專利名稱：一種不導(dǎo)電裝飾膜的應(yīng)用工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及裝飾膜技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種不導(dǎo)電裝飾膜的應(yīng)用工藝。
背景技術(shù)：
裝飾膜被廣泛應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品如手機(jī)、電子游戲機(jī)等和各種燈飾、首飾盒、裝飾品等上，以提高其的裝飾效果和視覺效果。現(xiàn)有的裝飾膜的應(yīng)用方法一般是在膠板上先鍍一層錫或鋁，再加顏色圖層，最近進(jìn)行UV過膠。由于錫和鋁都是導(dǎo)電材料，易產(chǎn)生靜電；涂層顏色有限，顏色不夠豐富；UV過膠成本大，工藝復(fù)雜，而且裝飾膜容易脫落。因此，現(xiàn)有的裝飾膜的應(yīng)用工藝已不能滿足現(xiàn)代社會生產(chǎn)對裝飾膜的要求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是通過一種全新的應(yīng)用工藝，利用該工藝可將裝飾膜以特有的次序排列應(yīng)用于金屬、玻璃、PC、Pmma和PET等上，有豐富多彩的顏色變化和炫彩效果、而且裝飾膜具有不導(dǎo)電、不易脫落，色度豐富等特點。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是一種不導(dǎo)電裝飾膜的應(yīng)用工藝，其包括以下步驟
第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層80-120nm氧化硅； 第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；
第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層150-1800nm的氧化鎬；
第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；
第五，根據(jù)顏色或亮度的需要，重復(fù)步驟三和步驟四。與傳統(tǒng)的裝飾膜應(yīng)用工藝相比較，本發(fā)明利用真空等離子鍍膜技術(shù)對不同類型材質(zhì)的基板上沉積氧化硅、氧化鈦及氧化鎬及其不同次序膜層排列以實現(xiàn)不導(dǎo)電膜的應(yīng)用， 具有操作性強(qiáng)、靈活可靠、適應(yīng)性強(qiáng)等特點。
具體實施例方式下面給出實例對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明
實施例1 本發(fā)明一種不導(dǎo)電裝飾膜的應(yīng)用工藝，其包括以下步驟
第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層80nm氧化硅；
第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500nm氧化鈦；
第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層500nm的氧化第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500nm氧化鈦。實施例2 本發(fā)明一種不導(dǎo)電裝飾膜的應(yīng)用工藝，其包括以下步驟 第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層120nm氧化硅；
第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層600nm氧化鈦； 第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層700nm的氧化
鎬；
第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500nm氧化鈦； 第五、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層600nm的氧化
鎬；實施例3 本發(fā)明一種不導(dǎo)電裝飾膜的應(yīng)用工藝，其包括以下步驟 第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層IOOnm氧化硅；
第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層IOOOnm氧化鈦； 第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層1200nm的氧化
鎬；
第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500nm氧化鈦； 第五、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層1500nm的氧化
鎬；
第六、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層IOOOnm氧化鈦； 第七、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層1700nm的氧化
鎬；如上述實施例的方法，采用與該實施例相同或相似方法所獲得的其他不導(dǎo)電裝飾膜的應(yīng)用工藝，均在本發(fā)明保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1. 一種不導(dǎo)電裝飾膜的應(yīng)用工藝，其特征在于其包括以下步驟 第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層80-120nm氧化硅； 第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層150-1800nm的氧化鎬；第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；第五，根據(jù)顏色或亮度的需要，重復(fù)步驟三和步驟四。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種不導(dǎo)電裝飾膜的應(yīng)用工藝，其包括以下步驟第一、利用真空等離子電鍍方式在在基板上鍍一層80-120nm氧化硅；第二、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；第三、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化鈦的表面上鍍一層150-1800nm的氧化鎬；第四、利用真空等離子電鍍方式在上一步驟中氧化硅的表面上鍍一層500-1200nm氧化鈦；第五，根據(jù)顏色或亮度的需要，重復(fù)步驟三和步驟四。與傳統(tǒng)的裝飾膜應(yīng)用工藝相比較，本發(fā)明利用真空等離子鍍膜技術(shù)對不同類型材質(zhì)的基板上沉積氧化硅、氧化鈦及氧化鎬及其不同次序膜層排列以實現(xiàn)不導(dǎo)電膜的應(yīng)用，具有操作性強(qiáng)、靈活可靠、適應(yīng)性強(qiáng)等特點。
文檔編號C23C14/08GK102173274SQ20101061697
公開日2011年9月7日 申請日期2010年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月31日
發(fā)明者陳沛洪 申請人:東莞市東日光學(xué)科技有限公司