專利名稱：減少鍍膜沉積的夾鉗的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種用于鍍膜機臺的夾鉗，特別涉及一種用于減少鍍膜沉積 的夾鉗。
背景技術：
薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,也 稱為TFT-LCD)因具有良好的顯示畫質、反應時間可以在40ms以下、觀賞 角度可以達到160度、對比率可以超過150: 1以上等優點，而廣泛地應用 于包括數字相機、液晶投影機、筆記本電腦、液晶監視器等電子產品中，是 當今顯示器產業的主流產品。TFT-LCD制造可區分為在玻璃基板上制作薄膜 晶體管(TFT)陣列的制程、上下面板玻璃的貼合與液晶注入及液晶顯示器 模塊組裝等制程。TFT-LCD的薄膜制程大體包括清洗、成膜、涂光刻膠、曝 光、顯影、蝕刻、去光刻膠、檢測等過程，在玻璃基板經過多道掩模制程最 終形成薄膜晶體管(TFT)陣列。請參閱圖1A至圖1C。圖IA是現有技術的用于鍍膜機臺的夾鉗的立體 圖。圖1B是圖1A中的箭頭B所示方向的夾鉗的側視圖。圖IC是圖IA中 的箭頭C所示方向的夾鉗的側視圖。夾鉗(Clamp) IO包括本體12以及夾 持部14。夾持部14包括上突出緣141以及下突出緣142，用來夾持一夾持 物，例如玻璃基板。請參閱圖2，圖2是夾鉗夾持玻璃基板時造成破片的示意圖。夾鉗10的 上突出緣141的長度過短，在濺鍍過程中易造成鍍膜沉積。換言之，夾鉗10 因設計問題，易造成鍍膜沉積，而長時間使用后，鍍膜沉積厚度過厚使得夾 鉗10動作時易與玻璃基板20產生碰撞，而造成玻璃基板20的缺角，甚至 增加玻璃基板20破片的機率。發明內容有鑒于此，本發明的目的是提供一種用于鍍膜機臺的夾鉗，以解決玻璃 基板缺角及破片的問題。本發明提供了一種減少鍍膜沉積的夾鉗，其包括一本體以及一夾持部。 該夾持部自該本體彎折延伸且垂直于該本體，以用來夾持一夾持物，且該夾 持部包括一基座、 一突出緣以及兩個凹槽該基座連接于本體；該突出緣設 于基座的一第一側且突出于基座；兩個凹槽分別設于基座的一第二側以及相 對于該第二側的一第三側，該第二側以及該第三側實質上垂直于該第一側。本發明是用于鍍膜機臺的夾鉗，該夾鉗具有較長的突出緣以及兩個凹 槽。進行鍍膜流程時，所述凹槽可用來沉積濺鍍時累積的鍍膜，降低因鍍膜 沉積區域過厚而造成玻璃基板缺口或破片的問題，另外，較長的突出緣增加 覆蓋，可減少基座與凹槽的鍍膜沉積。為讓本發明的上述內容能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，并結合附 圖作詳細說明如下。
圖1A是現有技術的用于鍍膜機臺的夾鉗的立體圖。 圖1B是圖1A中的箭頭B所示方向的夾鉗的側視圖。 圖1C是圖1A中的箭頭C所示方向的夾鉗的側視圖。 圖2是夾鉗夾持玻璃基板時造成破片的示意圖。 圖3A是本發明的用于鍍膜機臺的夾鉗的立體圖。 圖3B是圖3A中的箭頭D所示方向的夾鉗的側視圖。 圖3C是圖3A中的箭頭E所示方向的夾鉗的側視圖。 其中，附圖標記說明如下10夾鉗14夾持部142下突出緣100夾鉗1021本體的頂側106基座1062基座的第二側12本體141上突出緣20玻璃基板102本體104夾持部1061基座的第一側1063基座的第三側108突出緣 IIO凹槽 1101凹槽的內側具體實施方式
請參閱圖3A至圖3C。圖3A是本發明的用于鍍膜機臺的夾鉗的立體圖。 圖3B是圖3A中的箭頭D所示方向的夾鉗的側視圖。圖3C是圖3A中的箭 頭E所示方向的夾鉗的側視圖。夾鉗100用于一鍍膜機臺，此機臺可為金屬 濺鍍機臺，但不限于此，本領域的普通技術人員也可根據實際需求調整所應 用的機臺。夾鉗100用來夾持傳送至鍍膜機臺的夾持物，例如玻璃基板，此 處僅是舉例，并不限于此，本領域的普通技術人員也可根據需求變更夾持物 的類別。夾鉗100包括本體102以及夾持部104。夾持部104自本體102彎 折延伸且垂直于本體102。夾持部104包括基座106、突出緣108以及兩個 凹槽IIO。所述凹槽110可作為鍍膜沉積的區域，使大部分的鍍膜可沉積于 此，減少鍍膜沉積在易與玻璃基板接觸之處，可避免碰撞造成玻璃基板的缺 角與破片。參考圖3B，基座106連接于本體102，突出緣108設于基座106的第一 側1061且突出于基座106。兩個凹槽110分別設于基座106的第二側1062 以及相對于第二側1062的第三側1063，且第二側1062以及第三側1063實 質上垂直于第一側1061。在較佳的實施例中，兩個凹槽110以基座106對稱 排列、且近似呈矩形，此外兩個凹槽110的容積實質上相等，但不限于此， 本領域的普通技術人員根據實際需求可調整凹槽形狀與容積比例。參考圖3A 及圖3C，弧角可減少鍍膜的沉積，本體102的頂側1021可為一弧角，以及 兩個凹槽110的內側1101可分別為一弧角，但本發明不限于此，也可根據 實際需求而調整頂側或內側的設計。請參閱圖3C，在較佳的實施例中，基座106的一外緣至突出緣108的 一頂緣的距離dl的長度實質上大于3mm，并參閱圖3B與圖3C，兩凹槽110 的長度L、寬度W實質上大于或等于lmm;基座106的長度&是凹槽110 的長度L的至少8倍。基座106的寬度可約為凹槽110的寬度W;基座106 的高度可約為凹槽110的高度H，另外高度H也可相近于夾持物的厚度，以 便夾鉗100能夠挾持夾持物。舉例而言，本發明的兩個凹槽110的長度L約lmm、寬度W約lmm、高度H約3.5mm。突出緣108的頂緣與基座106的 外緣距離山約4mm，基座106的長度d2約8mm，然而本發明并不以上述描 述為限，本領域的普通技術人員可根據實際需求而調整其尺寸與比例。請一并參閱圖1A至圖1C以及圖3A至圖3C，本發明的夾鉗100將現 有技術的夾鉗10的下突出緣142削平，如此一來可減少鍍膜沉積于此，避 免與玻璃基板碰撞產生缺角與破片的風險。除此之外，本發明的夾鉗100將 現有技術的夾鉗10的區域A切削出一塊凹槽110，作為鍍膜沉積區域，使 絕大部分鍍膜沉積堆于兩側的凹槽110，減少鍍膜沉積在易與玻璃基板接觸 之處，可避免碰撞造成玻璃基板的缺角及破片。另外，與現有技術的夾鉗IO 的上突出緣141相比，本發明的夾鉗100的突出緣108比現有的夾鉗10的 上突出緣141的長度明顯增加，甚至可為原本的兩倍，例如本發明的夾鉗 100的突出緣108的長度可約4mm。換句話說，夾鉗100具有較長的突出緣 108，突出緣108的長度能增加覆蓋范圍以保護基座106與凹槽110，使其減 少被鍍膜沉積的機會，這樣的設計可降低因鍍膜沉積區域過厚而損害玻璃基 板的機率。相比于現有技術，本發明的用于金屬鍍膜機臺的夾鉗IOO提供較長的突 出緣108以及兩個凹槽110。在進行鍍膜流程時，凹槽110可用來沉積濺鍍 吋累積的金屬，降低因鍍膜沉積區域過厚而損害玻璃基板的機率。而較長的 突出緣108增加覆蓋保護以減少鍍膜沉積的機會。本發明的夾鉗相較于現有 技術的夾鉗更可減少鍍膜沉積過厚的問題，避免與玻璃基板碰撞產生缺角與 破片的風險。雖然本發明已經以實施例的形式進行了如上的解釋，然而其并非用以限 定本發明，本領域的普通技術人員在不脫離本發明的精神和范圍的前提下， 可對本發明進行各種更動與潤飾，并變型為其它不同的實施例，因此本發明 的保護范圍應以所附的權利要求界定的范圍為準。
權利要求
1.一種減少鍍膜沉積的夾鉗，包括一本體；以及一夾持部，其自該本體彎折延伸且垂直于該本體，以用來夾持一夾持物，該夾持部包括一基座，其連接于該本體；一突出緣，其設于該基座的一第一側且突出于該基座；以及兩個凹槽，其分別設于該基座的一第二側以及相對于該第二側的一第三側，該第二側以及該第三側實質上垂直于該第一側。
2. 如權利要求1所述的夾鉗， 離的長度實質上大于3mm。
3. 如權利要求1所述的夾鉗， lmm。
4. 如權利要求1所述的夾鉗 lmm。
5. 如權利要求1所述的夾鉗 的一個凹槽的長度的八倍。
6. 如權利要求1所述的夾鉗， 的一個凹槽的寬度。
7. 如權利要求1所述的夾鉗 的一個凹槽的高度。
8. 如權利要求1所述的夾鉗
9. 如權利要求1所述的夾鉗其中所述兩個凹槽的長度實質上大于等于 其中所述兩個凹槽的寬度實質上大于等于 其中該基座的長度至少為所述兩個凹槽中 其中該基座的寬度約等于所述兩個凹槽中 其中該基座的高度約等于所述兩個凹槽中其中該夾鉗用于一金屬濺鍍機臺。 其中該夾持物是一玻璃基板。
10. 如權利要求l所述的夾鉗，其中該本體的頂側為一弧角。
11. 如權利要求l所述的夾鉗，其中所述兩個凹槽的內側為一弧角。
12. 如權利要求1所述的夾鉗，其中所述兩個凹槽的容積實質上相等'
全文摘要
一種減少鍍膜沉積的夾鉗，其包括一本體以及一夾持部。夾持部自本體彎折延伸且垂直于該本體，以用來夾持一夾持物。夾持部包括一基座、一突出緣以及兩個凹槽。基座連接于本體。突出緣設于基座的一第一側且突出于基座。兩個凹槽分別設于基座的一第二側以及相對于第二側的一第三側，第二側以及第三側實質上垂直于第一側。凹槽可用來沉積濺鍍時累積的沉積鍍膜，以避免損害玻璃基板。
文檔編號C23C14/34GK101235481SQ20081008211
公開日2008年8月6日 申請日期2008年3月3日 優先權日2008年3月3日
發明者吳烱隆, 陳清煒 申請人:友達光電股份有限公司