專利名稱：Pecvd裝置的氣體管路結構的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種PECVD (等離子化學氣體相淀積)裝置的氣體管路的 結構。
背景技術：
如圖1所示，是現(xiàn)有PECVD裝置的氣體管路結構，上腔體供應氣體包 括SiH4-1、 SiH4-2、 NH3、 N20、 02、 HE、 C2F6，其中N20、 02、 HE和C2Fd 路結構分別經總手閥、壓力表、支路手閥、MFC和兩通氣動閥進入氣體分 配柜(GAS PANEL),而SiH4-1、 SiH廠2、 NH3支路結構分別經總手閥、壓力 表、支路手動閥、三通氣動閥、MFC和三通氣動閥進入氣體分配柜，所有 上腔體供應氣體均是在氣體分配柜內部混合后通過氣動閥和過濾器導入 反應腔的。另一路Ar氣體單獨一路直接通入腔體底部。在正常情況下，上 述設計結構是安全的，但是當出現(xiàn)SiH" 02和NH3的氣動閥門內漏時，還 原性的Si仏、NH3會和02反應生成Si0, SiON等顆粒堆積在管道內，影響 工藝。或者當SiH4在沒有充分吹掃干凈時,也會出現(xiàn)上述現(xiàn)象。
發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種PECVD裝置的氣體管路結構， 它可以防止管道堆積顆粒，保證工藝穩(wěn)定性和安全性。
為了解決以上技術問題，本發(fā)明提供了一種PECVD裝置的氣體管路 結構，由多路上腔體供應氣體通入氣體分配柜內混合后，經同一管路通入后端反應腔;其中多路上腔體供應氣體中的還原性氣體和氧化性氣體分別
由兩個管路通入氣體分配柜進行混合。
因為本發(fā)明將強還原性氣體和強氧化性氣體分開管路設計，可以有 效防止管道堆積顆粒，保證工藝穩(wěn)定性和安全性。
下面結合附圖和具體實施方式
對本發(fā)明作進一步詳細說明。
圖1是現(xiàn)有PECVD裝置的氣體管路結構示意圖2是本發(fā)明的PECVD裝置的氣體管路結構示意圖。
具體實施例方式
如圖2所示是本發(fā)明的PECVD裝置的氣體管路結構，本發(fā)明是將現(xiàn) 有PECVD裝置的氣體管路中所有上腔體供應氣體均在氣體分配柜內混合 的結構按照氣體性質變?yōu)閮陕窔怏w進入氣體分配柜內混合的結構。
本發(fā)明的PECVD裝置的氣體管路結構，由多路上腔體供應氣體通入 氣體分配柜內混合后，經同一管路通入后端反應腔；其中多路上腔體供應 氣體分為還原性氣體和氧化性氣體兩個部分，還原性氣體和氧化性氣體分 別由兩個管路通入氣體分配柜進行混合。還原性的氣體包括SiH4和N2， 氧化性氣體包括NH3、 N20、 C2F6、 02和He。
還原性氣體支路SiH4-l和SiH4-2,分別依次經過總手閥、壓力表、支 路手動閥、三通氣動閥、MFC和三通氣動閥；還原性氣體支路N2依次經過 總手閥、壓力表、支路手閥、MFC和兩通氣動閥；然后全部還原性氣體(包 括SiH廠1、 SiH廠2和N2)匯合為一個管路，再經過一個氣動閥和一個過濾 器通進入氣體分配柜內混合。另外氧化性氣體各支路中的N20、 C2F6、 02和He,分別依次經過總手 閥、壓力表、支路手閥、MFC和兩通氣動閥；氧化性氣體朋3依次經過總 手閥、壓力表、支路手動閥、三通氣動閥、MFC和三通氣動閥；然后全部 氧化性氣體(包括腿3、 N20、 C2F6、 02和He)匯合為一個管路，再經過一 個氣動閥和一個過濾器通進入氣體分配柜內混合。
因此還原性氣體和氧化性氣體分兩個管路最終在氣體分配柜內混 合。另一路Ar氣體則單獨一路直接通入反應腔底部。
另外本發(fā)明的還原性氣體的管路中由N2作為吹掃氣體，而氧化性氣 體的管路中不需要增加吹掃N2，可直接由He作為吹掃氣體。
權利要求
1、一種PECVD裝置的氣體管路結構，由多路上腔體供應氣體通入氣體分配柜內混合后，經同一管路通入后端反應腔；其特征在于，將所述多路上腔體供應氣體分中的還原性氣體和氧化性氣體分別由兩個管路通入所述的氣體分配柜進行混合。
2、 如權利要求1所述的PECVD裝置的氣體管路結構，其特征在于， 所述的還原性氣體包括Si仏和N2。
3、 如權利要求2所述的PECVD裝置的氣體管路結構，其特征在于， 所述還原性氣體的管路的吹掃氣體為N2。
4、 如權利要求1所述的PECVD裝置的氣體管路結構，其特征在于， 所述的氧化性氣體包括NH3、 N20、 C2F6、 02和He。
5、 如權利要求4所述的PECVD裝置的氣體管路結構，其特征在于， 所述氧化性氣體的管路的吹掃氣體為He。
6、 如權利要求1所述的PECVD裝置的氣體管路結構，其特征在于， 所述還原性氣體的管路和所述氧化性氣體的管路分別由一個氣動閥和一 個過濾器通入所述的氣體分配柜進行混合。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種PECVD裝置的氣體管路結構，由多路上腔體供應氣體通入氣體分配柜內混合后，經同一管路通入后端反應腔；將多路上腔體供應氣體分為還原性氣體和氧化性氣體兩個部分，還原性氣體和述氧化性氣體分別由兩個管路通入氣體分配柜進行混合。因為本發(fā)明將強還原性氣體和強氧化性氣體分開管路設計，可以有效防止管道堆積顆粒，保證工藝穩(wěn)定性和安全性。
文檔編號C23C16/44GK101445917SQ200710094290
公開日2009年6月3日 申請日期2007年11月27日 優(yōu)先權日2007年11月27日
發(fā)明者史劍峰, 張文華 申請人:上海華虹Nec電子有限公司