專利名稱：一種陶質(zhì)釉面磚自銳拋光生產(chǎn)線的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種陶瓷建筑裝飾材料的制造設(shè)備領(lǐng)域，特別涉及一種陶質(zhì)釉面磚自銳拋光生產(chǎn)線。
背景技術(shù)：
陶瓷釉面磚以其強度高、光澤度好、色彩鮮明、易清潔等優(yōu)點成為了很多客戶選擇的對象。特別是釉面拋光內(nèi)墻磚因其亮麗的表面鏡面效果深受消費者喜愛。已知的陶瓷拋光釉面磚的現(xiàn)有制造方法有三種(1)印刷圖案紋理后再印刷2 3次透明印刷釉，經(jīng)燒成后再進行拋光，這種工藝在瓷質(zhì)仿古磚方面比較多采用，印刷的介質(zhì)都為水性材料；存在的不足一是需要比較長的生產(chǎn)線(印花次數(shù)多)，二是拋光后釉面平整度不佳，存在比較多的過度拋光或漏拋及光澤度不均勻的情況，生產(chǎn)穩(wěn)定性較差；( 施釉印刷圖案紋理燒成后堆微晶透明熔塊干粒，經(jīng)再次燒成后拋光，這種工藝多用來生產(chǎn)瓷質(zhì)拋晶磚。存在的問題一是產(chǎn)能低，燒成周期在2. 5 3小時，造成能耗大；二是要堆積多達Wcg/m2的微晶透明熔塊干粒，成本非常高，產(chǎn)品售價昂貴，普通消費者難以承受；三是拋光過程需要進行刮平、 粗拋、精拋工序，能源消耗大；四是合格率低，通常只在85%左右。( 拋晶三度燒工藝，多用在陶質(zhì)磚配套腰線或花片的生產(chǎn)方面，其工藝為在陶質(zhì)磚成品上進行圖案紋理印刷后燒成，再在燒成的制品上堆積低溫透明干粒，經(jīng)再次燒成后進行拋光處理；這一工藝存在的不足一是生產(chǎn)工藝復雜，且多為手工操作，產(chǎn)能低；二是要堆積多達4kg/m2的透明熔塊干粒， 成本非常高，產(chǎn)品售價昂貴，普通消費者難以承受；三是拋光過程需要進行刮平、粗拋、精拋工序，能源消耗大。針對現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，作出本實用新型。 發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種具有自行對磨頭進行銳化處理的陶質(zhì)釉面磚拋光生產(chǎn)線。為實現(xiàn)上述實用新型目的，本實用新型所提供的技術(shù)方案為一種陶質(zhì)釉面磚自銳拋光生產(chǎn)線，包括拋光進磚平臺，陶質(zhì)釉面磚通過拋光進磚平臺輸送依次經(jīng)過拋光區(qū)進行拋光，拋光區(qū)內(nèi)包括一橫梁，橫梁上設(shè)有磨頭支架，磨頭支架末端設(shè)有拋光磨頭，拋光進磚平臺上間隔15-30塊釉面磚的距離處設(shè)有一磨銳器具。磨銳器具為表面具有粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯。磚坯表面粗糙線條紋理為網(wǎng)狀。磚坯厚度與陶質(zhì)釉面磚相同。磚坯規(guī)格為 300mm X 200mm。本實用新型的有益效果是本發(fā)明通過以上技術(shù)方案后可達到以下有益效果1、改造投入少對原有生產(chǎn)工藝及生產(chǎn)線設(shè)備無須大的改造，即可實現(xiàn)產(chǎn)品的效果提升。2、圖案清晰度高，色彩柔和采用釉下彩裝飾，紋理和色彩完全融入釉中，色彩更為柔和；同時經(jīng)過對透明釉層的拋光，圖案清晰度高。3、釉面平整度好，實現(xiàn)鏡面效果通過對釉面拋光處理，釉層表面的小缺陷和波紋現(xiàn)象完全消除，平整度好，達到了鏡面效果。4、拋光工藝簡單，只需對釉層進行精拋，無須刮平、粗拋，大幅降低了電耗和磨頭損耗，達到對釉面的連續(xù)性打磨、拋光，避免了過拋及漏拋等不均勻性拋光缺陷，提高了合格率。
圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意簡圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式
進行詳細描述。圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意簡圖，如圖1所示，本實用新型一種陶質(zhì)釉面磚自銳拋光生產(chǎn)線，包括拋光進磚平臺1，陶質(zhì)釉面磚2通過拋光進磚平臺1輸送依次經(jīng)過拋光區(qū) 3進行拋光，拋光區(qū)內(nèi)包括一橫梁4，橫梁4上設(shè)有磨頭支架5，磨頭支架5末端設(shè)有拋光磨頭6，拋光進磚平臺1上間隔15-30塊釉面磚2的距離處設(shè)有一磨銳器具7，磨銳器具為表面具有網(wǎng)狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯，磚坯厚度與陶質(zhì)釉面磚相同，磚坯規(guī)格為 300mmX 200mm。本實用新型所述“自銳拋光”是與通常拋光方式不同在于只是對燒后產(chǎn)品的透明釉層進行精拋，由于沒有了通常的刮平和粗拋過程，使樹脂拋光磨頭在平滑釉面拋光時容易出現(xiàn)因磨頭中樹脂無法與碳化硅顆粒自動脫落造成磨頭鈍化的問題，為解決這一問題， 必須使磨頭獲得銳利能力，在正常的拋光陶質(zhì)釉面磚中每隔15 30件加入與陶質(zhì)釉面磚同等厚度規(guī)格為300mmX200mm、表面具有網(wǎng)狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯。通過加入的網(wǎng)狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯對磨頭的反打磨，使磨頭自我獲得了銳利能力，實現(xiàn)在光滑的釉面連續(xù)拋光的目的。本實用新型也可以具有其它的形式變化，如本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知，上述實施例僅僅起到對上述實用新型保護范圍內(nèi)的示范作用，對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說，在本實用新型所限定的保護范圍內(nèi)還有很多常規(guī)變形和其它實施例，這些變形和實施例都將在本實用新型待批的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種陶質(zhì)釉面磚自銳拋光生產(chǎn)線，包括拋光進磚平臺，陶質(zhì)釉面磚通過拋光進磚平臺輸送依次經(jīng)過拋光區(qū)進行拋光，拋光區(qū)內(nèi)包括一橫梁，橫梁上設(shè)有磨頭支架，磨頭支架末端設(shè)有拋光磨頭，其特征在于，所述的拋光進磚平臺上間隔15-30塊釉面磚的距離處設(shè)有一磨銳器具。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶質(zhì)釉面磚自銳拋光生產(chǎn)線，其特征在于，所述的磨銳器具為表面具有粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶質(zhì)釉面磚自銳拋光生產(chǎn)線，其特征在于，所述的磚坯表面粗糙線條紋理為網(wǎng)狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種陶質(zhì)釉面磚自銳拋光生產(chǎn)線，其特征在于，所述的磚坯厚度與陶質(zhì)釉面磚相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種陶質(zhì)釉面磚自銳拋光生產(chǎn)線，其特征在于，所述的磚坯規(guī)格為 300mm X 200mm。
專利摘要本實用新型公開了一種陶質(zhì)釉面磚自銳拋光生產(chǎn)線，包括拋光進磚平臺，陶質(zhì)釉面磚通過拋光進磚平臺輸送依次經(jīng)過拋光區(qū)進行拋光，拋光區(qū)內(nèi)包括一橫梁，橫梁上設(shè)有磨頭支架，磨頭支架末端設(shè)有拋光磨頭，拋光進磚平臺上間隔15-30塊釉面磚的距離處設(shè)有一磨銳器具。磨銳器具為表面具有網(wǎng)狀粗糙線條紋理的無釉陶瓷素燒磚坯。本實用新型具有改造投入少對原有生產(chǎn)工藝及生產(chǎn)線設(shè)備無須大的改造，即可實現(xiàn)產(chǎn)品的效果提升。圖案清晰度高，色彩柔和、釉面平整度好、拋光工藝簡單的效果，大幅降低了電耗和磨頭損耗，達到對釉面的連續(xù)性打磨、拋光，避免了過拋及漏拋等不均勻性拋光缺陷，提高了合格率。
文檔編號B24B29/00GK202169535SQ201120221618
公開日2012年3月21日 申請日期2011年6月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月28日
發(fā)明者葉德林, 李輝 申請人:佛山市三水新明珠建陶工業(yè)有限公司, 廣東新明珠陶瓷集團有限公司