輪胎表面研磨裝置的制作方法

專利名稱：輪胎表面研磨裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及輪胎均衡機里的一種表面研磨裝置，該裝置具有包括用來去除輪胎不規則部分的研磨石料的子裝置。具體地說，本發明涉及一種表面研磨裝置，該裝置能夠在豎直方向上使子裝置向上重新定位，從而為允許具有大寬度的輪胎從下面通過而提供所需的空隙。更具體地說，本發明涉及一種具有拼合架的表面研磨裝置，承載子裝置的拼合架部分相對于拼合架的其余部分是可活動的，以提供所需的空隙。
背景技術：
基于現有技術的表面研磨裝置由圖1中的數字10概括性地表示。基于現有技術的表面研磨裝置10包括研磨石料20，該裝置與輪胎均衡機12聯合，用來去除輪胎T的不規則部分。基于現有技術的表面研磨裝置10包括具有兩個叉22的表面研磨機架，叉22安裝于支架23之上，支架23裝配于輪胎均衡機12的機架14之上。叉22分開布置以容納承載研磨石料20的子裝置24。子裝置24包括通過銷25可樞轉地安裝于叉22之間的樞轉支架26和在其間支撐托架33的圓柱軌道32。托架33支撐研磨頭38，研磨頭38承載研磨石料20。
在基于現有技術的表面研磨裝置10的運行過程中，子裝置24被交替地重新配置于向上傾斜內縮位置和水平延伸位置。為了提供水平延伸位置，使用第一活塞42來相對于叉22延伸圓柱軌道32和托架33，以至于研磨頭38位于靠近輪胎T的位置P1。在位于位置P1的時候，研磨頭38能夠去除輪胎T的上述不規則部分。
為了提供向上傾斜內縮位置，使用第二活塞48來使圓柱軌道32和托架33樞轉。在此向上傾斜內縮位置，由于第二活塞48的作用，圓柱軌道32和托架相對于傳送帶16來說是向上傾斜的；并且由于第一活塞42的作用，在此位置圓柱軌道32和托架相對于叉22來說是合意地內縮的。
在向上傾斜內縮位置，輪胎T通常能夠沿傳送帶16從子裝置24下方通過。在樞轉支架26和研磨頭38下方通常留有空隙以供輪胎T通過。然而，具有更大寬度的須檢查均衡性的輪胎T日益增加。為了研磨具有更大寬度的輪胎T而使用更大的研磨石料20。如圖1所示，當大寬度輪胎T在具有基于現有技術的表面研磨裝置10的輪胎均衡機12中被測試時，輪胎T在位置P2可能不能從研磨頭38下面通過(即使在向上傾斜內縮位置)，在位置P2’肯定不能從樞轉支架26下面通過。
為了適應更大寬度的輪胎進行過一種嘗試。此設計按與基于現有技術的表面研磨裝置1O相同的原理運作。然而，此設計包括一個位于距離輪胎均衡機12更遠的新的樞轉點。即是說，叉22被加長，新的子裝置可樞轉地安裝于叉22之間(使用樞轉支架)，離輪胎均衡機12更遠。新的子裝置包括加長的圓柱軌道32和加長的托架33，以此來支持增加了的從樞轉點到輪胎均衡機60之間的距離。
通過對樞轉點的重新定位以及提供具有加長圓柱軌道和加長托架的子裝置，其研磨頭可以相對于傳送帶16提高到更高的程度。于是，具有更大寬度的輪胎T能夠從研磨頭下方通過。遺憾的是，這些輪胎T可能仍然不能從樞轉支架下方通過，叉22所增加的長度導致此設計占用了通常用來進行對輪胎T進行進一步后續處理的空間。而且，此設計增加了輪胎均衡機12的“足印”(footprint，換言之，可稱作“占用空間”)，還需要加長傳送帶16。在每天處理數千只輪胎時，空間是非常寶貴的，輪胎T在傳送帶16上必須經過額外的距離也導致處理時間的增加。此外，此設計需要新的子裝置(具有加長的圓柱軌道和托架)。因此，無法對現存的輪胎均衡機的子裝置24進行改進，從而增加費用和停工時間。
因此，需要提供一種能夠允許具有大寬度的輪胎T從下方通過的改良的表面研磨裝置。

發明內容
概括而言，本發明呈獻一種用以去除輪胎的不規則部分的表面研磨裝置，該裝置包括外框架、滑動框架以及由滑動框架所承載的子裝置，所述滑動框架可滑動地安裝于外框架以相對于外框架作豎直運動，所述滑動框架能夠在工作位置和非工作位置之間運動，所述子裝置在滑動框架處于非工作位置時為輪胎限定出一個空隙。
本發明還呈獻一種用于容納在輪胎均衡機里的研磨子裝置的拼合架，該拼合架包括外框架、滑動框架、至少一個滑動裝置以及至少一個執行器，所述滑動框架具有上部和下部，上部可滑動地安裝于外框架，所述至少一個滑動裝置位于外框架和滑動框架上部之間，所述至少一個執行器位于外框架和滑動框架上部之間，以使滑動框架相對于外框架進行重新定位。
本發明另外還呈獻一種用以去除輪胎的不規則部分的表面研磨裝置，該裝置包括具有第一側板和第二側板的外框架、具有可容納于外框架范圍內的第一滑板和第二滑板的滑動框架、由滑動框架所承載的研磨子裝置、位于第一側板和第一滑板之間的第一滑動裝置、位于第二側板和第二滑板之間的第二滑動裝置以及位于第一滑動裝置附近的第一執行器和位于第二滑動裝置附近的第二執行器，其中第一執行器和第二執行器的動作使滑動框架相對于外框架進行重新定位。


圖1是基于現有技術的安裝于輪胎均衡機的表面研磨裝置的側視圖，該圖示出承載研磨頭的子裝置。
圖2是根據本發明的安裝于輪胎均衡機的表面研磨裝置的側視圖，該圖示出被置于其內的圖1中的子裝置，其中表面研磨裝置位于工作位置。
圖3是安裝于如圖1所示的輪胎均衡機的表面研磨裝置的側視圖，其中該表面研磨裝置位于非工作位置。
圖4是安裝于如圖1所示的輪胎均衡機的表面研磨裝置的側視圖，其中該表面研磨裝置位于非工作位置，子裝置位于向上傾斜位置且研磨石料已抬起。
圖5是根據圖2所示的本發明的表面研磨裝置的前視圖。
具體實施例方式
根據本發明概念的一種表面研磨裝置總體上由圖2到圖5中的數字60表示。表面研磨裝置60在輪胎均衡機12里使用，以去除輪胎T的不規則部分。在輪胎均衡機12的運行過程中，輪胎T在第一位置P1提供。在位于第一位置P1時，輪胎T在由輪胎均衡機12驅動的轉軸(圖中未示出)之上旋轉。輪胎T在轉軸之上的旋轉使得輪胎均衡機能夠檢測輪胎T表面的不規則部分。不規則部分通過表面研磨裝置60去除，輪胎T隨后下降至傳送帶16。傳送帶16包括多個輥子18，輥子在表面研磨裝置60的下方沿傳送帶16傳送輪胎T。
為了去除輪胎T的上述不規則部分，表面研磨裝置60包括承載研磨石料20的子裝置。如圖2到圖5所示，現存的子裝置24可以被利用，從而使得表面研磨裝置60可以根據現存的輪胎均衡機12進行改進，而不需要更換子裝置24，下文會更加詳細地說明。基于現有技術的表面研磨裝置10(圖1)的子裝置24能夠重新使用，圖2到圖5所未示出的子裝置的細節能夠在圖1中看見。子裝置24安裝于拼合架62，該拼合架是表面研磨裝置60的一部分，能夠對子裝置24進行重新定位以使得具有較大寬度的輪胎T能夠從下方通過。開始將描述子裝置24，然后將描述表面研磨裝置60以及其使用子裝置24的操作。
子裝置24包括樞轉支架26，該樞轉支架通過銷25可樞轉地安裝于表面研磨裝置的拼合架62上。安裝在樞轉支架26之上的是用來支撐套環28的支臂27。參見圖1，套環28包括圓柱孔30以及設置于圓柱孔30之內的直線軸承31。圓柱軌道32部分置于圓柱孔30之內，該圓柱軌道被直線軸承31所支撐，以作往復運動。
圓柱軌道32適合于讓托架33作相對于輪胎均衡機12的運動。圓柱軌道32的任何一端都通過托臂支座34和35留有空隙，托架33貫穿于托臂支座34和35之間。托架33的一端支撐用以轉動研磨石料20的電機36，托架33的另一端支撐研磨頭38。研磨頭38在軸40之上可樞轉地承載著處于研磨機外殼39之內的研磨石料20。軸40被皮帶(圖中未示出)所驅動，該皮帶從電機36延伸至研磨機外殼39。因為托架33安裝于托臂支座34和35之間，托臂支座34和35又安裝在圓柱軌道32之上，所以圓柱軌道32和托架33能夠通過使用第一活塞42而相對于套環28作同步往復運動。
如圖1所示，第一活塞42包括安裝于樞轉支架26之上的基座43和從基座44向外延伸出來的往復臂44。往復臂44的遠端安裝于活塞架46之上，該活塞架在托架33上靠近研磨機外殼39的位置。往復臂44的往復運動轉化為圓柱軌道32在直線軸承31之內的直線運動，此直線運動使得托架33和安裝于托架33之上的研磨頭38相對于套環28重新定位。如此，第一活塞42能夠使托架33運動以有效地控制研磨頭38(包括研磨石料20)相對于輪胎T的位置。
第二活塞48用來使研磨石料20繞銷25樞轉。在基于現有技術的表面研磨裝置10里，第二活塞48通過支撐架50可樞轉地安裝于支架23，而且還通過支撐架51可樞轉地安裝于套環28。然而，當在表面研磨裝置60里使用子裝置24的時候，第二活塞48通過第一支撐架64可樞轉地安裝于拼合架62，而且還通過第二支撐架65可樞轉地安裝于套環28。如圖5所示，第二活塞48包括位于第一支撐架64附近的基座54和從基座54向外延伸出來的往復臂55。在表面研磨裝置60之內，往復臂55安裝于第二支撐架65之上。往復臂55的往復運動為套環28的樞轉運動做好準備，而套環的樞轉運動轉化為子裝置24(包括研磨頭38)相對于傳送帶16的豎直運動。
在使用基于現有技術的表面研磨裝置10的子裝置24的過程結束的時候，子裝置24必須重新配置以使得輪胎T能夠從輪胎均衡機12中移出。在基于現有技術的表面研磨裝置10里，驅動第一活塞42以使得研磨頭38從靠近輪胎T的位置回縮，驅動第二活塞48以使圓柱軌道32呈角度地定向，從而相對于傳送帶16在豎直方向對子裝置24(包括研磨頭)進行重新定位。基于現有技術的表面研磨裝置10的子裝置24從水平延伸位置到向上傾斜內縮位置的運動通常使得輪胎T能夠從輪胎均衡機退出來。因此，在從圖1中的位置P1移動到位置P2和P2’時，輪胎T通常能夠沿傳送帶16從研磨頭38下方通過。
然而，當輪胎T具有大寬度(如圖1所示)的時候，輪胎T就將不再能通過子裝置24的下方。即是說，輪胎T位于位置P2時將不能通過研磨頭38的下方，輪胎T位于位置P2’時將不能從樞轉支架26下方通過。如此，子裝置24重新配置到向上傾斜回縮位置將不能為具有大寬度的輪胎T從子裝置24下方通過提供足夠的空隙。
根據本發明的表面研磨裝置60適用于對子裝置24進行重新定位以使得具有大寬度的輪胎T能夠從下方通過。表面研磨裝置60可以可樞轉地安裝于輪胎均衡機12的框架14。如圖5所示，表面研磨裝置包括固定安裝于框架14的鉸鏈架66，該鉸鏈架作為表面研磨裝置60的一體部分。鉸鏈架66適用于接受葉片架67，并且使得表面研磨裝置60能夠在工作位置和開放位置之間樞轉。當處于開放位置的時候，提供通向輪胎均衡機12內部的途徑，使得輪胎均衡機12和表面研磨裝置60能夠得到保養或者維護。
當處于工作位置的時候，表面研磨裝置60能夠對自身進行重新配置，使其既能夠與輪胎T接合又能夠允許輪胎T從下方通過。如前述，表面研磨裝置60包括子裝置24，該子裝置能夠通過對基于現有技術的表面研磨裝置10加以改良而獲得，或者作為原始裝備而提供。然而，與基于現有技術的表面研磨裝置10不同的是，表面研磨裝置60能夠對子裝置24進行重新定位，以允許具有大寬度的輪胎T從下面通過。為此，表面研磨裝置60能夠在工作位置(圖2)和非工作位置(圖3和圖4)之間運動，以提供允許更大寬度的輪胎通過所必須的空隙。
在表面研磨裝置60和輪胎均衡機12的運行過程中，如圖2所示，輪胎T提供于第一位置P1。如前述，輪胎T在第一位置P1時在由輪胎均衡機12所驅動的轉軸(圖中未示出)上旋轉。輪胎T的旋轉使得能夠通過表面研磨裝置60來去除輪胎的不規則部分。此后，輪胎T下降至傳送帶16，通過多個輥子18被傳送至位置P3(圖3)。
正如圖5所示，表面研磨裝置60采用拼合架62以對子裝置24進行有效重新定位，以至于具有較大寬度的輪胎T能夠從下方通過。拼合架62包括具有的背板71的外框架70、第一側板72、第二側板73和頂板74。第一和第二側板72和73隔開放置以容納表面研磨裝置60的其余部分，葉片架67連接到第一側板72。參照于滑動框架76，拼合架62的另一部分置于第一和第二側板72和73之間。
滑動框架76部分位于外框架70之內，包括上部78和下部79。上部78包括后板80、第一滑板82和第二滑板83。分隔開第一和第二滑板82和83的是頂板84。后板80與頂板84連接，以保持上部78的結構完整性。
第一和第二滑板82和83可以容納于外框架70之內，第一和第二滑板可滑動地分別安裝于第一和第二側板72和73之上，因而使得滑動框架76能夠相對于外框架70運動。為了促進此運動，第一和第二滑動裝置86和87分別位于第一側板72和第一滑板82之間以及第一側板73和第一滑板83之間。第一和第二滑動裝置86和87向上傾斜，每個滑動裝置都包括軌道90和能沿軌道90運動的滑動車92。軌道90安裝于外框架70的第一和第二側板72和73的內部，滑動車92安裝于滑動框架76的第一和第二滑板82和83的外部。第一和第二滑動裝置86和87使得滑動框架76能夠相對于外框架70在一個成角度的方向(angular direction，或者說“傾斜的”方向)作可滑動的運動。
多個執行器位于靠近且平行于第一和第二滑動裝置86和87的位置，該執行器可以是如圖所示的活塞94和95。活塞94和95每一個都能夠被成角度地定向(angularly oriented，或者說“傾斜地”定向)，每一個都包括基座96以及從基座96向外延伸出來的往復臂97。每一個基座96在其任一端都通過支架98固定安裝于第一和第二側板72和73的內側部分。此外，每一個往復臂97的遠端都固定于位于第一和第二滑板82和83的外側部分的支架100。同樣地，每一個成角度地定向的活塞94和95的基座96安裝于外框架70之上，每一個活塞94和95的往復臂97安裝于滑動框架76之上。往復臂97的動作使得滑動框架76相對于外框架70在一個成角度的方向上運動。該成角度的滑動運動包括一個水平分量和一個垂直分量，使滑動框架76從工作位置(如圖2所示)向非工作位置(如圖3和圖4所示)發生位移。
將上部78和下部79連接在一起的是第一和第二轉移板104和105。第一和第二轉移板104和105分別安裝于第一和第二滑板72和73以及下部79的第一和第二支撐板108和109之上。第一和第二轉移板104和105分別有效地使得第一和第二支撐板108和109與第一和第二滑板72和73分隔開來，以在其中提供放置子裝置24的空間。
子裝置24被滑動框架76所承載，包括樞轉支架26，該樞轉支架通過銷25可樞轉地安裝于第一和第二支撐板108和109之間。如前述，托架33(由圓柱軌道32所支撐)能夠通過使用第一活塞42來相對于套環28作往復運動。如此，在滑動框架76從非工作位置(圖3和圖4)移動到工作位置(圖2)以后，第一活塞42能夠驅動托架33運動，從而有效確定研磨頭38(包括研磨石料20)相對于輪胎T的位置。
此外，在表面研磨裝置60中，第二活塞48用來使得套環28在水平位置和向上傾斜位置之間相對于第一和第二支撐板108和109樞轉。如前述，第二活塞48通過第一支撐架64可旋轉地安裝于頂板84，而且也通過第二支撐架65可旋轉地安裝于套環28。如圖1所示，往復臂55的往復運動產生套環28相對于第一和第二支撐板1 08和1 09的樞轉運動，該樞轉運動轉化為子裝置24(包括研磨頭38)的相對于傳送帶16的進一步豎直運動。
如圖2所示，因為滑動框架76處于工作位置，研磨頭38直接位于輪胎T附近的位置P1，并且子裝置24處于水平位置。如此，研磨頭38所處的位置使得研磨石料20能夠接觸到輪胎T的表面并去除任何不規則部分。
為了能夠在處理之后移出輪胎T，滑動框架76被移動到其非工作位置(圖3和圖4)，并且，如果有必要的話，子裝置24被移動到其向上傾斜位置(圖4)。如圖3和圖4所示，滑動框架76最初從其工作位置移動到其非工作位置。為此，使每一個成角度地定位的活塞94和95的往復臂97開始作用，從而使得滑動框架76相對于外框架70進行重新定位。在從工作位置(圖2)移開的示例中，成角度地定位的活塞94和95驅動滑動框架76相對于輪胎均衡機12的外框14作向外和向上移動。因為子裝置24安裝于滑動框架76之上，研磨頭38(以及子裝置24的其它部分)通過滑動框架76的運動在豎直方向和水平方向都能重新定位。如圖3所示，滑動框架76的滑動運動的垂直分量在研磨頭38和研磨石料20下方提供空隙。
此后，如圖4所示，為了在研磨頭38和研磨石料20下方提供更大的空隙，子裝置24從其水平位置重新配置到其向上傾斜位置。為此，使第二活塞48動作，從而使得圓柱軌道32和托架33傾斜，并在豎直方向上使得子裝置24(包括研磨頭38和研磨石料20)相對于傳送帶16重新定位。
滑動框架76到非工作位置的重新定位和子裝置24到向上傾斜位置的重新定位限定出一個空隙，該空隙對于允許具有大寬度的輪胎T沿傳送帶16從子裝置24下方通過以及對于輪胎從位置P3移動到位置P4都是必需的。
通過使用拼合架62，在不增加子裝置24的長度的情況下就能夠獲得所需的空隙。其結果是，在改良表面研磨裝置60時，現存的子裝置24得以重新利用，基于現有技術的表面研磨裝置10的原始足印(占用空間)也可以基本得到維持。因此，不必重新定位后續裝備，處理時間也得以保持。
至此，應已明朗的是，這里揭示的表面研磨裝置60實現了在上文中所述的本發明的一個或多個目的，此外還為本領域作出了有益的貢獻。如本領域技術人員周知的那樣，對這里揭示的優選實施方案而言，可以做出種種不背離本發明精神的修改，本發明的范圍僅僅受限于所附權利要求的范圍。
權利要求
1.一種用于去除輪胎不規則部分的表面研磨裝置，該表面研磨裝置包括外框架；可滑動地安裝于所述外框架的滑動框架，該滑動框架能夠相對于所述外框架作豎直運動，所述滑動框架能夠在工作位置和非工作位置之間運動；以及由所述滑動框架所承載的子裝置，其中，所述子裝置在所述滑動框架處于所述非工作位置時為輪胎限定出一個空隙。
2.如權利要求1所述的表面研磨裝置，進一步包括至少一個位于所述外框架和所述滑動框架之間滑動框架之間的滑動裝置，其中，所述至少一個滑動裝置使得所述滑動框架能夠相對于所述外框架作滑動運動；以及包括在所述子裝置之內、用于去除輪胎不規則部分的研磨石料。
3.如權利要求2所述的表面研磨裝置，其中，所述滑動框架包括上部和下部，所述上部具有相間隔地設置的第一滑板和第二滑板，所述下部具有第一間隔支撐板和第二間隔支撐板，所述子裝置位于所述第一支撐板和所述第二支撐板之間。
4.如權利要求3所述的表面研磨裝置，其中，所述外框架包括第一側板和第二側板，所述第一側板和所述第一滑板之間設有一個第一滑動裝置，所述第二側板和所述第二滑板之間設有一個第二滑動裝置。
5.如權利要求4所述的表面研磨裝置，進一步包括位于所述第一側板和所述第一滑板之間且靠近所述第一滑動裝置的活塞，以及位于所述第二側板和所述第二滑板之間且靠近所述第二滑動裝置的活塞，其中，所述第一和第二滑動裝置包括安裝于所述第一和第二側板之上的軌道以及安裝于所述第一和第二滑板之上的滑動車，所述活塞能夠動作以使得所述滑動車沿所述軌道運動，且使所述滑動框架重新定位到非工作位置。
6.如權利要求5所述的表面研磨裝置，其中，所述第一和第二滑動裝置以及所述活塞是向上傾斜的，所述活塞的動作在水平和豎直方向上使得所述滑動框架相對于所述外框架產生位移。
7.一種用于容納在輪胎均衡機中的研磨子裝置的拼合架，包括外框架；具有上部和下部的滑動框架，其中，所述上部可滑動地安裝于所述外框架之上；至少一個位于所述外框架和所述滑動框架的所述上部之間的滑動裝置；以及至少一個位于所述外框架和所述滑動框架的所述上部之間的執行器，以使所述滑動框架相對于所述外框架進行重新定位。
8.如權利要求7所述的拼合架，其中，所述滑動框架的所述上部能夠置于所述外框架之內，所述至少一個執行器置于靠近所述至少一個滑動裝置的位置，所述至少一個執行器的動作使所述滑動框架相對于所述外框架進行重新定位。
9.如權利要求8所述的拼合架，其中，所述滑動框架的所述下部具有第一間隔支撐板和第二間隔支撐板，子裝置位于所述第一間隔支撐板和所述第二間隔支撐板之間。
10.如權利要求9所述的拼合架，其中，所述滑動框架的所述上部具有第一滑板和第二滑板，所述外框架具有第一側板和第二側板，所述第一滑板和所述第一側板之間設有第一滑動裝置，所述第二滑板和所述第二側板之間設有第二滑動裝置。
11.如權利要求10所述的拼合架，其中，所述第一滑動裝置包括安裝于所述第一側板之上的軌道和安裝于所述第一滑板之上的車，并且其中，所述第二滑動裝置包括安裝于所述第二側板之上的軌道和安裝于所述第二滑板之上的車，所述第一滑動裝置附近設有第一執行器，所述第二滑動裝置附近設有第二執行器。
12.如權利要求11所述的拼合架，其中，所述第一執行器是包括安裝于所述第一滑板之上的往復臂的活塞，所述第二執行器是包括安裝于所述第二滑板之上的往復臂的活塞，所述第一執行器和所述第二執行器的動作使得所述滑動框架相對于所述外框架在一個成角度的方向上運動，因此使所述拼合架在工作位置和非工作位置之間進行重新定位。
13.如權利要求12所述的拼合架，進一步包括延伸于所述第一滑板和所述第二滑板之間的頂板，其中所述頂板和所述子裝置連設有一個活塞，所述活塞的動作使得所述子裝置相對于所述第一支撐板和所述第二支撐板樞轉。
14.一種用于去除輪胎不規則部分的表面研磨裝置，包括具有第一側板和第二側板的外框架；具有第一滑板和第二滑板且能夠容納于所述外框架之內的滑動框架；由所述滑動框架所承載的研磨子裝置；置于所述第一側板和所述第一滑板之間的第一滑動裝置和置于所述第二側板和所述第二滑板之間的第二滑動裝置；以及置于靠近所述第一滑動裝置的位置的第一執行器和置于靠近所述第二滑動裝置的位置的第二執行器，其中所述第一執行器和所述第二執行器的動作使所述滑動框架相對于所述外框架進行重新定位。
全文摘要
本發明公開了一種用于去除輪胎不規則部分的表面研磨裝置。該表面研磨裝置包括外框架和安裝于外框架之上的滑動框架。滑動框架能夠相對于外框架在工作位置和非工作位置之間作豎直運動。被滑動框架所承載的子裝置包括研磨石料。子裝置的配置在滑動框架處于非工作位置時為輪胎限定出一個空隙。
文檔編號B24B9/00GK101087674SQ200580043331
公開日2007年12月12日 申請日期2005年11月23日 優先權日2004年12月15日
發明者D·老波林, R·德爾莫羅 申請人:阿克隆特種機械公司