專利名稱：光記錄介質用半透明反射膜和反射膜、以及用于形成這些半透明反射膜和反射膜的Ag合 ...的制作方法
技術領域：
本發明涉及作為光記錄介質的構成層的半透明反射膜和反射膜，以及用于由濺射 法形成這些半透明反射膜和反射膜的Ag合金濺射靶，所述光記錄介質是可使用半導體激 光等的激光束將聲音、影像、文字等的信息信號進行再生或者記錄·再生·消去的光記錄盤 (⑶-RW，DVD-RW，DVD-RAM等)等。特別地，本發明適用于使用藍色激光進行記錄、再生或者 消去的光記錄盤(基于藍光光盤規格、HD DVD規格的光記錄盤等)的半透明反射膜和反射 膜，以及用于形成這些半透明反射膜和反射膜的濺射靶。
背景技術：
近年來，提出了具有2層記錄膜的2層記錄型的光記錄介質，對于該2層記錄型 的光記錄介質，在入射光側設置了厚度為5 15nm左右的極薄的半透明反射膜，所述半透 明反射膜除了相對于入射光側的記錄層具有作為反射膜的功能以外，還具有透射光而在第 二記錄層上記錄或者再生的功能。作為在該2層記錄型的光記錄介質上形成的半透明反射 膜，使用了純Ag膜或者Ag合金膜，該純Ag膜或者Ag合金膜具有迅速將加熱了的記錄膜的 熱量散去的作用，同時對于在400 SOOnm這樣寬范圍的波長區域的激光具有低的吸收率， 因此被廣泛應用。作為光記錄介質用反射膜的一個例子，已知具有含有0. 001 0. 1質量％的&、余 量包含Ag的成分組成的光記錄介質用反射膜，已知該反射膜通過使用Ag合金靶進行濺射 而形成，所述Ag合金靶具有含有0. 001 0. 1質量％的Ca、余量包含Ag的組成。對于上述 具有含有0. 001 0. 1質量％的Ca、余量包含Ag的成分組成的反射膜，其與純Ag制的反射 膜的反射率幾乎相同，進而與純Ag制的反射膜相比抑制了重結晶化，具有反射率不隨時間 下降的優異特性(參考專利文獻1)。另外，作為光記錄介質的反射膜的其他例子，在專利文獻2中記述了一種半透明 反射膜，其具有下述的成分組成，即，含有0. 1原子％以上的Nd或者Y中的至少一種，進而 以合計0. 2 5. 0原子％的量含有選自Au、Cu、Pd、Mg、Ti和Ta的至少一種，余量包含Ag。 記述了該半透明反射膜通過使用Ag合金靶進行濺射而形成，所述Ag合金靶具有下述的成 分組成，即，含有0. 1原子％以上的Nd或者Y中的至少一種，進而以合計0. 2 5. 0原子％ 的量含有選自Au、Cu、Pd、Mg、Ti和Ta的至少一種，余量包含Ag。專利文獻1 特開2003-6926號公報專利文獻2 特開2002-15464號公報
發明內容
一般地，光記錄介質的半透明反射膜在吸收入射光時會產生第二記錄層記錄或者 再生的效率變差的問題，因此對于半透明反射膜，需要降低入射光在半透明反射膜上的吸 收。另一方面，出于在入射側的第一記錄層上進行高速記錄的要求，半透明反射膜必須同時 實現高熱傳導性。作為賦予這種特性的最優選的材料，已知有純Ag，但是對于包含純Ag的半透明反 射膜，雖然剛使用后的吸收率最低，但如果在記錄或者記錄/再生/消去時被加熱，則由于 膜產生凝聚而導致在半透明反射膜上開孔，進而由于純Ag制的半透明反射膜的耐腐蝕性 差，因此有在短時間內吸收率急劇上升的問題。另一方面，本發明人們使用目前已知的包含Ag合金的反射膜用靶制成具有反射 膜厚約1/10的、厚度為5 15nm的薄膜，并試圖將該薄膜作為半透明反射膜來使用，所述 Ag合金含有0. 001 0. 1質量％的Ca、余量包含Ag。其結果是包含Ag合金的半透明反射 膜與純Ag制的半透明反射膜相比，雖然在記錄、或者記錄/再生/消去時即使加熱，膜也不 凝聚、耐腐蝕性優異、且發現吸收率的經時變化抑制效果，但是依然入射光的吸收率很高， 不能說是十分滿意的，所述Ag合金含有0. 001 0. 1質量％的Ca、余量包含Ag。另外，本發明人們試著使用在專利文獻2中記述的半透明反射膜，該半透明反射 膜具有下述的成分組成，即，含有0. 1原子％以上的Nd或者Y中的至少1種、進而含有 0. 2 5.0原子％的Mg、余量包含Ag。其結果是該半透明反射膜與純Ag制的半透明反射膜 相比，雖然在記錄、或者記錄/再生/消去時即使加熱，膜也不凝聚、耐腐蝕性優異，且一定 程度地發現吸收率的經時變化抑制效果，但是該效果不充分，進而要求更大的入射光吸收 率經時變化的抑制效果。因此，本發明人們為了得到具有耐凝聚性和耐腐蝕性的特性、且入射光吸收率的 經時變化少的Ag合金半透明反射膜而進行了研究。作為其結果，可以得到下述的研究成^ ο(i)通過將具有在Ag合金中進而含有0. 05 1質量％的Mg的成分組成的Ag合 金靶進行濺射而得到的厚度為5 15nm的Ag合金膜，其具有低吸收率、高耐凝聚性、高耐 腐蝕性等的特性，即使長時間反復進行記錄、或者記錄/再生/消去也可抑制吸收率的增 加，且作為光記錄介質的半透明反射膜具有優異的特性，所述Ag合金具有含有0. 001 0. 1 質量％的Ca、余量包含Ag的成分組成。(ii)上述(i)記述的通過使用在Ag合金中進而含有0.1 2質量％ WCuWAg 合金靶進行濺射而得到的厚度為5 15nm的Ag合金膜，其可以維持低吸收率，同時進而具 有更高耐凝聚性、高耐腐蝕性等的特性，該Ag合金膜作為光記錄介質的半透明反射膜具有 優異的特性，所述Ag合金具有含有0. 001 0. 1質量％的Ca、0. 05 1質量％的Mg、余量 包含Ag和不可避免雜質的組成。(iii)上述(i)記述的通過使用在Ag合金中進而含有0.05 1質量％的稀土元 素的Ag合金靶進行濺射而得到的厚度為5 15nm的Ag合金膜，其可以維持低吸收率，同 時進而具有更高耐凝聚性、高耐腐蝕性等的特性，該Ag合金膜作為光記錄介質的半透明反 射膜具有優異的特性，所述Ag合金具有含有0. 001 0. 1質量％的Ca、0. 05 1質量％的Mg、余量包含Ag和不可避免雜質的組成。(iv)對于上述⑴記述的通過使用在Ag合金中進而含有0. 1 2質量％的Cu和 0. 05 1質量％的稀土元素的Ag合金靶進行濺射而得到的厚度為5 15nm的Ag合金膜， 其可以維持低吸收率，同時進而具有更高耐凝聚性、高耐腐蝕性等的特性，該Ag合金膜作 為光記錄介質的半透明反射膜具有優異的特性，所述Ag合金具有含有0. 001 0. 1質量％ 的Ca、0. 05 1質量％的Mg、余量包含Ag和不可避免雜質的組成。(ν)包含Ag合金的半透明反射膜，與現有的Ag合金半透明反射膜相比，其可以維 持低吸收率，同時進而具有更高耐凝聚性、高耐腐蝕性等的特性，因此，入射光的吸收率經 時變化進一步變少，所述Ag合金具有下述的組成，即，含有0. 05 1質量％的Mg、進而在稀 土元素中以合計0. 05 1質量％的量含有Eu、Pr、Ce和Sm中的1種或者2種以上、余量包 含Ag和不可避免雜質。(vi)上述(ν)記述的半透明反射膜可以通過使用包含Ag合金的Ag合金靶進行濺 射而得，所述Ag合金具有下述的組成，即，含有0. 05 1質量％的Mg、進而以合計0. 05 1質量％的量含有Eu、Pr、Ce和Sm中的1種或者2種以上、余量包含Ag和不可避免雜質。本發明基于上述研究成果而完成，其具有下述的特征，(1)包含銀合金的光記錄介質用半透明反射膜，所述銀合金具有含有0. 001 0. 1 質量％的&、0. 05 1質量％的Mg、余量包含Ag和不可避免雜質的組成，(2)包含銀合金的光記錄介質用半透明反射膜，所述銀合金具有含有0. 001 0. 1 質量％的&、0. 05 1質量％的1%、0. 1 2質量％的01、余量包含Ag和不可避免雜質的 組成，(3)包含銀合金的光記錄介質用半透明反射膜，所述銀合金具有含有0. 001 0. 1 質量％的Ca、0. 05 1質量％的Mg、0. 05 1質量％的稀土元素、余量包含Ag和不可避免 雜質的組成，(4)包含銀合金的光記錄介質用半透明反射膜，所述銀合金具有含有0. 001 0. 1 質量％的Ca、0. 05 1質量％&Mg、0. 1 2質量％的Cu、0. 05 1質量％的稀土元素、余 量包含Ag和不可避免雜質的組成。進而，本發明人們弄清楚了通過使用具有上述⑴ (iv)所述組成的Ag合金靶 進行濺射而得的厚度為50 150nm的Ag合金膜，由于其熱傳導性優異，進而高耐凝聚性、 高耐腐蝕性等優異，所以該Ag合金膜作為光記錄介質的反射膜具有優異的特性。因此，本 發明也具有下述的特征，(5)包含銀合金的光記錄介質用反射膜，所述銀合金具有含有0.001 0. 1質量％ 的Ca、0. 05 1質量％的Mg、余量包含Ag和不可避免雜質的組成，(6)包含銀合金的光記錄介質用反射膜，所述銀合金具有含有0.001 0. 1質量％ 的Ca、0. 05 1質量％的1%、0. 1 2質量％的Cu、余量包含Ag和不可避免雜質的組成，(7)包含銀合金的光記錄介質用反射膜，所述銀合金具有含有0.001 0. 1質量％ 的Ca、0. 05 1質量％的Mg、0. 05 1質量％的稀土元素、余量包含Ag和不可避免雜質的 組成。(8)包含銀合金的光記錄介質用反射膜，所述銀合金具有含有0.001 0. 1質量％ 的Ca、0. 05 1質量％的Mg、0. 1 2質量％的Cu、0. 05 1質量％的稀土元素、余量包含Ag和不可避免雜質的組成。上述(1) (4)所述的包含銀合金的光記錄介質用半透明反射膜和上述(5) (8)所述的包含銀合金的反射膜可以使用與它們具有相同成分組成的Ag合金濺射靶來制 作。因此，本發明也具有下述的特征，(9)包含銀合金的、用于形成光記錄介質用半透明反射膜或者光記錄介質用反射 膜的Ag合金濺射靶，所述銀合金具有含有0. 001 0.1質量％的&、0. 05 1質量％的 Mg、余量包含Ag和不可避免雜質的組成，(10)包含銀合金的、用于形成光記錄介質用半透明反射膜或者光記錄介質用反射 膜的Ag合金濺射靶，所述銀合金具有含有0. 001 0.1質量％的&、0.05 1質量％的 Mg、0. 1 2質量％的Cu、余量包含Ag和不可避免雜質的組成，(11)包含銀合金的、用于形成光記錄介質用半透明反射膜或者光記錄介質用反射 膜的Ag合金濺射靶，所述銀合金具有含有0. 001 0.1質量％的&、0. 05 1質量％的 Mg、0. 05 1質量％的稀土元素、余量包含Ag和不可避免雜質的組成。(12)包含銀合金的、用于形成光記錄介質用半透明反射膜或者光記錄介質用反射 膜的Ag合金濺射靶，所述銀合金具有含有0. 001 0. 1質量％的Ca、0. 05 1質量％的Mg、 0. 1 2質量％的Cu、0. 05 1質量％的稀土元素、余量包含Ag和不可避免雜質的組成。另外，本發明也具有下述的特征，(13)包含銀合金的光記錄介質的半透明反射膜，所述銀合金具有下述的組成，即， 含有0. 05 1質量％的Mg、進而以合計0. 05 1質量％的量含有Eu、Pr、Ce和Sm中的1 種或者2種以上、余量包含Ag和不可避免雜質，(14)包含銀合金的、光記錄介質的半透明反射膜形成用Ag合金濺射靶，所述銀合 金具有下述的組成，即，含有0. 05 1質量％的Mg、進而以合計0. 05 1質量％的量含有 Eu、Pr、Ce和Sm中的1種或者2種以上、余量包含Ag和不可避免雜質。以下，對于上述⑴ ⑷的光記錄介質用半透明反射膜、上述(5) ⑶的光記 錄介質用反射膜、以及上述(9) (12)的Ag合金濺射靶進行說明。用于形成上述(1) (4)的半透明反射膜和(5) (8)的反射膜的上述(9) (12)的Ag合金濺射靶可以如下述那樣來制作，S卩，作為原料，準備純度為99. 99質量％以上 的高純度Ag、純度為99. 9質量％以上的高純度Mg、純度為99. 9質量％以上的高純度Ca，首 先制作將高純度Ag在高真空或者惰性氣體氛圍中熔融而得的高純度Ag熔融液，在這些高 純度Ag熔融液中以形成規定的含量這樣來添加Ca，之后通過在真空或者惰性氣體氛圍中 進行鑄造來預先制成Ag-Ca母合金。進而，制作將高純度Ag在高真空或者惰性氣體氛圍中熔融而得的高純度Ag熔融 液，在些Ag熔融液中以形成規定的含量這樣來添加Mg，在這樣得到的含有Mg的Ag合金熔 融液中添加預先制成的Ag-Ca母合金，使含有的Ca為規定的成分組成這樣的方式來調節成 分，之后根據需要添加Cu和/或稀土元素，將得到的Ag合金熔融液在鑄模中鑄造來制備鑄 錠，通過將這些鑄錠在冷加工后進行機械加工，可以制成上述(9) (12)的Ag合金濺射 靶。使用這樣制成的Ag合金靶、并使用通常的濺射裝置可以形成本發明的包含Ag合金的 上述⑴ ⑷的半透明反射膜和(5) ⑶的反射膜。接著，對于本發明的包含Ag合金的上述(1) (4)的半透明反射膜和(5) ⑶的反射膜、以及包含該Ag合金的用于形成半透明反射膜和反射膜的上述(9) (12)的濺 射靶的成分組成如上述那樣限定的理由進行說明。Ca:Ca在Ag中幾乎不固溶，但可通過利用濺射法形成膜而強制固溶在由Ag形成的晶 粒內，由此抑制Ag在半透明反射膜和反射膜的晶粒內的自擴散，進而Ca也在晶界析出，由 于向Ag內部的強制固溶和向晶界的析出這兩者的效果，膜即使被加熱也可以防止晶粒之 間的結合，對于防止半透明反射膜和反射膜的凝聚具有促進效果，因此添加，但當Ca的含 量小于0. 001質量％時不能得到期望的效果，另一方面，當Ca的含量超過0. 1質量％時，Ag 合金的半透明反射膜和反射膜的熱導率降低，從而不是優選的。因此，將在Ag合金的半透 明反射膜和反射膜以及用于形成該Ag合金的半透明反射膜和反射膜的濺射靶中含有的這 些Ca的含量定為0. 001 0. 1質量％。更優選的范圍是0. 01 0. 05質量％。Mg Mg在Ag中固溶，具有抑制半透明反射膜和反射膜的經時變化、提高耐凝聚性和耐 腐蝕性的作用，但當Mg的含量小于0. 05質量％時，由于半透明反射膜的吸收率在短時間內 增加，所以對于經時變化的抑制和耐凝聚性的提高不能發揮充分的效果，另一方面，當含量 大于1質量％時，半透明反射層的入射光的吸收率變大，同時反射膜的反射率降低，光記錄 盤的第二記錄層的記錄或者再生效率惡化，從而不是優選的。因此，將在Ag合金的半透明 反射膜和反射膜以及用于形成該Ag合金的半透明反射膜和反射膜的濺射靶中含有的這些 Mg的含量定為0. 05 1質量％。更優選的范圍是0. 1 0. 3質量％。Cu Cu在Ag中固溶，具有提高半透明反射膜和反射膜的耐凝聚性和耐腐蝕性的作用， 因此可以根據需要而添加，但當其添加量小于0. 1質量％時，不能發揮提高耐凝聚性的效 果，另一方面，當添加量超過2質量％時，半透明反射膜的吸收率增大，進而反射膜的反射 率降低，因此2層記錄光盤的第二記錄層的記錄或者再生效率惡化，從而不是優選的。因 此，Cu的添加量定為0. 1 2質量％。更優選的范圍是0. 2 0. 6質量％。稀土元素稀土元素除了在Ag中稍有固溶以外，另外可與Ag在晶界形成金屬間化合物，具有 提高半透明反射膜和反射膜的耐凝聚性的作用，因此可以根據需要而添加，但當其添加量 小于0. 05質量％時，不能發揮提高耐凝聚性的效果，另一方面，當添加量超過1質量％時， 給半透明反射膜和反射膜的耐腐蝕性帶來壞的影響，進而使熱導率降低，從而不是優選的。 因此，稀土元素的添加量定為0.05 1質量％。更優選的范圍是0.2 0.5質量％。更優 選稀土元素是Tb、Gd、Dy、Pr、Nd、Eu、La、Ce中的1種或者2種以上。接著，對于上述(13)的半透明反射膜以及上述(14)的Ag合金濺射靶進行說明。用于形成上述(13)的半透明反射膜的上述(14)的Ag合金濺射靶可以如下述那 樣來制作，即，作為原料，準備純度為99. 99質量％以上的高純度Ag、純度為99. 9質量％以 上的高純度Mg、純度為99質量％以上的高純度Eu、Pr、Ce和Sm，首先，制作將高純度Ag在 高真空或者惰性氣體氛圍中熔融而得的高純度Ag熔融液，在這些Ag熔融液中以形成規定 的含量這樣來添加Mg，在這樣得到的含有Mg的Ag合金熔融液中添加Eu、Pr、Ce和Sm中的 1種或者2種以上，將得到的Ag合金熔融液在鑄模中鑄造來制備鑄錠，通過將這些鑄錠在冷 7加工后進行機械加工，可以制成上述(14)的Ag合金濺射靶。使用這樣制成的Ag合金靶、 并使用通常的濺射裝置可以形成本發明的包含Ag合金的上述(13)的半透明反射膜。接著，對于本發明的包含Ag合金的上述(13)的半透明反射膜和包含該Ag合金 的用于形成半透明反射膜的上述(14)的濺射靶的成分組成如上述那樣限定的理由進行說 明。Mg Mg在Ag中固溶，具有抑制半透明反射膜的經時變化、提高耐凝聚性和耐腐蝕性的 作用，但當Mg的含量小于0. 05質量％時，由于半透明反射膜的吸收率在短時間內增加，所 以對于提高耐凝聚性不能發揮充分的效果，因此，不能得到充分抑制入射光吸收率的經時 變化的效果，從而不是優選的。另一方面，當Mg的含量大于1質量％時，半透明反射層的入 射光的吸收率變大，光記錄盤的第二記錄層的記錄或者再生效率惡化，從而不是優選的。因 此，將在Ag合金半透明反射膜和用于形成該Ag合金半透明反射膜的濺射靶中含有的這些 Mg的含量定為0. 05 1質量％。更優選的范圍是0. 1 0. 3質量％。Eu、Pr、Ce 禾口 Sm 這些稀土元素除了在Ag中稍有固溶以外，另外可與Ag在晶界形成金屬間化合物， 通過與Mg—同含有，具有提高半透明反射膜的耐凝聚性的作用，因此添加，但當其添加量 小于0. 05質量％時，不能發揮提高耐凝聚性的效果，另一方面，當添加量超過1質量％時， 給半透明反射膜的耐腐蝕性帶來壞的影響，進而使熱導率降低，從而不是優選的。因此，上 述稀土元素的添加量定為0. 05 1質量％。更優選的范圍是0. 2 0. 5質量％。本發明的使用Ag合金濺射靶制成的光記錄介質用半透明反射膜和反射膜，與現 有的使用Ag合金濺射靶制成的光記錄介質用半透明反射膜和反射膜相比具有幾乎相等的 耐腐蝕性，進而具有與純Ag制的半透明反射膜和反射膜相近的高熱導率和低吸收率，且可 以抑制由半透明反射膜的經時變化導致的膜的吸收率增大和由反射膜的經時變化導致的 反射率的降低，能夠制造可長期使用的光記錄介質，對于傳媒(media)產業的發展能夠做 出巨大的貢獻。
具體實施例方式作為原料，準備純度為99. 99質量％以上的Ag、純度為99. 9質量％以上的Ca、純 度為99. 9質量％以上的Mg、純度為99. 999質量％以上的Cu和純度為99質量％以上的Tb、 Gd、Dy、Pr、Nd、Eu、La、Ce。首先，將Ag在高頻真空熔融爐中進行熔融來制備Ag熔融液，在該Ag熔融液中添 加Ca使其含量為6質量％，熔融后填充Ar氣體使爐內壓力變至大氣壓，之后在石墨鑄模中 進行鑄造，制成Ag-6質量％ Ca母合金。接著，將Ag在高頻真空熔融爐中進行熔融來制備Ag熔融液，在該Ag熔融液中添 加Mg，進而添加上述Ag-6質量％ Ca母合金并熔融，進而根據需要添加Cu、Tb、Gd、Dy、Pr、 Nd、EU、La、Ce并進行熔融、鑄造，由此制成鑄錠，將得到的鑄錠進行冷軋后，在大氣中、600°C 的條件下保持2小時來實施熱處理，接著通過進行機械加工制成具有直徑為152. 4mm、厚度 為6mm的尺寸、且具有表1 2所示成分組成的本發明靶IA 46A和比較靶IA 12A。進而作為比較，通過用高頻真空熔融爐將Ag熔融來制備Ag熔融液，利用石墨制鑄模將得到的Ag熔融液在Ar氣體氛圍中進行鑄造，由此制成鑄錠，將得到的鑄錠以規定的大 小切割后，在室溫下進行冷軋，之后在550°C、保持1小時的條件下施加熱處理，接著通過進 行機械加工制成具有直徑為152. 4mm、厚度為6mm尺寸、表2所示的包含純Ag的現有靶IA0進而作為比較，通過用高頻真空熔融爐將Ag熔融來制備Ag熔融液，在得到的Ag 熔融液中添加上述々8-6質量％ Ca母合金來制備Ag合金熔融液，利用石墨制鑄模將該Ag合 金熔融液在Ar氣體氛圍中進行鑄造，由此制成鑄錠，將得到的鑄錠以規定的大小切割后， 在室溫下進行冷軋，之后在550°C、保持1小時的條件下施加熱處理，接著通過進行機械加 工制成具有直徑為152. 4mm、厚度為6mm的尺寸、且具有表2所示成分組成的包含Ag合金的 現有靶2A。實施例IA將這些本發明靶IA 46A、比較靶IA 12A和現有靶IA 2A分別焊接在無氧 銅制的被襯板上，并將其安裝在直流磁控管濺射裝置上，利用真空排氣裝置將直流磁控管 濺射裝置內排氣至IX 10_4Pa后，引入Ar氣體并形成1. OPa的濺射壓，接著利用直流電源在 靶上外加250W的直流濺射功率，使在具有縱向為30mm、橫向為30mm、厚度為Imm尺寸的帶 有氧化膜的Si晶片基板和具有縱向為30mm、橫向為30mm、厚度為0. 6mm尺寸的聚碳酸酯基 板與上述靶之間產生等離子體，所述Si晶片基板和聚碳酸酯基板與上述靶呈對向且設置 70mm的間隔、并與靶平行來配置，從而形成厚度為IOOnm的具有表3 7所示成分組成的包 含Ag合金的本發明反射膜IA 46A、比較反射膜IA 12A和現有反射膜IA 2A。對于這樣形成的厚度為IOOnm的本發明反射膜IA 46A、比較反射膜IA 12A和 現有反射膜IA 2A，進行下述的試驗。(a)反射膜的熱導率測定通過四探針法測定在帶有氧化膜的Si晶片基板上形成的厚度為IOOnm的具有表 3 7所示成分組成的本發明反射膜IA 46A、比較反射膜IA 12A和現有反射膜IA 2A的電阻率，利用基于維德曼-弗朗茨定律的式子κ = 2.44X10_8T/p (其中，κ 熱導 率、Τ:絕對溫度、P 電阻率)由電阻率值通過計算求得熱導率，其結果示于表3 7。(b)反射膜的耐腐蝕性試驗利用分光光度計測定形成于聚碳酸酯基板上的反射膜在剛成膜后的反射率，其結 果示于表3 7，之后將形成的包含Ag合金的反射膜在溫度為80°C、相對濕度為85%的恒 溫恒濕槽中保持200小時，然后再次在相同的條件下測定反射率。由得到的反射率數據可 以求得在405nm和650nm的波長下的各反射率，其結果示于表3 7，評價作為光記錄介質 用反射膜的耐腐蝕性。(c)反射膜的晶粒的粗大化試驗利用掃描型探針顯微鏡測定形成于帶有氧化膜的Si晶片基板上的反射膜在剛成 膜后的平均面粗度，其結果示于表3 7，之后將形成的反射膜在真空中、250°C的溫度下保 持30分鐘，然后再次在相同的條件下測定表面粗度，其結果示于表3 7，對于晶粒的粗大 化的容易度進行評價。其中，掃描型探針顯微鏡使用七< 二 -、> y ^ J > ^株式會社制 SPA-400AFM,測定1 μ mX 1 μ m區域的平均面粗度(Ra)。平均面粗度是在JISB0601中定義 的、為了能夠適用于面而將中心線平均粗度擴展到三維空間的粗度，可以用下式表示。
Ra= 1/S0 f f F (Χ, Y) -Z0IdXdY其中，F(X，Y)全部測定數據表示的面、S0 指定面假定為理想的平面時的面積、Z0 指定面內的Z數據的平均值。[表 1]
權利要求
光記錄介質的半透明反射膜，其特征在于，包含銀合金，該銀合金具有含有0.05～1質量％的Mg、0.2～0.5質量％的Eu、余量包含Ag和不可避免雜質的組成。
2.光記錄介質的半透明反射膜，其特征在于，包含銀合金，該銀合金具有含有0.05 1質量％的Mg、0. 2 0. 5質量％的Eu、進而含有Pr、Ce和Sm中的1種或者2種以上與Eu 的合計為大于0. 2質量％而在1質量％以下、余量包含Ag和不可避免雜質的組成。
3.光記錄介質的半透明反射膜形成用Ag合金濺射靶，其特征在于，包含銀合金，該銀 合金具有含有0. 05 1質量％的Mg、0. 2 0. 5質量％的Eu、余量包含Ag和不可避免雜質 的組成。
4.光記錄介質的半透明反射膜形成用Ag合金濺射靶，其特征在于，包含銀合金，該銀 合金具有含有0. 05 1質量％的Mg、0. 2 0. 5質量％的Eu、進而含有Pr、Ce和Sm中的1 種或者2種以上與Eu的合計為大于0. 2質量％而在1質量％以下、余量包含Ag和不可避 免雜質的組成。
全文摘要
本發明涉及光記錄介質用半透明反射膜和反射膜、以及用于形成這些半透明反射膜和反射膜的Ag合金濺射靶。光記錄介質的半透明反射膜，其特征在于，包含銀合金，該銀合金具有含有0.05～1質量％的Mg、0.2～0.5質量％的Eu、余量包含Ag和不可避免雜質的組成。光記錄介質的半透明反射膜形成用Ag合金濺射靶，其特征在于，包含銀合金，該銀合金具有含有0.05～1質量％的Mg、0.2～0.5質量％的Eu、余量包含Ag和不可避免雜質的組成。
文檔編號C23C14/14GK101942644SQ20101028903
公開日2011年1月12日 申請日期2006年12月28日 優先權日2005年12月29日
發明者三島昭史, 小見山昌三, 山口剛 申請人:三菱麻鐵里亞爾株式會社