實施方式所涉及的超聲波清洗裝置的結構的俯視圖，圖4(B)是圖4的㈧所示的清洗槽的剖視圖，圖4(C)是圖4的㈧所示的清洗槽的立體圖。圖5是示出使用圖I所示的超聲波清洗裝置測量清洗槽內的聲壓的結果的圖。圖6是示出使用圖I所示的超聲波清洗裝置測量清洗槽內的氣泡分布的結果的圖。圖7(A)是示出測量再次對被清洗物進行清洗之后的微粒子的分布的結果的圖，圖7(B)是示出根據圖7的(A)所示的測量結果計算微粒子去除率的結果的圖。圖8是示出現有的超聲波清洗槽的剖視圖。圖9是示出現有的超聲波清洗裝置的示意圖。
具體實施例方式以下，使用附圖對本發明的實施方式進行詳細說明。但是，本發明不局限于以下說明，能夠在不脫離本發明的主旨及其范圍的前提下對其實施方式以及細節進行各種變更，這對于本領域技術人員是顯而易見的。因此，不應認為本發明局限于以下所示的實施方式的記載內容。(第一實施方式)圖I是示出本發明的一個實施方式所涉及的超聲波清洗裝置的結構的概要圖。超聲波清洗裝置具有由清洗液23填滿的清洗槽21，該清洗槽21是用于對多個被清洗物22 (例如半導體晶片、微型光盤(compact disc)、玻璃基板、平板顯示器(flat paneldisplay)、以及較薄的光盤或者基板等)進行清洗的批量處理槽。在清洗槽21內配置有用于保持被清洗物22的保持部25。清洗槽21具有截面呈V形狀的V形底，在該V形底的一側的底部安裝有右側振子24a (第一超聲波振子)，在V形底的另一側安裝有左側振子24b (第二超聲波振子)。由此，能夠從兩個方向朝被清洗物22照射超聲波。在右側振子24a電連接有第一超聲波振蕩器26，在左側振子24b電連接有第二超聲波振蕩器27。第一超聲波振蕩器26以及第二超聲波振蕩器27分別向右側振子24a以及左側振子24b施加高頻輸出。在第一超聲波振蕩器26以及第二超聲波振蕩器27分別電連接有控制器28。控制器28對第一超聲波振蕩器26以及第二超聲波振蕩器27各自的輸出進行控制。圖2(A) (D)是示出利用圖I所示的控制器28對第一超聲波振蕩器26以及第二超聲波振蕩器27各自的輸出進行控制的具體例的圖。圖2(A)所示的輸出控制是如下的輸出控制利用第一超聲波振蕩器26使向右側振子24a施加的輸出從0%的輸出連續地增加至100%的輸出，并且利用第二超聲波振蕩器27使向左側振子24b施加的輸出從100%的輸出連續地減少至0%的輸出，然后利用第一超聲波振蕩器26使向右側振子24a施加的輸出從100%的輸出連續地減少至0%的輸出，并且利用第二超聲波振蕩器27使向左側振子24b施加的輸出從0%的輸出連續地增加至100 %的輸出，然后重復上述操作。圖2(B)所示的輸出控制是如下的輸出控制利用第一超聲波振蕩器26將向右側振子24a施加的輸出恒定地設為100 %的輸出，利用第二超聲波振蕩器27使向左側振子24b施加的輸出從100%的輸出連續地減少至0%的輸出，然后利用第二超聲波振蕩器27使向左側振子24b施加的輸出從0%的輸出連續地增加至100%的輸出，然后重復上述操作。圖2(C)所示的輸出控制是如下的輸出控制利用第一超聲波振蕩器26將向右側振子24a施加的輸出恒定地設為100 %的輸出，利用第二超聲波振蕩器27使向左側振子
24b施加的輸出從0%的輸出呈階梯狀地增加至100%的輸出，然后利用第二超聲波振蕩器27使向左側振子24b施加的輸出從100 %的輸出瞬間減少至O %的輸出，然后重復上述操作。圖2(D)所示的輸出控制是如下的輸出控制利用第一超聲波振蕩器26將向右側振子24a施加的輸出恒定地設為100 %的輸出，利用第二超聲波振蕩器27使向左側振子24b施加的輸出從高于0%的輸出連續地增加至不足100%的輸出，然后利用第二超聲波振蕩器27使向左側振子24b施加的輸出從不足100%的輸出瞬間減少至高于0%的輸出，然后重復上述操作。利用上述控制器28對第一超聲波振蕩器26以及第二超聲波振蕩器27各自的輸出進行控制僅是例示，也能夠進行其他各種輸出控制，也能夠進行圖2所示的輸出控制以外的以下輸出控制。利用控制器28對第一超聲波振蕩器26以及第二超聲波振蕩器27的至少一方的輸出進行控制是通過改變輸出來進行控制的，也可以是以下輸出變動中的任意一者或多者從0%以上的輸出連續地增加至100%以下的輸出這樣的輸出變動、從0%以上的輸出呈階梯狀地增加至100%以下的輸出這樣的輸出變動、從100%以下的輸出連續地減少至0%以上的輸出這樣的輸出變動、從100%以下的輸出呈階梯狀地減少至0%以上的輸出這樣的輸出變動、從高于O %的輸出瞬間增加至不足100 %的輸出這樣的輸出變動、以及從不足100 %的輸出瞬間減少至高于O %的輸出這樣的輸出變動。接著，對使用所述超聲波清洗裝置的超聲波清洗方法進行說明。首先，如圖I所示，使被清洗物22浸潰于清洗槽21內的清洗液23。詳細地說，使由保持部25保持的多個被清洗物22浸潰在由清洗液23填滿的清洗槽21內。接著，一邊從第一超聲波振蕩器26向右側振子24a施加高頻輸出，并利用右側振子24a向被清洗物22給予超聲波振動，一邊從第二超聲波振蕩器27向左側振子24b施加高頻輸出，并利用左側振子24b向被清洗物22給予超聲波振動。此時，一邊使從右側振子24a發出的第一超聲波與從左側振子24b發出的第二超聲波發生干涉，一邊利用控制器28改變從第一超聲波振蕩器26以及第二超聲波振蕩器27向右側振子24a以及左側振子24b的至少一方施加的高頻輸出。基于該控制器28的具體的控制方法既可以是圖2(A) (D)所示的任意一種輸出控制，也可以是上述的其他各種輸出控制。如此，對被清洗物22進行超聲波清洗。根據上述超聲波清洗方法，一邊使從右側振子24a發出的第一超聲波與從左側振子24b發出的第二超聲波發生干涉，一邊改變右側振子24a以及左側振子24b的至少一方的輸出。由此，改變第一超聲波與第二超聲波發生干涉而形成的超聲波，從而改變基于超聲波的聲音流的方向，能夠使清洗液流、氣泡流、以及超聲波流等移動。其結果是，能夠均勻地對被清洗物22的整體進行清洗。進一步詳細地進行說明。若不改變右側振子24a以及左側振子24b各自的輸出而使其恒定，即使第一超聲波與第二超聲波發生干涉而各個聲音流被壓制，但由于發生干涉而形成的超聲波不發生變化，因此清洗液流、氣泡流等恒定，根據清洗槽的構造的不同而有時產生清洗不均。與此相對地，若改變右側振子24a以及左側振子24b各自的輸出，則第一超聲波與第二超聲波發生干涉而形成的超聲波發生變化，聲音流發生變化，清洗液流、氣泡流等不恒定而能夠移動。其結果是，能夠抑制在對被清洗物進行超聲波清洗之后產生的清 洗不均。需要說明的是，在本實施方式中，雖然使用兩個振子24a、24b對被清洗物22進行超聲波清洗，但振子的數量不局限于兩個，也可以使用三個以上振子對被清洗物22進行超聲波清洗。例如在利用三個以上的多個振子向被清洗物給予超聲波振動的情況下，優選一邊使從多個振子中的一個以上的振子發出的超聲波與從所述多個振子中的至少一個振子發出的超聲波發生干涉，一邊改變所述一個以上的振子的輸出。另外，在本實施方式中，如圖I所示，雖然使用截面為V形狀的清洗槽21，但清洗槽的形狀不局限于V形狀，只要是在清洗槽的多個振子的安裝面帶有角度的形狀，也能夠使用其他形狀的清洗槽，例如圖3所示，也能夠使用截面為梯形形狀的清洗槽21a，亦即由該清洗槽21a的左右振子24a、24b的安裝面形成的角度Θ高于0°的清洗槽21a。(第二實施方式)圖4(A)是示意性地示出本發明的一個實施方式所涉及的超聲波清洗裝置的結構的俯視圖，圖4(B)是示出圖4(A)所示的超聲波清洗裝置的清洗槽的剖視圖，圖4(C)是圖4(A)所示的清洗槽的立體圖。超聲波清洗裝置具有由清洗液33填滿的清洗槽31，該清洗槽31是對一片被清洗物32 (例如半導體晶片、微型光盤、玻璃基板、平板顯示器、以及較薄的光盤或者基板等)進行清洗的片用處理槽。在清洗槽31內配置有用于保持被清洗物32的保持部35。清洗槽31在俯視時具有四邊形狀，在該清洗槽31的四個側表面安裝有第一 第四超聲波振子34a 34d。由此，能夠從四個方向朝被清洗物32照射超聲波。需要說明的是，在本實施方式中，雖然沒有在清洗槽31的底面或者上表面安裝超聲波振子，但也可以在清洗槽31的底面或者上表面安裝超聲波振子。在第一超聲波振子34a電連接有第一超聲波振蕩器36,在第二超聲波振子34b電連接有第二超聲波振蕩器37。在第三超聲波振子34c電連接有第三超聲波振蕩器(未圖示)，在第四超聲波振子34d電連接有第四超聲波振蕩器(未圖示)。第一 第四超聲波振蕩器36、37分別向第一 第四超聲波振子34a、34b施加高頻輸出。在第一 第四超聲波振蕩器36、37各自電連接有控制器38。控制器38對第一 第四超聲波振蕩器36、37各自的輸出進行控制。利用圖4的㈧所示的控制器38對第一 第四超聲波振蕩器36、37各自的輸出進行控制，只要能夠改變超聲波與超聲波發生干涉而形成的超聲波，聲音流發生變化，進而使清洗液流、氣泡流等移動，就能夠進行各種輸出控制。優選地，例如，一邊使從第一 第四超聲波振子34a、34b中的一個以上的振子發出的超聲波與從第一 第四超聲波振子34a、34b中的至少一個振子發出的超聲波發生干涉，一邊改變所述一個以上的振子的輸出。改變所述一個以上的振子的輸出也可以是以下輸出變動中的任意一者或多者從0%以上的輸出連續地增加至100%以下的輸出這樣的輸出變動、從0%以上的輸出呈階梯狀地增加至100 %以下的輸出這樣的輸出變動、從100 %以下的輸出連續地減少至O %以上的輸出這樣的輸出變動、從100%以下的輸出呈階梯狀地減少至0%以上的輸出這樣的輸出變動、從高于O %的輸出瞬間增加至不足100 %的輸出這樣的輸出變動、以及從不足100 %的輸出瞬間減少至高于O %的輸出這樣的輸出變動。
接著，對使用所述超聲波清洗裝置的超聲波清洗方法進行說明。首先，如圖4所示，使被清洗物32浸潰于清洗槽31內的清洗液33。詳細地說，使由保持部35保持的一片被清洗物32浸潰在由清洗液33填滿的清洗槽31內。接著，從第一 第四超聲波振蕩器分別向第一 第四超聲波振子施加高頻輸出，利用第一 第四超聲波振子分別向被清洗物32給予超聲波振動。此時，一邊使從第一 第四超聲波振子中的一個以上的振子發出的超聲波與從第一 第四超聲波振子中的至少一個振子發出的超聲波發生干涉，一邊利用控制器38改變從第一 第四超聲波振蕩器向所述一個以上的振子施加的高頻輸出。基于該控制器38的具體的控制方法也可以采用所述的各種輸出控制。如此，對被清洗物32進行超聲波清洗。根據所述超聲波清洗方法，能夠以與第一實施方式相同的方式改變超聲波與超聲波發生干涉而形成的超聲波，能夠通過改變超聲波所引起的聲音流的方向來使清洗液流、氣泡流、超聲波流等移動。其結果是，能夠均勻對被清洗物32的整體進行清洗。進一步詳細地進行說明。若不改變第一 第四超聲波振子各自的輸出而使其恒定，即使超聲波與超聲波發生干涉而各個聲音流被壓制，但清洗液流、氣泡流等恒定，根據清洗槽的構造的不同而有時會發生清洗不均。與此相對地，若改變第一 第四超聲波振子中的一個以上的振子的輸出，則超聲波與超聲波發生干涉而形成的超聲波發生變化，聲音流發生變化，清洗液流、氣泡流等不恒定而能夠移動。其結果是，能夠抑制在對被清洗物進行超聲波清洗之后產生的清洗不均。實施例圖5是示出使用圖I所示的超聲波清洗裝置測量清洗槽內的聲壓的結果的圖。圖6是示出使用圖I所示的超聲波清洗裝置測量清洗槽內的氣泡分布的結果的圖。圖5不出在將左側振子24b設為100%的輸出并將右側振子24a設為0%的輸出的情況下的聲壓測量結果、在將左側振子24b設為75%的輸出并將右側振子24a設為25%的輸出的情況下的聲壓測量結果、以及在將左側振子24b設為50%的輸出并將右側振子24a設為50%的輸出的情況下的聲壓測量結果。從上述測量結果可知，清洗槽內的聲壓處于混合了來自左側振子的超聲波與來自右側振子的超聲波的狀態。圖6不出在將左側振子24b設為100%的輸出并將右側振子24a設為0%的輸出的情況下的氣泡分布、在將左側振子24b設為75%的輸出并將右側振子24a設為25%的輸出的情況下的氣泡分布、以及在將左側振子24b設為50%的輸出并將右側振子24a設為50%的輸出的情況下的氣泡分布。從上述氣泡分布可知，通過改變左側振子的超聲波輸出與右側振子的超聲波輸出可大幅度地改變清洗槽內的氣泡的停滯。換句話說，確認了根據左右振子的輸出變動，能夠使氣泡流像雨刷(wiper)那樣移動，從而能夠使清洗槽內的氣泡的停滯位置大幅度地移動。圖7的(A)是示出測量利用圖I所示的超聲波清洗裝置對被清洗物進行清洗之后的微粒子的分布的結果的圖，圖7的(B)是示出根據圖7的(A)所示的測量結果計算微粒子去除率的結果的圖。圖7的(A)不出在將左側振子24b設為100%的輸出并將右側振子24a設為O %的輸出而在對被清洗物進行清洗之后測量被清洗物表面的微粒子的分布的結果(以下，稱作·“左100% -右0% ”。)、在將左側振子24b設為50%的輸出并將右側振子24a設為50%的輸出而在對被清洗物進行清洗之后測量被清洗物表面的微粒子的分布的結果(以下，稱作“左50% -右50% ”。)、在使左側振子24b的輸出與右側振子24a的輸出如圖2的(A)所不那樣變化而在對被清洗物進行清洗之后測量被清洗物表面的微粒子的分布的結果(以下，稱作“輸出變動”。)。圖7的⑶示出圖7㈧所示的被清洗物表面的微粒子去除率。相對于“輸出變動”接近100%的微粒子去除率，“左100% -右0%”、“左50% -右50%”中的微粒子去除率低。根據上述結果可以確認，與將左右振子的輸出設為恒定的情況相比，改變左右振子的輸出的方式更能夠提高微粒子去除率。如圖7所示，在使左右振子的輸出恒定的情況下在被清洗物表面產生清洗不均，相對于此，在使左右振子的輸出變動的情況下能夠抑制在被清洗物表面產生清洗不均，從而能夠均勻地對被清洗物的表面整體進行清洗。附圖標記說明如下I…晶片2…清洗箱3…清洗液4…清洗槽5…用于進行定位的引導件6…超聲波輻射板7…超聲波振子8…用于傳遞超聲波的介質11…支承部13…支承部的影子16、17…超聲波振蕩器19a、19b …輻射板21、21a、31 …清洗槽22、32…被清洗物
23、33…清洗液24a…右側振子(第一超聲波振子)24b…左側振子(第二超聲波振子)25、35…保持部26、36…第一超聲波振蕩器27、37…第二超聲波振蕩器28、38…控制器
34a…第一超聲波振子34b…第二超聲波振子34c…第三超聲波振子34d…第四超聲波振子111、112 …振子
權利要求
1.一種超聲波清洗裝置，其特征在于， 所述超聲波清洗裝置具備 清洗槽，其用于裝入清洗液； 第一超聲波振子以及第二超聲波振子，它們向浸潰在所述清洗槽內的清洗液中的被清洗物給予超聲波振動； 第一超聲波振蕩器，其向所述第一超聲波振子施加高頻輸出； 第二超聲波振蕩器，其向所述第二超聲波振子施加高頻輸出；以及控制器，其進行控制來改變所述第一超聲波振蕩器以及第二超聲波振蕩器的至少一方的輸出， 所述超聲波清洗裝置使從所述第一超聲波振子發出的第一超聲波與從所述第二超聲波振子發出的第二超聲波干涉。
2.根據權利要求I所述的超聲波清洗裝置，其特征在于， 改變所述輸出的情況是以下輸出變動中的任意一者或多者從0%以上的輸出連續地增加至100%以下的輸出這樣的輸出變動、從0%以上的輸出呈階梯狀地增加至100%以下的輸出這樣的輸出變動、從100 %以下的輸出連續地減少至O %以上的輸出這樣的輸出變動、從100 %以下的輸出呈階梯狀地減少至O %以上的輸出這樣的輸出變動、從高于O %的輸出瞬間增加至不足100%的輸出這樣的輸出變動、以及從不足100%的輸出瞬間減少至高于O %的輸出這樣的輸出變動。
3.一種超聲波清洗裝置，其特征在于， 所述超聲波清洗裝置具備 清洗槽，其用于裝入清洗液； 多個超聲波振子，它們向浸潰在所述清洗槽內的清洗液中的被清洗物給予超聲波振動； 多個超聲波振蕩器，它們向所述多個超聲波振子的每個超聲波振子施加高頻輸出；以及 控制器，其進行控制來改變所述多個超聲波振蕩器中的一個以上的超聲波振蕩器的輸出， 所述超聲波清洗裝置使從由所述一個以上的超聲波振蕩器施加了高頻輸出的超聲波振子發出的超聲波、與從由所述多個超聲波振蕩器中的至少一個超聲波振蕩器施加了高頻輸出的超聲波振子發出的超聲波干涉。
4.根據權利要求3所述的超聲波清洗裝置，其特征在于， 改變所述一個以上的超聲波振蕩器的輸出的情況是以下的輸出變動中的任意一者或多者從0%以上的輸出連續地增加至100%以下的輸出這樣的輸出變動、從0%以上的輸出呈階梯狀地增加至100%以下的輸出這樣的輸出變動、從100%以下的輸出連續地減少至O %以上的輸出這樣的輸出變動、從100 %以下的輸出呈階梯狀地減少至0%以上的輸出這樣的輸出變動、從高于0%的輸出瞬加增加至不足100%的輸出這樣的輸出變動、以及從不足100 %的輸出瞬間減少至高于O %的輸出這樣的輸出變動。
5.根據權利要求I至4中任一項所述的超聲波清洗裝置，其特征在于， 所述被清洗物是一個被清洗物或者多個被清洗物。
6.一種超聲波清洗方法，在該超聲波清洗方法中，使被清洗物浸潰在清洗槽內的清洗液中， 一邊利用第一超聲波振子向所述被清洗物給予超聲波振動、一邊利用第二超聲波振子向所述被清洗物給予超聲波振動，由此對所述被清洗物進行清洗， 所述超聲波清洗方法的特征在于， 一邊使從所述第一超聲波振子發出的第一超聲波與從所述第二超聲波振子發出的第二超聲波干涉，一邊改變向所述第一超聲波振子以及第二超聲波振子的至少一方施加的高頻輸出。
7.一種超聲波清洗方法，在該超聲波清洗方法中，使被清洗物浸潰在清洗槽內的清洗液中， 利用多個超聲波振子向所述被清洗物給予超聲波振動，由此對所述被清洗物進行清洗， 所述超聲波清洗方法的特征在于， 一邊使從所述多個超聲波振子中的一個以上的超聲波振子發出的超聲波與從所述多個超聲波振子中的至少一個超聲波振子發出的超聲波干涉，一邊改變向所述一個以上的超聲波振子施加的聞頻輸出。
全文摘要
本發明提供能夠抑制在對被清洗物進行超聲波清洗之后產生清洗不均的超聲波清洗裝置以及超聲波清洗方法。本發明的一個實施方式的特征在于，超聲波清洗裝置具備清洗槽(21)，其用于裝入清洗液(23)；第一超聲波振子(34a)以及第二超聲波振子(34b)，它們向浸漬在所述清洗槽內的清洗液中的被清洗物(22)給予超聲波振動；第一超聲波振蕩器(36)，其向所述第一超聲波振子施加高頻輸出；第二超聲波振蕩器(37)，其向所述第二超聲波振子施加高頻輸出；以及控制器(38)，其進行控制來使所述第一超聲波振蕩器以及第二超聲波振蕩器的至少一方的輸出變動，所述超聲波清洗裝置使從所述第一超聲波振子發出的第一超聲波與從所述第二超聲波振子發出的第二超聲波干涉。
文檔編號C23G5/00GK102883828SQ20118002242
公開日2013年1月16日 申請日期2011年6月2日 優先權日2010年6月7日
發明者辻內亨, 飯田康夫, 安井久一, 今關康博, 長谷川浩史 申請人:獨立行政法人產業技術綜合研究所, 株式會社海上