專利名稱：鍍膜件及其制備方法
技術領域：
本發明涉及一種鍍膜件及其制備方法。
背景技術：
光致變色指的是在具有一定的波長和強度的光的作用下，某些化合物的分子結構發生變化，從而導致其對光的吸收峰值的改變(即顏色的相應改變)，且這種改變一般是可逆的。近年來，將光致變色材料用于光信息存儲、光調控、光開關、光學器件材料、光信息基因材料、修飾基因芯片材料等領域受到全球范圍內的廣泛關注。目前常用的光致變色涂層多采用有機光致變色材料，有機光致變色材料種類繁、多，主要包括螺毗喃類、偶氮化合物類及二芳基乙烯類。然而，有機光致變色材料本身穩定性較差，易受外部環境(如酸堿腐蝕、鹽霧腐蝕、紫外光熱等)的影響，進而影響其光致變色效果，這使得有機光致變色材料的進一步廣泛使用受到了制約。
發明內容
有鑒于此，本發明提供一種表面披覆有穩定的光致變色涂層的鍍膜件的制備方法。另外，本發明還提供一種由上述方法所制得的鍍膜件。一種鍍膜件，其包括基材及形成于基材表面的鍍層，該鍍層為M摻雜的二氧化鈦層，其中M為鎳、鐵及鉻中的一種。一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步
提供基材；
米用粉末冶金法制備一合金祀，該合金祀中含有金屬M和金屬鈦,其中金屬M為鎳、鐵及鉻中的一種；
采用濺射法，并使用上述步驟制備的合金靶，在該基材的表面形成一鍍層，該鍍層為M摻雜的二氧化鈦層。本發明鍍膜件的制備方法，采用PVD鍍膜技術并使用特殊成份的合金靶，在基材表面制得所述鍍層。該制備方法工藝簡單且綠色環保。所述鍍層性能穩定，且具有良好的光致變色效果。
圖I是本發明一較佳實施例鍍膜件的剖視 圖2是本發明一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。主要元件符號說明
權利要求
1.一種鍍膜件，其包括基材及形成于基材表面的鍍層，其特征在于該鍍層為M摻雜的二氧化鈦層，其中M為鎳、鐵及鉻中的一種。
2.如權利要求I所述的鍍膜件，其特征在于該基材的材質為玻璃或不銹鋼。
3.如權利要求I所述的鍍膜件，其特征在于該鍍層中摻雜的M與鈦的原子比為 2% 8%。
4.如權利要求I所述的鍍膜件，其特征在于該鍍層為光致變色層。
5.如權利要求I所述的鍍膜件，其特征在于該鍍層采用濺射法形成，其厚度為200 500nmo
6.一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步 提供基材； 米用粉末冶金法制備一合金祀，該合金祀中含有金屬M和金屬鈦,其中金屬M為鎳、鐵及鉻中的一種； 采用濺射法，并使用上述步驟制備的合金靶，在該基材的表面形成一鍍層，該鍍層為M摻雜的二氧化鈦層。
7.如權利要求6所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于該基材的材質為玻璃或不銹鋼。
8.如權利要求6所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于所述制備合金靶的步驟的工藝參數為以金屬M粉體及金屬鈦粉體為原料，將金屬M粉體與金屬鈦粉體按原子比為5 10%的比例混合均勻獲得一混合物；采用熱壓成型法將混合物制成一坯體，成型溫度為10(T300°C，壓力為3(T60MPa ;燒結該坯體，燒結溫度為1300 1800 °C，燒結時間為30 60mino
9.如權利要求8所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于金屬M粉體的純度為99.99%，粒度為25 50Mm，金屬鈦粉體的純度為99. 99%，粒度為25 50Mm。
10.如權利要求6所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于濺射形成所述鍍層的步驟的工藝參數為基材的溫度為10(T20(TC，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為30(T500SCCm，以氧氣為反應氣體，氧氣的流量為5(T200sCCm，合金靶的功率為3飛kw，施加于基材的偏壓為-10(T-200V，鍍膜時間為30 90min。
全文摘要
本發明提供一種鍍膜件，其包括基材及形成于基材表面的鍍層，該鍍層為一光致變色層，且該鍍層為M摻雜的二氧化鈦層，其中M為鎳、鐵及鉻中的一種。此外本發明還提供一種上述鍍膜件的制備方法。本發明鍍膜件的制備方法，采用PVD鍍膜技術并使用特殊成份的合金靶，在基材表面制得所述鍍層。該制備方法工藝簡單且綠色環保。所述鍍層性能穩定，且具有良好的光致變色效果。
文檔編號C23C14/34GK102758184SQ20111010672
公開日2012年10月31日 申請日期2011年4月27日 優先權日2011年4月27日
發明者張新倍, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士, 黃嘉 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司