專利名稱：鍍膜件及其制造方法
技術領域：
本發明涉及一種鍍膜件及其制造方法，尤其涉及一種具有骨瓷質感的鍍膜件及其制造方法。
背景技術：
現有技術，采用陽極氧化處理、噴砂等方式使電子產品(如手機、PDA等)的殼體呈現出具有凹凸感的外觀，并通過噴涂、PVD鍍膜等方式于所述殼體表面形成白色的裝飾性膜層，以期使所述殼體呈現出凹凸感的外觀同時還具有白色的高貴氣質。然而，由于經上述處理后的殼體通常呈現出啞光的效果，導致所述殼體無法呈現出如骨瓷般的潔白、細膩、通透、清潔等高貴的視覺或外觀效果。
發明內容
鑒于此，本發明提供一種具有骨瓷質感的鍍膜件。另外，本發明還提供一種上述鍍膜件的制造方法。一種鍍膜件，包括基體、形成于基體表面的第一膜層及無色透明的第二膜層；所述基體表面分布有若干第一凸起，所述第一膜層的表面對應所述基體形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，該第一膜層呈白色；該第二膜層主要由Al或Si、0及N三種元素構成。一種鍍膜件的制造方法，其包括如下步驟
提供基體；
于所述基體表面形成若干第一凸起；
于所述基體上形成一第一膜層，所述第一膜層的表面對應所述基體形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，該第一膜層呈白色；
采用真空鍍膜法，以鋁、鋁合金、硅或硅合金為靶材，以氧氣及氮氣為反應氣體，在該基體的表面形成一無色透明的第二膜層，該第二膜層主要由Al、O及N三種元素構成或Si、O及N三種元素構成；
對所述第二膜層的表面進行機械拋光處理。由于所述第二膜層為無色透明狀，使所述第一膜層表面的第二凸起如同形成于所述第二膜層上，如此使所述鍍膜件呈現出凹凸感的外觀。更重要的是，所述第一膜層呈現出白色，覆蓋于該第一膜層上的該第二膜層具有較高的光澤度和透明度，該二膜層的結合使該鍍膜件還呈現出骨瓷質感。
圖I是本發明一較佳實施例鍍膜件的剖視 圖2是本發明一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。主要元件符號說明
權利要求
1.一種鍍膜件，包括基體，其特征在于該鍍膜件還包括依次形成于基體表面的第一膜層及無色透明的第二膜層；所述基體表面分布有若干第一凸起，所述第一膜層的表面對應所述基體形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，該第一膜層呈白色；該第二膜層主要由Al或Si、O及N三種元素構成。
2.如權利要求I所述的鍍膜件，其特征在于所述第一膜層通過噴涂或真空鍍膜的方式形成。
3.如權利要求I或2所述的鍍膜件，其特征在于所述第一膜層的色度區域于CIELAB表色系統的L*坐標為85至91, a*坐標為-O. 5至O. 5, b*坐標為-O. 5至O. 5。
4.如權利要求I或2所述的鍍膜件，其特征在于通過噴涂方式形成的所述第一膜層的厚度為3、μ m。
5.如權利要求I或2所述的鍍膜件，其特征在于通過真空鍍膜方式形成的所述第一膜層的厚度為Hum。
6.如權利要求I所述的鍍膜件，其特征在于所述第二膜層通過真空鍍膜的方式形成。
7.如權利要求I或6所述的鍍膜件，其特征在于當所述第二膜層主要由Al、0及N三種元素構成時，其中Al的質量百分含量為6(Γ70%，0的質量百分含量為25 28%，N的質量百分含量為2 15% ;當所述第二膜層主要由Si、0及N三種元素構成時，其中Si的質量百分含量為65 75%，O的質量百分含量為17 22%，N的質量百分含量為3 18%。
8.如權利要求I或6所述的鍍膜件，其特征在于所述第二膜層主要由平均粒徑為l(Tl8nm的納米顆粒組成,該第二膜層的粗糙度Ra為l(T20nm。
9.如權利要求I或6所述的鍍膜件，其特征在于所述鍍膜件于該第二膜層表面的60°角測得的光澤度為85 100，色度區域于CIE LAB表色系統的L*坐標為85至91，a*坐標為-O. 5至O. 5，b*坐標為-O. 5至O. 5。
10.如權利要求I或6所述的鍍膜件，其特征在于所述第二膜層的厚度為2 4μπι。
11.一種鍍膜件的制造方法，其包括如下步驟 提供基體； 于所述基體表面形成若干第一凸起； 于所述基體上形成一第一膜層，所述第一膜層的表面對應所述基體形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，該第一膜層呈白色； 采用真空鍍膜法，以鋁、鋁合金、硅或硅合金為靶材，以氧氣及氮氣為反應氣體，在該基體的表面形成一無色透明的第二膜層，該第二膜層主要由Al或Si、0及N三種元素構成； 對所述第二膜層的表面進行機械拋光處理。
12.如權利要求11所述的鍍膜件的制造方法，其特征在于所述第一凸起通過陽極氧化、噴砂、化學蝕刻或激光雕刻的方式形成于所述基體表面。
13.如權利要求11所述的鍍膜件的制造方法，其特征在于所述第一膜層通過噴涂或真空鍍膜的方式形成。
14.如權利要求11所述的鍍膜件的制造方法，其特征在于用以形成所述第二膜層的革巴材中，招合金祀材中招的質量百分含量為65 80%,娃合金祀材中娃的質量百分含量為65 80%。
15.如權利要求11或14所述的鍍膜件的制造方法，其特征在于形成所述第二膜層的工藝參數為采用磁控濺射鍍膜法，設置鋁靶、鋁合金靶、硅靶或硅合金靶的功率為8 12kw，氧氣的流量為5(T200sccm、氮氣的流量為8(T300sccm，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為10(T300SCCm，施加于基體的偏壓為-10(T-300V，鍍膜溫度為2(T200°C，鍍膜時間為60 80min。
16.如權利要求11所述的鍍膜件的制造方法，其特征在于所述機械拋光處理的工藝為采用一機械拋光機，所述拋光機包括一布輪，將含有氧化鋁粉末的懸浮狀水溶液涂覆在該布輪上，對所述第二膜層的表面進行拋光，拋光的時間為I(Γ15min。
全文摘要
本發明提供一種鍍膜件，包括基體、形成于基體表面的第一膜層及無色透明的第二膜層；所述基體表面分布有若干第一凸起，所述第一膜層的表面對應所述基體形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，該第一膜層呈白色；該第二膜層主要由Al或Si、O及N三種元素構成。該鍍膜件呈現出骨瓷質感的外觀。本發明還提供了所述鍍膜件的制造方法。
文檔編號C23C14/35GK102896825SQ201110215440
公開日2013年1月30日 申請日期2011年7月29日 優先權日2011年7月29日
發明者張新倍, 陳正士, 李聰 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司