專利名稱：濺鍍機真空腔抽真空裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種濺鍍機，更具體地說涉及一種用于光盤的濺 鍍機真空腔抽真空裝置。
背景技術：
光盤生產中常用的鍍膜方法主要有蒸鍍和濺鍍。二十世紀的前 50年，世界各國科技人員經過大量的試驗研究基本建立了濺射理論。 在二十世紀的后50年里，薄膜技術獲得了騰飛，這主要得益于真空技 術在鍍膜方面的應用，使真空鍍膜實現了產業化。由于有了理論基礎
和成熟的工藝，各種鍍膜設備也不斷推陳出新。其中Leybold公司較 早的開發出各種鍍膜設備，也包括用于光盤生產的真空濺鍍機。之后， 廣泛用于光盤的濺鍍機還有德國Balzers和Singulus公司的濺鍍機。
蒸鍍是在真空中將金屬加熱蒸發產生金屬蒸氣，使其附著在基板 上凝聚成薄膜。蒸鍍的基板材質沒有限制，從紙、金屬到陶磁都能使 用。蒸鍍有加熱式蒸鍍，還有電子槍加熱式及離子輔助式蒸鍍。蒸鍍 是光盤母盤制作中常用的方式之一。
濺鍍是通過離子碰撞而獲得薄膜的一種工藝，主要分為兩類陰 極濺鍍和射頻濺鍍。陰極濺鍍一般用于濺鍍導體如鋁、銀或半導體。 射頻濺鍍一般用于濺鍍非導體如。濺鍍主要利用輝光放電將氬氣離子 撞擊耙材表面；靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。同時 用強力磁鐵將電子呈螺旋狀運動，加速靶材周圍的氬氣離子化，使得 氬氣離子對陰極靶材的撞擊機率增加，形成雪崩式的狀態，以此提高 濺鍍速率。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜好。
為了確保濺鍍質量，實行陰極濺鍍時對環境有較高的要求。首先 要在真空環境條件下，高真空可以減少氧化物的產生；使用惰性工藝 氣體，通常為氬氣，作為離子介質撞擊靶材；形成電場——耙材為陰
極，盤片為陽極；在真空腔內，用強力磁鐵產生磁場；由于濺鍍時產 生高熱，須用冷卻水對陰極進行及時冷卻。
光盤的濺鍍過程先將真空腔抽真空達到設定值，將盤片放入腔 內，真空腔內盤片會被抽真空至高真空范圍。注入氬氣到真空腔，這 時真空腔的真空度降低，此時對靶材(陰極)和盤片(陽極)之間施 以幾百伏特的直流電壓，使氬氣在電場中被離子化，產生氬離子及自 由電子、在電場的作用下，帶正電荷的氬離子向陰極(靶材)加速， 而自由電子向陽極加速，被加速的氬離子和自由電子撞向其他氬原 子，因動能轉移使更多的氬原子被離子化，最后產生雪崩現象，等離 子體持續自行放電。大量氬離子撞擊靶材表面，氬離子的動能轉移至 耙材原子， 一部份轉化成耙材原子的動能，當靶材原子獲得足夠動能， 它們會脫離靶材表面并自由地在濺鍍腔內移動，最后覆蓋于盤片及腔 內其他表面。而氬離子撞擊靶材的另一部份動能轉化為熱，因此靶材 必須用冷卻水冷卻。為使盤片濺鍍層的厚度均勻，靶材周圍的磁場分 布會提高等離子體的一致性。
對于濺鍍機而言，真空腔是必不可少的，在進行濺鍍前，需要對 真空腔進行抽真空，因此需要抽真空裝置，在濺鍍完成后，則需要解 除真空腔的真空狀態，即對真空腔進行充氣，因此需要充氣裝置。
如圖1所示，現有的濺鍍機，其真空腔的抽真空裝置，包括真空
腔l、高速分子泵2、油式真空泵3，所述真空腔l的出口連接高速 分子泵2，高速分子泵2的出口通過導管4連接油式真空泵3。
當異常停機或停電時，由于真空腔的真空度非常高，在真空腔的 負壓作用下，油式真空泵內的真空油就會沿著導管被吸到高速分子泵 及真空腔腔內，造成高速分子泵損壞、真空腔被污染。
發明內容
本實用新型的目的是對現有技術進行改進，提供一種濺鍍機真空 腔抽真空裝置，可以避免油式真空泵內的真空油被吸到高速分子泵及 真空腔腔內，采用的技術方案如下
本實用新型的濺鍍機真空腔抽真空裝置，包括真空腔、高速分子 泵、油式真空泵，其特征在于還包括電磁閥，所述真空腔的出口連 接高速分子泵，高速分子泵的出口通過導管連接油式真空泵，導管中 部連接電磁閥。當異常停機或停電時，電磁閥就會打開，使得導管與 外界連通，這樣油式真空泵內的壓力與外界的大氣壓相同，油式真空 泵內的真空油就不會受到真空腔的負壓作用，因此油式真空泵內的真 空油不會在真空腔的負壓作用沿著導管被吸入高速分子泵，從而起到 保護高速分子泵的目的。
本實用新型對照現有技術的有益效果是，由于設有電磁閥，因此 當異常停機或停電時，電磁閥就會打開，讓導管與外界連通，使得油 式真空泵的真空油不會沿著導管被吸入高速分子泵，能夠有效地保護 高速分子泵，實際使用效果好、結構簡單、易于實現。
圖1是本實用新型現有技術的結構示意圖； 圖2是本實用新型優選實施例的結構示意圖。
具體實施方式
如圖2所示，本優選實施例中的濺鍍機真空腔抽真空裝置，包括
真空腔l、高速分子泵2、油式真空泵3、電磁閥5，所述真空腔l的 出口連接高速分子泵2，高速分子泵2的出口通過導管4連接油式真 空泵3，導管4中部連接電磁閥5。
當異常停機或停電時，電磁閥5就會打開，使得導管4與外界連 通，這樣油式真空泵3內的壓力與外界的大氣壓相同，油式真空泵3 內的真空油就不會受到真空腔1的負壓作用，因此油式真空泵3內的 真空油不會在真空腔1的負壓作用沿著導管4被吸入高速分子泵2， 從而起到保護高速分子泵2的目的。
權利要求1、一種濺鍍機真空腔抽真空裝置，包括真空腔、高速分子泵、油式真空泵，其特征在于還包括電磁閥，所述真空腔的出口連接高速分子泵，高速分子泵的出口通過導管連接油式真空泵，導管中部連接電磁閥。
專利摘要一種濺鍍機真空腔抽真空裝置，包括真空腔、高速分子泵、油式真空泵，其特征在于還包括電磁閥，所述真空腔的出口連接高速分子泵，高速分子泵的出口通過導管連接油式真空泵，導管中部連接電磁閥。本實用新型對照現有技術的有益效果是，由于設有電磁閥，因此當異常停機或停電時，電磁閥就會打開，讓導管與外界連通，使得油式真空泵的真空油不會沿著導管被吸入高速分子泵，能夠有效地保護高速分子泵，實際使用效果好、結構簡單、易于實現。
文檔編號C23C14/34GK201209163SQ20082013927
公開日2009年3月18日 申請日期2008年10月14日 優先權日2008年10月14日
發明者郭曉明 申請人:廣東中唱一帆科技發展有限公司