專利名稱：光致發光薄膜、殼體及殼體的制作方法
技術領域：
本發明是關于一種光致發光薄膜、殼體及殼體的制作方法。
背景技術：
電子產品的暢銷與否與產品的外觀有很大關系，制造商亦不停地開發各種款式的外殼，以求獲得市場的青睞。產品不僅在外觀上變化，材質上亦不停地嘗試，如采用金屬制成的殼體，或者通過采用嵌入成型的方法在殼體表面形成有圖案的薄膜，然，該等殼體薄膜圖案單調，趣味性不足，難以吸引消費者眼球。
發明內容
鑒于上述內容，有必要提供一種能形成在電子裝置殼體上以增強電子裝置外觀趣味性的光致發光薄膜。另外，有必要提供一種形成有所述光致發光薄膜的殼體。此外，有必要提供一種所述殼體的制作方法。一種光致發光薄膜，所述光致發光薄膜主要由摻銦氧化鋅組成。—種殼體，包括一基體及形成在基體上的一光致發光薄膜，所述光致發光薄膜主要由摻銦氧化鋅組成。一種殼體的制作方法，包括以下步驟提供一基體，將基體表面進行清洗；將基體進行物理氣相沉積，使基體表面形成摻銦氧化鋅薄膜。相較于現有技術，本光致發光薄膜主要由摻銦氧化鋅組成，其能在光線照射條件下儲存能量，在光線撤除后可以發光，銦的摻雜增強了所述光致發光薄膜的發光性能。該種在無光線照射條件下殼體可發光的現象增加了殼體的使用趣味性。所述殼體通過采用物理氣相沉積方法制作，工藝簡單。
圖1是本發明較佳實施例一殼體的截面示意圖。主要元件符號說明殼體10基體11光致發光薄膜 1具體實施例方式本發明較佳實施例一電子裝置的殼體10包括一基體11及一覆蓋在基體11上表面的一光致發光薄膜12。所述基體11可由金屬材質制成，如不銹鋼、銅、鈦、鈦合金、鋁、鋁合金等。
所述光致發光薄膜12主要由摻銦氧化鋅組成，還可進一步含有稀有元素，如鍶、 銪、鉬等。該光致發光薄膜12的厚度薄，在500nm以內。該光致發光薄膜12在光照下可吸收及儲存能量，并在無光照的條件下將能量以光線的形式放出，實現發光的功能，增強了所述殼體10的使用趣味性。該光致發光薄膜12可利用物理氣相沉積(PVD)技術形成于基體 11的表面。所述殼體10的制作方法，主要包括以下步驟(1)將基體11表面進行化學超聲波清洗，如采用無水乙醇或丙酮對基體11進行超聲波清洗，以除去基體11表面的油污。(2)將基體11表面進行等離子體清洗，以進一步除去基體11表面的油污及氧化物等，以及改善基體11表面與后續形成的光致發光薄膜12的結合力。具體過程可為將超聲波清洗后的基體11放入一真空鍍膜機中，抽真空該鍍膜機的腔體至3. OX IO-5Torr (ITorr =133. 32 )，然后通入流量為300 500sCCm(標準毫升每分)的工作氣體氬氣(純度為 99. 999%),對基體11施加-300 -500V的偏壓，使鍍膜室中產生高頻電壓，使所述氬氣發生離子化而產生氬氣等離子體對基體11的表面進行物理轟擊，而達到對基體11表面等離子體清洗的目的。所述等離子體清洗的時間可為3 20分鐘。(3)對基體11進行物理氣相沉積，使基體11表面形成摻銦氧化鋅薄膜。該物理氣相沉積的具體過程為基體11在真空鍍膜機中經過等離子體清洗后，調節基體11的偏壓至-100 -300V，并控制基體11的溫度為20 300°C，向鍍膜機的腔體通入流量為150 300sCCm(標準狀態毫升/分鐘)的高純氬氣及流量為10 120sCCm的氧氣，接著開啟濺鍍靶鋅靶，該鋅靶可以是單一的鋅金屬，也可以是鋅與稀有元素如鍶、銪、鉬等的一種或多種形成的合金，設置鋅靶的功率為3 IOkw (千瓦)，濺鍍20 60min (分鐘)，則基體11的表面將充分地覆蓋一氧化鋅膜。然后關閉鋅靶的電源及停止通入氧氣，開啟濺鍍靶銦靶濺鍍5 10分鐘，在氧化鋅膜的部分表面沉積銦，使銦局部地摻雜在氧化鋅膜中，從而在基體 11表面形成摻銦的氧化鋅薄膜，制得所述光致發光薄膜12。所述的氧化鋅膜在光照下可吸收能量，其電子從低軌躍遷至高軌，無光照后，電子從高軌回遷至低軌并以光能的形式釋放能量，而出現發光的現象。而銦的摻雜可以提高氧化鋅的電子從高軌回遷至低軌的傳導性，從而提高了氧化鋅的發光性能，使得光致發光薄膜12具有更強的發光性能，增強了殼體10的使用趣味性。(4)將殼體從真空鍍膜機中取出。所述殼體10通過物理氣相沉積的方法制作，工藝簡單。
權利要求
1.一種光致發光薄膜，其特征在于所述光致發光薄膜主要由摻銦氧化鋅組成。
2.如權利要求1所述的光致發光薄膜，其特征在于所述光致發光薄膜進一步包括一種或多種稀有元素。
3.如權利要求2所述的光致發光薄膜，其特征在于所述稀有元素包括鍶、銪、鉬。
4.如權利要求1所述的光致發光薄膜，其特征在于所述光致發光薄膜的厚度在500nm 以內。
5.一種殼體，包括一基體及形成在基體上的一光致發光薄膜，其特征在于所述光致發光薄膜主要由摻銦氧化鋅組成。
6.如權利要求5所述的殼體，其特征在于所述基體包括不銹鋼、銅、鈦、鈦合金、鋁、鋁合金。
7.一種殼體的制作方法，包括以下步驟提供一基體，將基體表面進行清洗；將基體進行物理氣相沉積，形成一光致發光薄膜，該光致發光薄膜主要含有摻銦氧化鋅。
8.如權利要求7所述的殼體的制作方法，其特征在于所述清洗步驟包括化學超聲波清洗與等離子體清洗中的至少一種。
9.如權利要求7所述的殼體的制作方法，其特征在于所述物理氣相沉積的步驟具體為開啟鋅靶與通入氧氣，鋅靶的功率為3 10kw，濺鍍20 60min，氧氣流量為10 120sccm,使基體表面濺射形成氧化鋅膜，然后關閉鋅靶并停止通入氧氣，接著開啟銦靶濺鍍5 10分鐘，使氧化鋅膜表面摻雜銦。
10.如權利要求9所述的殼體的制作方法，其特征在于所述鋅靶靶材為單一的鋅金jM ο
11.如權利要求9所述的殼體的制作方法，其特征在于所述鋅靶靶材為鋅與稀有元素的一種或多種形成的合金。
全文摘要
本發明公開一種光致發光薄膜及應用該光致發光薄膜的殼體與殼體的制作方法，該光致發光薄膜為摻銦氧化鋅薄膜；所述殼體為所述光致發光薄膜形成在金屬基體表面形成；該光致發光薄膜采用物理氣象沉積的方法形成在金屬基體表面。本殼體在光線照射后在黑暗條件下能發光，使得殼體功能多樣且更具趣味性。
文檔編號C23C14/08GK102448264SQ20101050829
公開日2012年5月9日 申請日期2010年10月14日 優先權日2010年10月14日
發明者張新倍, 王瑩瑩, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司