蒸發源和具備蒸發源的蒸鍍裝置的制作方法

專利名稱：蒸發源和具備蒸發源的蒸鍍裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及蒸發源和具備該蒸發源的蒸鍍裝置，更詳細地說，涉及用于在大面積基板上蒸鍍有機物或導電性物質的蒸發源和具備該蒸發源的蒸鍍裝置。
背景技術：
以有機電場發光顯示裝置為首的有機半導體裝置需要形成有機膜的工序。由于要形成所述有機膜的物質是低分子或高分子而不相同，故膜的形成方法也就不同。
在是所述高分子物質的情況下，將所述有機物質溶解在溶劑中，使用所述被溶解的有機物質形成有機膜。所述有機膜是使用旋轉涂層、浸漬涂層、刮刀板和噴墨印刷等方法來形成的。
在是所述低分子物質的情況下，由于其可在200℃到400℃這樣比較低的溫度下蒸發，所以通過加熱使其蒸發而形成有機膜。即，由所述低分子構成的有機膜，通過將成有圖形的掩模排列在基板上后，把由受熱蒸發的有機物分子向所述基板照射而形成。
所述這種低分子有機物質的蒸發和噴射是通過有機物蒸發源來進行的。所述有機物蒸發源具有能把有機物質加熱到規定溫度的坩堝(crucible)的形狀。所述有機物蒸發源包括可加熱有機物質的加熱部和噴射所述加熱了的有機物的噴嘴部。因此，從所述加熱部蒸發的有機物就通過所述噴嘴部向基板噴射，并形成規定的圖形。
這種方法，與涂層法和印刷法相比其有可形成均勻薄膜的優點，適于形成有機電場發光顯示裝置的有機膜層和電極層。在利用線狀蒸發源的情況下，由于能在大面積基板上形成厚度均勻的有機膜層或電極層，所以認為由所述蒸發源進行的蒸鍍方法是適合于大面積有機電場發光顯示裝置制造的方法。
但這種現有的有機物蒸發源和具備該蒸發源的蒸鍍裝置，其加熱部的熱向外部散發，熱效率容易變低。在利用所述線狀蒸發源的情況下，由于噴射材料的噴嘴部的溫度比所述蒸發源的內部低，所以，材料在噴嘴部的前面凝縮，可在噴嘴處產生堵塞。
但使用現有的有機物蒸發源在大型基板上形成有機薄膜時，基板與蒸發源之間的距離都增加。但若基板與蒸發源之間的距離增加，則產生形成于基板上的有機薄膜均勻性降低的問題。
若基板與蒸發源之間的距離增加，則被蒸發源蒸發的有機物就蒸鍍在基板以外的真空容器上，使有機物的損失增加，由于有機物價格非常高，所以這種有機物的損失就使得元件的制造成本上升。
為了確保有機薄膜的均勻性，將障板圖形與蒸發源成規定角度而形成有機薄膜。這時，在障板圖形與蒸發源成規定角度的情況下，就產生障板圖形引起的影效果，具有難以得到希望形狀的有機薄膜的問題點。
在現有的有機物蒸鍍裝置的情況下，有時有機物粒子進入到貯藏有有機物的蒸發源結構元件的間隙處，會產生有機物的泄漏。若產生這種有機物的泄漏，則發生加熱器污染，這樣就影響到有機發光元件的質量，最終使合格品率下降。
在加熱器發生短路而更換加熱器時，由于加熱器與有機物蒸發源是形成一體的，所以加熱器的更換非常難，因此，有該更換作業時間長的問題點。
另外，所述蒸鍍裝置可包括蒸發源組件，其含有蒸發源和收容所述蒸發源的外部殼體，所述蒸發源由貯藏蒸鍍物質的貯藏部、用于使所述蒸鍍物質蒸發的加熱部以及將所述已蒸發了的蒸鍍物質進行噴射的噴嘴部構成；移送裝置，其用于移動所述蒸發源組件；容器，其成為所述各個結構元件的機體。這時，在為了執行蒸鍍工序而把所述蒸鍍裝置進行加熱時，由于構成有所述蒸鍍裝置的零件之間熱膨脹率不同，所以會產生結構的翹曲和位置變動，發生偏心。
這樣，所述蒸鍍裝置的結構零件或破損或損傷，而必須持續地更換零件，生產成本增大。
相關現有技術在下面的專利文獻1到4中被公開。
專利文獻1韓國專利申請第2004-0098270號說明書專利文獻2韓國專利申請第2005-0013298號說明書專利文獻3韓國專利申請第2005-0014713號說明書專利文獻4韓國專利申請第2005-0018833號說明書發明內容本發明的目的在于提供一種蒸發源，其能通過使用反射板來有效提高噴嘴的熱度，從而防止蒸鍍物質在噴嘴處凝縮。
本發明的另一目的在于提供一種蒸發源，其能防止由反射板對蒸鍍材料的遮斷或干涉。
本發明的又一目的在于提供一種蒸發源和具備該蒸發源的蒸鍍裝置，其能防止由蒸發源產生的輻射熱所引起的基板和掩模的熱變形。
本發明的再一目的在于提供一種蒸發源和具備該蒸發源的蒸鍍裝置，其能防止蒸鍍物質的側面擴散，防止蒸鍍裝置內部的污染。
本發明的其他目的在于提供一種有機物蒸發源，其通過防止有機物從有機物蒸發源泄漏，而能防止由泄漏的有機物引起的蒸發源的結構損失。
本發明的又其他目的在于提供一種有機物蒸發源，其通過把有機物蒸發源各結構元件的厚度和體積最小化，能防止有機物的泄漏，同時能提高用于有機物蒸發的導熱性，而且能更加提高蒸發效率。
本發明通過使構成蒸發源和蒸發源組件的各零件之間的連結部接觸最小化，謀求所述零件之間的固定和支承，并且具有一定程度的滑動性，由此提供能防止由熱膨脹引起裝置損傷的蒸發源和蒸發源組件。另外，還提供具備所述蒸發源和該蒸發源組件的蒸鍍裝置。
為了實現所述目的，本發明一方面的蒸發源包括蒸鍍物質貯藏部，其放置有蒸鍍物質并且局部開口；噴嘴部，其具有與所述蒸鍍物質貯藏部的開口的部分連結并用于噴射所述蒸鍍物質的開口部；反射板，其包圍所述噴嘴部的至少一部分角部；殼體，其包圍所述蒸鍍物質貯藏部；加熱部，其位于所述殼體與所述蒸鍍物質貯藏部之間。
所述蒸發源還能包括罩，其位于所述反射板上并把所述反射板覆蓋。
所述罩可包括向蒸鍍方向突出的突出部。
所述反射板可由耐熱合金構成。
所述反射板可由鉻鎳鐵合金(inconel)構成。
所述噴嘴部可具有中央部比角部更突出的結構。
所述反射板可具有位于所述噴嘴部的非開口部且比所述噴嘴部更突出的結構。
位于所述噴嘴部的開口部周邊的所述反射板的邊緣部分可具有錐角。
本發明另一方面的蒸鍍裝置包括蒸發源和支承基板的容器，其中，所述蒸發源包含蒸鍍物質貯藏部，其放置有蒸鍍物質，并且局部開口；噴嘴部，其與所述被開口的部分連結，且具有用于噴射所述蒸鍍物質的開口部；反射板，其包圍所述噴嘴部的至少一部分角部；殼體，其包圍所述蒸鍍物質貯藏部；加熱部，其位于所述殼體與所述蒸鍍物質貯藏部之間。
所述蒸鍍裝置還可包括罩，其位于所述反射板上并把所述反射板覆蓋。所述罩能包括向蒸鍍方向突出的突出部。
本發明又一方面的蒸發源包括殼體，其一面開口；有機物貯藏部，其位于所述殼體的內部，在內部貯藏有機物并且一面開口；噴嘴部，其與所述有機物貯藏部開口的部分連結，噴射有機物；加熱部，其位于所述有機物貯藏部與所述殼體之間。
所述蒸發源還具備位于所述加熱部的一側并且位于所述貯藏部和所述殼體之間的多個第一支承裝置，所述多個第一支承裝置與所述貯藏部和所述殼體的各個規定部分接觸。
所述有機物貯藏部最好由石墨構成，另外，最好在所述有機物貯藏部上附有防止有機物泄漏部件。
所述防止有機物泄漏部件最好能附在所述有機物貯藏部的內部或附在其外面。
所述噴嘴部最好由石墨構成，另外，最好在所述噴嘴部上附有防止有機物泄漏部件。
所述防止有機物泄漏部件最好能附在所述噴嘴部的內部或附在其外面。
另外，所述防止有機物泄漏部件最好是鎳，或是由鎢、錸、鉭、鉬、鈮、釩、鉿、鋯、鈦這樣高熔點金屬中的任一種構成，或者由氧化物、碳化物、氮化物中的任一種構成。
本發明再一方面的有機物蒸發源包括殼體，其一面開口；有機物貯藏部，其位于所述殼體的內部，在其內部貯藏有機物且一面開口；噴嘴部，其包含與所述有機物貯藏部的開口的部分連結并向基板上噴射有機物粒子的有機物噴射噴嘴，和防止所述有機物貯藏部的有機物飛散的防止飛散膜；加熱部，其位于所述有機物貯藏部與所述殼體之間；熱反射板，其設置在所述殼體的內壁上，把來自所述加熱部的熱量向所述有機物貯藏部反射；熱遮斷板，其安裝在所述噴嘴部的基板方向的外部面上。
所述殼體最好具有1～5mm的厚度，另外，所述有機物貯藏部最好具有1～5mm的厚度。
所述有機物貯藏部最好由石墨構成，另外，最好在所述有機物貯藏部上附有防止有機物泄漏部件。
所述防止有機物泄漏部件最好能附在所述有機物貯藏部的內部或附在其外面。
所述噴嘴部最好由石墨構成，另外，最好在所述噴嘴部上附有防止有機物泄漏部件。
所述防止有機物泄漏部件最好能附在所述噴嘴部的內部或附在其外面。
所述防止有機物泄漏部件最好是鎳，或是由鎢、錸、鉭、鉬、鈮、釩、鉿、鋯、鈦這樣高熔點金屬中的任一種構成，或者由氧化物、碳化物、氮化物中的任一種構成。
本發明的蒸發源和具備該蒸發源的蒸鍍裝置，通過在蒸發源內具備反射板而防止噴嘴部的熱量向外部散失，由此具有可有效提高熱效率的優點。
另外，還具有如下效果，通過從所述反射板向噴嘴內部反射的熱量，解決蒸鍍物質在噴嘴處凝縮的問題。
由于位于噴嘴部的開口部周邊區域的所述反射板的角部具有一定的形態，或所述噴嘴的中央部具有一定的形態，故由此可防止對要使用所述反射板進行蒸鍍的物質的遮斷或干涉。
因此，可構成具備如下的蒸發源的蒸鍍裝置，該蒸發源一邊使用所述反射板來增加熱效率，一邊防止蒸鍍物質在噴嘴的開口部凝縮，防止蒸鍍物質噴射被遮斷。
本發明的蒸發源和具備該蒸發源的蒸鍍裝置，通過在蒸發源上具備罩而具有可防止由所述蒸發源的輻射熱造成基板和掩模溫度上升的優點。因此，具有如下優點，即，通過把所述蒸發源的輻射熱遮斷，而防止所述基板和掩模熱變形，防止由掩模熱變形引起圖形不良現象。
另外，通過在所述罩上具備朝向蒸鍍方向的突出部，將輻射熱再一次遮斷，在進一步提高散熱效果的同時，還具有防止蒸鍍物質的側面擴散，防止蒸鍍裝置內部污染的優點。
本發明的有機物蒸發源，提供具備可獨立分離的加熱部和與防止飛散板一體化了的噴嘴部的有機物蒸鍍裝置，且具有更加提高有機物貯藏部和噴嘴部的熱效率，防止有機物從有機物貯藏部和噴嘴部泄漏，防止由有機物引起蒸發源結構元件損傷的效果。
本發明有機物蒸發源的各結構元件，可通過防止有機物在噴嘴部和有機物貯藏部的泄漏而使其厚度和體積最小化，具有有機物蒸發源的導熱性和蒸發效率進一步提高的效果。


圖1是表示本發明的蒸發源的立體圖；圖2a和圖2b是表示本發明第一實施例的蒸發源的剖面圖；圖3是表示本發明第二實施例的蒸發源的剖面圖；圖4是表示本發明第三實施例的蒸發源的立體圖；圖5是表示本發明第三實施例的蒸發源的剖面圖；圖6是表示具備本發明實施例的蒸發源的蒸鍍裝置的剖面圖；圖7是表示本發明第四實施例的有機物蒸發源的立體圖；圖8是沿圖2的A-A線的剖面圖；圖9是把圖8的B部放大表示的剖面圖；圖10是把圖8的C部放大表示的剖面圖；圖11a～圖11c是用于說明本發明第五實施例的蒸發源的圖，是用于說明構成所述蒸發源的貯藏部和與所述貯藏部連結的噴嘴部與加熱部的支承結構的圖；圖12a～圖12e是用于說明本發明第五實施例的蒸發源的圖，是用于說明連結、支承加熱部和殼體的支承結構的圖；圖13a～圖13c是用于說明具備本發明第五實施例的蒸發源的蒸發源組件的立體圖或剖面圖。
具體實施例方式
以下參照附圖詳細說明本發明的最佳實施例。下面的實施例是為了能夠向本領域技術人員充分傳達本發明思想而作為一例提示的。因此，本發明并不限定于下面的實施例，其能有各種變形。圖中的層和區域的長度和厚度，為了謀求明確性而可夸張表現。本說明書中相同的參照符合表示相同的結構元件。
圖1是表示本發明第一實施例的蒸發源的立體圖。
參照附圖，在蒸發源100的內部構成蒸鍍物質貯藏部，其放置有蒸鍍物質且局部被開口。而且設置有用于噴射所述蒸鍍物質的具有開口部A的噴嘴部30。所述噴嘴部30的開口部A與蒸鍍物質貯藏部的被開口的部分連結。在所述噴嘴部30上設置有把所述噴嘴部30的至少一部分的角部包圍的反射板50。
所述反射板50使從所述噴嘴部30放出的熱量的一部分進一步向所述噴嘴部30反射。因此，使用所述反射板50能降低所述噴嘴部30的熱損失。最好所述反射板50的表面的輻射率(emissivity)低。
所述蒸發源100包括包圍所述蒸鍍物質貯藏部的殼體60。所述殼體60可包圍所述反射板50的一部分。另外，加熱部可位于所述殼體60與所述蒸鍍物質貯藏部之間。
圖2a和圖2b是表示本發明第一實施例的蒸發源的剖面圖，其是沿圖1的切斷線I-I′的剖面圖。
參照圖2a，蒸鍍物質10位于具有開口部的蒸鍍物質貯藏部20內。所述蒸鍍物質10可以是有機物。并且所述蒸鍍物質10還可以是導電性物質。
所述蒸鍍物質貯藏部20的開口部與噴嘴部30的開口部A連結。加熱部40位于所述蒸鍍物質貯藏部20的一個或多個側面上。所述加熱部40也可以具備熱源和熱源支承體。因此，若從所述加熱部40向所述蒸鍍物質貯藏部20加熱，則通過所述熱量就使所述蒸鍍物質10蒸發，所述被蒸發的蒸鍍物質10通過所述噴嘴部30的開口部A向蒸發源的外部噴射。
將所述噴嘴部30的至少一部分角部包圍的反射板50位于所述噴嘴部30上。
所述反射板50使從所述噴嘴部30放出的熱量的一部分進一步向所述噴嘴部30反射。因此，所述反射的熱量進一步向所述噴嘴部30的內部傳遞，由此，可降低所述噴嘴部30的熱損失。因此所述反射板50的表面的輻射率最好低。
所述反射板50可由耐熱合金構成。因此，具有對于所述加熱部40產生的熱量也穩定的熱穩定性。另外，所述反射板50可由以鎳為主要成分的耐熱合金構成。所述反射板50可由鉻鎳鐵合金構成。
所述鉻鎳鐵合金，其耐熱性良好，具有即使在大于或等于900℃的氧化氣流中也不氧化，在含有硫的大氣中也不被浸漬的特性。且伸展強度、拉伸強度、屈服點等的性質對熱也具有穩定的特性，所以其機械性質優良，對于有機物和鹽類溶液也不腐蝕。因此，其對于所述蒸鍍物質10也具有穩定的特性。
位于所述噴嘴部30的開口部A周邊的所述反射板50的角部部分B可具有錐角。位于所述噴嘴部30的開口部周邊的所述反射板50表面的邊緣間隔a1，比所述噴嘴部30的噴嘴寬度a2寬。因此，能有效地防止被蒸發的所述蒸鍍物質10在所述反射板50的角部部分B凝縮。另外，通過所述反射板50的形態，可防止所述蒸鍍物質10在所述反射板50的邊緣處被遮斷或被干涉。
所述蒸發源100包括包圍所述蒸鍍物質貯藏部20的殼體60。所述殼體60可包圍所述反射板50的一部分。另外，還可包括位于所述殼體60與所述加熱部40之間的反射板55。因此，能進一步減少所述加熱部40的熱損失，能使熱向所述蒸鍍物質貯藏部20內傳遞，增加熱效率。
可具有使所述加熱部40的熱通過輻射而向所述反射板55傳遞的結構。所述反射板55可具有直接接受所述加熱部40的輻射熱的結構，能夠在所述反射板55與所述加熱部40之間設有一定的空間B。
參照圖2b，則與所述圖2a不同，還可包括位于所述反射板55和所述加熱部40之間的導熱體42。所述導熱體42與所述反射板55連接，接受從所述加熱部40輻射的熱量，并將熱量向所述反射板55傳遞。向所述反射板55傳遞的熱，通過進一步朝向所述加熱部40傳遞，能提高熱效率。
可具有使所述加熱部40的熱通過傳導而向所述反射板55傳遞的結構。此時，其還能包括位于所述加熱部40與所述反射板55之間的導熱體42。因此，加熱部40產生的熱量向所述導熱體42傳導，向所述導熱體42傳導的熱量則向所述反射板55傳導。所述熱量通過所述反射板55再次向所述加熱部40的方向反射，由此，能夠提高熱效率。另外，可以沒有所述導熱體42，直接連結所述加熱部40和所述反射板55。
圖3是表示本發明第二實施例的蒸發源的剖面圖，是沿圖1的I-I′線的剖面圖。
參照圖3，本發明的第二實施例與第一實施例不同，噴嘴部30的前面具有凹凸形狀。即噴嘴部30具有中央部比角部部分更突出的結構。所述反射板50位于所述噴嘴部30的比中央部低的角部部分。
所述噴嘴部30的突出的中央部，比所述反射板50表面的高度高。因此，可將從所述噴嘴部30放出的熱量有效地向所述蒸發源100內部反射，同時可有效地防止所述蒸鍍物質10在所述反射板50的角部部分凝縮。
所述噴嘴部30的突出的中央部，比所述反射板50表面的高度低。因此，使所述反射板50覆蓋所述噴嘴部30的面積增加，同時，可防止所述反射板50對所述蒸鍍物質10在噴射方向上進出的妨礙。為了有效地噴射所述蒸鍍物質10，所述噴嘴部30的突出的中央部與所述反射板50的表面，最好具有小于或等于1mm的高度差。
所述第二實施例的蒸發源，與所述第一實施例同樣，也可以還包含位于所述殼體60與所述加熱部40之間的反射板55，還可以通過傳導或輻射將熱量從所述加熱部40向所述反射板55傳遞。另外，可以使導熱體42位于所述加熱部40與所述反射板55之間。
圖4是表示本發明第三實施例的蒸發源的立體圖。本實施例在所述實施例1的所述反射板50上還具備覆蓋所述反射板50的罩70。所述罩70以不被加熱部直接加熱的結構安裝。因此，能維持比所述噴嘴部30低的溫度。所述罩70具備向蒸鍍方向突出的突出部75。所述突出部75防止蒸鍍物質向側面擴散。
圖5是表示本發明第三實施例的蒸發源的剖面圖，是沿圖4的I-I′線的剖面圖。
本實施例在所述實施例1的所述反射板50上還具備覆蓋所述反射板50的罩70。所述罩70以不被所述加熱部40直接加熱的結構安裝，這樣，能維持比所述噴嘴部30低的溫度。因此，所述罩70在不放出高溫熱量的同時，可將從所述噴嘴部30和所述反射板50放出的輻射熱遮斷。因此，可防止所述蒸發源100要蒸鍍的基板和位于所述基板上的掩模由于所述輻射熱而引起的變形。
所述罩70可具備向蒸鍍方向突出的突出部75。所述突出部75通過防止所述蒸鍍物質10向側面擴散，而能夠防止所述蒸發源100的外部污染。另外，所述突出部75還可有效地從所述蒸發源100散熱。
圖6是表示包含有本發明實施例的蒸發源的蒸鍍裝置的剖面圖，如圖6所示，其具備成為有機物蒸鍍裝置500機體的容器300、用于把有機物粒子向基板S上噴射的至少一個有機物蒸發源100。
具有要蒸鍍的圖形的掩模250位于所述基板S上。所述掩模250可以是高精密金屬掩模(fine metal mask)。
容器300通過未圖示的真空泵而使內部維持真空狀態。在容器300的內部設置有使有機物蒸發源100可在垂直方向上移動的有機物蒸發源移送裝置150，使有機物蒸發源100在蒸鍍方向上移動。
該有機物蒸發源移送裝置150，是適合于在維持真空的容器300中使用的垂直移送裝置，其可根據工序條件而調節有機物蒸發源100的移動速度。
該結構具備滾珠絲杠151和使該滾珠絲杠151旋轉的電機153，為了引導有機物蒸發源100，還具備導向件152。該有機物蒸發源移送裝置150，作為其他實施例使用直線電動機以定速驅動。
而位于容器300內部的基板S，為了進行有機物的蒸鍍而位于大致垂直的方向上。其最好相對地面維持大致70°～110°的角度。
在基板S的前面，即有機物蒸發源100與基板S之間，設置有決定被蒸鍍的有機物形狀的掩模圖形M。因此，從有機物蒸發源100蒸發的有機物經由掩模圖形M而蒸鍍在基板S上，在基板S上形成規定形狀的有機膜。
有機物蒸發源100具有如下功能收容要向容器300內部的基板S上進行蒸鍍的有機物，在把收容的有機物進行加熱使其蒸發后把它向基板S上噴射，并在基板S上形成有機膜。所述蒸發源100可以是本發明第一實施例～所述第三實施例的蒸發源。
所述蒸發源100，根據本發明的第三實施例，還具備罩70。因此，如前所述，所述罩70能維持比所述噴嘴部30低的溫度。因此，由于所述罩70在不放出大量熱的同時，可將從所述噴嘴部30和所述反射板50放出的輻射熱遮斷，所以能減少所述掩模250和所述基板200的溫度上升量。由此，可防止所述基板200和所述掩模250由所述蒸發源100的輻射熱而引起的變形。
所述蒸發源100可具備在所述罩70上向蒸鍍方向突出的突出部75。因此，可使來自所述蒸發源100的散熱更有效地進行。即，通過所述突出部75將向所述基板200行進的輻射熱再一次遮斷，由此能更加提高散熱效果。
通過使用所述突出部75防止所述蒸鍍物質10向側面擴散，故可防止所述容器300的內部污染。
圖12是表示本發明第四實施例的有機物蒸發源的立體圖。圖13是沿圖12的有機物蒸發源的A-A線的剖面圖。
如圖所示，有機物蒸發源100具備貯藏有機物且一面開口的殼體60，在殼體60的內部設置有有機物貯藏部20(或叫做坩堝)。
在此，殼體60以大致1～5mm左右的厚度T2形成。該殼體60具有包圍有機物貯藏部20的形態，其起到將有機物貯藏部20與外部環境進行隔離的作用。
有機物貯藏部20為小于殼體60的尺寸，設置在殼體60的內部，確保在與殼體60的開口面同一方向上開口的開口面。
有機物貯藏部20貯藏要向基板S上進行蒸鍍的有機薄膜的原材料、即有機物。該有機物貯藏部20由導熱性優良的石墨形成，該石墨具有使通過后述加熱部40加熱的有機物貯藏部20的內部溫度維持均勻的優點。即，以工序溫度迅速加熱的同時，在維持均勻溫度的情況下，通過有機物蒸發源100的有效加熱來進行薄膜蒸鍍。
石墨是六方晶系多孔性物質，其隔熱效率非常優良。因此，能穩定維持有機物貯藏部20內部的加熱溫度，但也可發生有機物的泄漏。
為了防止這點，如圖9所示，在有機物貯藏部20上附有防止有機物泄漏部件21。該防止有機物泄漏部件21可附在有機物貯藏部20的內面或外面上，或者內面和外面兩面上。可有選擇地采用該防止有機物泄漏部件21的涂附面。
這時的防止有機物泄漏部件21可由鎳和高熔點金屬構成。所謂的高熔點金屬是指具有比鐵的熔點高的熔點的金屬，該高熔點金屬中能舉出鎢(熔點3400℃)、錸(3147℃)、鉭(2850℃)、鉬(2620℃)、鈮(1950℃)、釩(1717℃)、鉿(2227℃)、鋯(1900℃)、鈦(1800℃)等。本發明采用它們中的任一種。
防止有機物泄漏部件21可使用氧化物、碳化物、氮化物中的任一種。氧化物更正確地是指除與去了氟元素以外元素的化合物。
本發明對酸性氧化物和堿性氧化物都能采用，最好是使用酸性氧化物。其不易溶于液體，對熱具有強的難溶性。碳化物可采用碳化鈣及其他種類，氮化物可采用與碳化物進行了合成的物質。
有機物貯藏部20，與殼體60同樣地，是由厚度T4是1～5mm左右的厚度形成的。這樣，把殼體60和有機物貯藏部20的厚度設定為小于或等于5mm，是為了進一步提高殼體60和有機物貯藏部20的導熱性。
即，該殼體60和有機物貯藏部20的厚度越小就越提高導熱性。但小于或等于1mm的厚度，其耐久性惡化，且制造困難，所以在現實上不容易實施。
該殼體60和有機物貯藏部20的厚度即使小，也由于如前所述在有機物貯藏部20上附有防止泄漏部件21，所以在有效地遮斷有機物泄漏的同時，進一步提高了導熱性。
在有機物貯藏部20的開設口的面的內側，設置有將從有機物貯藏部20的內部蒸發排出的有機物進行噴射的噴嘴部30，加熱部40設置在有機物貯藏部20與殼體60之間。
噴嘴部30起到將從有機物貯藏部20蒸發的有機物粒子向大致垂直設置的基板S上噴射，使有機物粒子蒸鍍在基板S上，并決定其分布形態的作用。
噴嘴部30將有機物噴射流路31與防止飛散膜32一體化，其中，有機物噴射流路31把從有機物貯藏部20蒸發的有機物粒子向基板S上噴射；防止飛散膜32防止有機物不作為有機物粒子從機物貯藏部20蒸發，而是組束形態進行飛散。該噴嘴部30由導熱性優良的石墨構成。
有機物噴射流路31，向噴射方向側旁延伸地形成有多個，且該有機物噴射流路31，從噴嘴部30的中央部分越向兩側去則其數字就形成得越密，這樣來把有機物向基板S上進行密度均勻的噴射和蒸鍍。
石墨如已經說明的那樣，能把排出的有機物的溫度維持穩定。如圖10所示，為了防止有機物泄漏，在噴嘴部30上附有防止有機物泄漏部件33。該防止有機物泄漏部件33，是在噴嘴部30的內面或外面、或內面和外面這兩面上附上防止有機物泄漏部件33。
該防止有機物泄漏部件33的涂附面能有選擇地采用，其組成與附在所述有機物貯藏部20上的防止泄漏部件21相同。即能使用高熔點金屬、氧化物、碳化物、氮化物中的任一種。
噴嘴部30，根據開口的形狀能調節有機物粒子噴射的形態，能控制有機物貯藏部20內有機物均勻地蒸發。
加熱部40位于有機物貯藏部20與殼體60之間，其起到加熱所述有機物貯藏部20的有機物可使其蒸發的作用。這時，加熱部40包括熱線，其是能使有機物蒸發的熱源；熱線支承體，雖然未圖示，但其由一種加強肋的形式構成，防止熱線下垂而將其收容。
即，加熱部40是由熱線和熱線支承體構成的一種加熱通道結構，是加熱通道包圍有機物貯藏部20的形狀。因此，加熱部40，不是與有機物蒸發源100的其他結構元件，特別是有機物貯藏部20成為一體，或是安裝在其他結構元件上，所以其能獨立地進行分離和更換。
有機物蒸發源100還可具備安裝在殼體60內壁上的內部熱反射板50。該內部熱反射板50，用于反射加熱部40產生的熱，使加熱部40的熱效率增加。該內部熱反射板50的厚度T3是1～5mm左右。
有機物蒸發源100還可具備安裝在噴嘴部30的基板S方向的外部面上的熱遮斷板80。該熱遮斷板80通過噴嘴部30放出熱量，防止對基板S造成影響。
有機物蒸發源100還可具備設置在殼體60外壁上的隔熱部件90。該隔熱部件90，防止加熱部40產生的熱量經由殼體60而向外部放出。該隔熱部件90的厚度T1是1～5mm左右。
該熱反射板50、熱遮斷板80和隔熱部件90具有進一步提高有機物蒸發源100熱效率的功能。
有機物蒸發源100還可具備未圖示的測量裝置，其具有測量基板S上蒸鍍的有機物的蒸鍍率和有機物蒸鍍厚度的功能。
如前所述，所述有機物蒸鍍裝置500為如下結構，即，使有機物貯藏部20位于加熱通道結構的加熱部40之間，在有機物貯藏部20被開口的部分處插入噴嘴部30，而加熱部40插入在殼體60內，是有機物貯藏部20、噴嘴部30和加熱部40的分解·組裝容易的結構。
利用所述的有機物蒸鍍裝置500而進行有機膜形成的方法，在以下進行說明。
首先，將基板S相對于地面大致垂直地安裝在有機物蒸鍍裝置500的容器300內，最好其可相對于地面維持70°～100°。
然后，通過加熱部40對收容有要向有機物蒸發源100的基板S上蒸鍍的有機物的有機物貯藏部20進行加熱。這時，貯藏在有機物貯藏部20中的有機物通過加熱部40而被加熱，以有機物粒子的狀態被蒸發。
被蒸發的有機物粒子向噴嘴部30流入，并通過噴嘴部30噴射而蒸鍍在基板S上。這時，被蒸鍍在基板S上的有機物粒子通過掩模圖案M來決定蒸鍍形狀。
能夠通過移送裝置150來移動輸送有機物蒸發源100，使有機物蒸鍍在基板S上，進行更均勻的有機物蒸鍍。
噴嘴部30，由于將有機物噴射流路31和防止飛散膜32一體化，所以能防止有機物不作為有機物粒子從有機物貯藏部20蒸發出，而是以組束形態飛散的情況。
由于噴嘴部30是由石墨這樣導熱性優良的物質構成，所以即使不另外設置加熱裝置，也能防止通過噴嘴部30噴射的有機物粒子的凝縮。
在有機物粒子向基板S上進行蒸鍍時，可根據有機物噴射噴嘴部30的開口形狀來調節在所述基板S上進行蒸鍍的有機物粒子的形態。在由這種有機物蒸發源100進行有機物蒸鍍時，在有機物貯藏部20和噴嘴部30上都附有防止有機物泄漏部件21、353，可有效地防止有機物的泄漏。
這樣，本發明的有機物蒸發源由于還具備測量裝置(未圖示)，故可在把有機物向所述基板S上進行蒸鍍期間，測量所述基板S上蒸鍍的有機物的蒸鍍率和有機物的蒸鍍厚度。該測量裝置可采用激光傳感器等，也可使用其他的各種傳感器和處理這些傳感器測量數據值的數據處理部和顯示測量狀態的顯示裝置。
因此，使用測量裝置，在有機薄膜形成期間，通過控制有機物粒子的蒸鍍率和有機物的蒸鍍厚度，能夠實現具有均勻厚度的有機薄膜的再現性。
圖11a～圖11c是用于說明本發明第五實施例的所述蒸發源的圖，是用于說明構成所述蒸發源的貯藏部以及連接在所述貯藏部上的噴嘴部和加熱部的支承結構的圖。
圖11a是限定表示利用支承裝置對構成所述蒸發源的貯藏部20、連接在所述貯藏部20上的噴嘴部30以及加熱部30進行支承的結構的立體圖，其是把上、下部反轉表示的圖。
參照圖11a，本發明的蒸發源包括貯藏部20，其貯藏蒸鍍物質，且一部分被開口；噴嘴部20，其連接在所述貯藏部20上；加熱部30，其具有把所述噴嘴部包圍的通道形狀。在此，所述加熱部30能把所述噴嘴部20整體和所述貯藏部的規定部分包圍。在此，所述加熱部具備位于一側面，且支承所述噴嘴部和所述貯藏部的第一支承裝置。這時，所述第一支承裝置最好與所述貯藏部的規定部分接觸。圖中，所述第一支承裝置是以線狀的支承臺和點狀的支承銷相組合的方式表示的，但所述第一支承裝置可以由線狀的支承臺或點狀的支承銷構成。
這樣，通過由所述第一支承裝置支承所述貯藏部的規定部分，可把所述第一支承裝置引起的損失最小化，所以能維持所述貯藏部整個面的溫度均勻性。
在此，圖中表示的是，所述貯藏部20通過所述加熱部的三個第一支承裝置300而被連接支承，但并不限定于此，其也可以具備大于或等于三個的多個第一支承裝置。這時，所述貯藏部20在規定部分上形成有凹凸部310。在此，所述凹凸部310最好位于相對所述貯藏部的長度方向的中央部。這時，所述多個第一支承裝置中的任一個第一支承裝置是可插入在所述貯藏部20的凹凸部310內進行連接和固定的固定-第一支承裝置。
所述貯藏部20是貯藏要向所述被蒸鍍基板的一個面上進行蒸鍍的形成薄膜的蒸鍍材料的部分，一般由坩堝構成。所述貯藏部20可由導熱度優良的石墨或其等價物來構成，但本發明并不限定其材質。
所述噴嘴部20包括噴射噴嘴，其把從所述貯藏部20蒸發的蒸鍍物質粒子向大致垂直地豎立設置的基板S上噴射，使所述蒸鍍物質粒子在所述基板S上進行蒸鍍、分布；防止飛散膜，其防止有機物不作為蒸鍍物質粒子從貯藏部蒸發，而是以組束的形態飛散，噴嘴部20把噴射噴嘴和防止飛散膜一體化。
所述加熱部30起到加熱所述貯藏部的蒸鍍物質使其能蒸發的作用。所述加熱部30，至少具備大于或等于三個的第一支承裝置300，起到支承并固定所述貯藏部20和所述噴嘴部20的作用。
圖11b是詳細地表示圖11a的加熱部和位于所述加熱部一側的第一支承裝置的立體圖。
參照圖11b，所述加熱部30包括熱線41，其是可將所述蒸鍍物質蒸發的熱源；熱線支承體42，其由一種加強肋的形式構成，防止所述熱線下垂而將其收容；三個第一支承裝置300，其連結在所述熱線支承體上，用于支承所述貯藏部。圖中表示了三個第一支承裝置，但并不限定于此，可以由大于或等于三個的多個第一支承裝置構成。
所述加熱部30的熱線41為了對所述蒸鍍物質的蒸發有效地傳遞熱量，而持續反復地形成鋸齒狀或S字狀，并利用所述熱線支承體42而被收容，其形狀是一種通道形式，所述噴嘴部(圖11a的30)以及所述貯藏部(圖11a的20)的規定部分則位于通道的內部。
所述第一支承裝置300包括線狀的支承臺301a、301b、301c，其分別連接在所述熱線支承體42的一側上，能使與所述貯藏部(圖11a的20)的接觸面積最小化；兩個點狀的支承銷302a、302b、302c、303a、303b、303c，其固定在所述支承臺301a、301b、301c上。這時本實施例是作為兩個支承銷進行說明的，但并不限定于此。在此，所述支承銷302a、302b、302c、303a、303b、303c，可具有從圓柱、長方體、圓錐臺、三角錐、四角錐構成的群中選擇一個的形狀。
所述第一支承裝置300中任一個第一支承裝置，即對在所述貯藏部的長度方向上位于中央的中央部進行支承的第一支承裝置300c，最好還具備與支承所述貯藏部的支承銷302c不同的，位于所述加熱部的熱線41內并且支承所述噴嘴部的至少一個支承銷303c。這時，可通過不是所述支承銷303c的其他支承裝置來支承所述噴嘴部。這樣，能防止由所述第一支承裝置300支承的所述加熱部和所述噴嘴部向一個方向傾斜。
固定-第一支承裝置的支承銷302b、303c最好與位于左右的第一支承裝置300a、300b的支承銷不同，在所述支承銷上具有凹凸部302c。
參照圖12a，在所述支承銷上形成的凹凸部302c可插入并固定在位于所述貯藏部20中央部的凹凸部310內。或者與附圖不同，位于所述貯藏部20中央部的凹凸部310能插入固定在所述支承銷上形成的凹凸部302c上。
所述第一支承裝置為了防止由連接部熱損失的差異而引起的溫度不均勻，而由導熱率低的物質構成。例如所述第一支承裝置最好是由氧化鋯或石英(Quartz)構成。
圖11c是表示在圖11a的后面觀察的所述加熱部和所述貯藏部以及所述噴嘴部支承形態的概略圖。
參照圖11c，位于固定-第一支承裝置300c的所述支承銷302c上的凹凸部304c，插入固定在形成于所述貯藏部20中央部的凹凸部310內，而位于左右的第一支承裝置300a、300b具有與所述貯藏部20的一個面接觸的結構。即，所述固定-第一支承裝置300c插入在所述凹凸部內而被約束，位于左右的第一支承裝置300a、300b支承所述貯藏部20的重量，可滑動。這樣，所述貯藏部即使由加熱而膨脹，所述貯藏部也不會產生翹曲，能防止發生破損。
圖12a～圖12e是表示本發明第二實施例蒸發源的圖，是用于說明連接和支承加熱部和所述殼體的支承結構的圖。
圖12a是概略地表示把所述加熱部通過第一支承裝置固定連接在所述殼體內部的立體圖。
參照圖12a，加熱部40被收容在局部開口的殼體60內。這時，所述殼體60還具備第二支承裝置320，其與所述第一支承裝置接觸或連結并支承、連接所述加熱部。這時，位于所述殼體中央部的第二支承裝置320c上，形成有凹凸部。這樣，連結在所述加熱部上的所述固定-第一支承裝置就插入固定在其上。位于左右的第二支承裝置320a、320b具有與所述第一支承裝置接觸并支承其重量的結構。結果，所述加熱部40的中央部被所述殼體60的規定部分限制，而左右側僅支承所述加熱部的重量，可滑動。這樣，在所述加熱部40由于熱而膨脹時，可以被防止產生翹曲或發生破損。
雖然未圖示，但噴嘴部和與該噴嘴部連結的貯藏部能插入到所述加熱部的內部，根據需要，任何時候都能進行分離和更換。
圖12b是限定表示圖12a的殼體的圖。
如圖12b所示，所述殼體60具備用于支承所述加熱部40的第二支承裝置320。
在此，所述第二支承裝置320最好與所述加熱部的接觸面積小。這樣，所述第二支承裝置320可由線狀的支承臺321a和/或固定在所述支承臺上的點狀支承銷322a構成。另外，所述第二支承裝置為了防止由連接部熱損失的差異而引起的溫度不均勻，而由導熱率低的物質構成。例如所述第二支承裝置最好是由氧化鋯或石英構成。
這時，位于所述殼體中央的第二支承裝置320c的所述支承臺321a或所述支承銷322a最好具有凹凸部。這時，被固定在所述殼體內部的加熱部具有突出部，所述突出部插入固定在所述支承銷的凹凸部內。這樣，所述加熱部具有中央部分被約束固定，左右僅支承重量且可滑動的結構，由此，能防止由熱膨脹引起的翹曲現象。
圖12c是關于本發明第一實施例的蒸發源的圖，是詳細表示固定在所述殼體內部的加熱部的圖。
參照圖12c，所述加熱部40包括熱線41，其為了對所述蒸鍍物質的蒸發有效地傳遞熱，而持續反復地形成鋸齒狀或S字曲線；熱線支承體42，其支承并收容所述熱線。
所述加熱部40的形狀具有一種通道形式，雖然未圖示，但噴嘴部或貯藏部的規定部分能位于通道的內部。
在此，所述噴嘴部和與該噴嘴部連接的貯藏部，被收容在所述加熱部內，可根據需要而進行分離和更換。即，所述噴嘴部和所述貯藏部通過與所述熱線支承體42連接的第一支承裝置330而被固定和連結。
所述各個第一支承裝置330與位于所述殼體內部的各個第二支承裝置320接觸，把所述加熱部40固定支承在所述殼體60上。
這時，連結在所述加熱部的中央部上的固定-第一支承裝置330c最好在下部具有凹凸部。這樣，就能插入固定在位于所述殼體中央部上的第二支承裝置320c上。
在所述殼體的內壁上還可具備內部熱反射板55。所述內部熱反射板55可插入在所述第二支承裝置兩側上形成的溝道內來進行組裝。在此，所述內部熱反射板55起到將所述加熱部產生的熱反射而使所述加熱部熱效率增加的作用。
圖12d是圖12c的P區域的放大立體圖，是用于說明所述殼體和所述加熱部的中央地點的支承結構的立體圖。
參照圖12d，位于所述殼體中央部的第二支承裝置320c由線狀的支承臺321c和在其上部形成有凹凸部的支承銷322c構成。另外，位于所述加熱部一側的中央部上的固定-第一支承裝置330c在其下部形成有凹凸部335c。這樣，所述第二支承裝置320c與固定-第一支承裝置330c相互插入而固定。
在所述第二支承裝置320c的側面上形成有用于組裝內部熱反射板的溝道323。
圖12e是圖12c的Q區域的放大立體圖，是用于說明所述殼體和所述加熱部的左右地點的支承結構的立體圖。
參照圖12e，位于所述殼體左側或右側的第二支承裝置320a由線狀的支承臺321a和在其上部形成的支承銷322a構成。在位于所述加熱部一側的中央部上的固定-第一支承裝置330c的下部，設有所述第二支承裝置320a，其支承所述加熱部的重量。
在所述第二支承裝置320a的側面上形成有用于組裝內部熱反射板的溝道323。
這樣，所述加熱部的結構如下，其中央部分被所述殼體的第二支承裝置320c和固定-第一支承裝置330c約束，其兩側與所述殼體的第二支承裝置320a、320b和第一支承裝置330a、330b接觸而僅支承所述加熱部重量，并且能夠滑動。這樣，能防止由所述加熱部熱膨脹引起的翹曲。通過使所述加熱部與所述殼體的接觸面積最小化，能防止由接觸部熱損失引起的所述加熱部的溫度不均勻。
圖13a～圖13c是用于說明具備本發明第二實施例的蒸發源的蒸發源組件的圖。
參照圖13a，所述蒸發源組件600具備蒸發源100和收容所述蒸發源的外部殼體62，所述外部殼體具備支承并連結所述蒸發源的第三支承裝置。
雖然未圖示，但所述蒸發源100由貯藏部、連結在所述貯藏部上的噴嘴部、把所述噴嘴部和所述貯藏部的規定部分包圍的加熱部以及將上述部件收容的殼體構成，并且具備連接并支承所述結構元件的多個支承部。
在所述外部殼體62上形成有第三支承裝置330。在此，所述第三支承裝置330由用于防止所述蒸發源100的熱損失的最小程度的形狀構成，可為線狀、點狀、或是點、線組合的形狀。
為了防止由與所述蒸發源100的連接部的熱損失的差異而引起的溫度不均勻，由導熱率低的物質構成。例如所述第三支承裝置最好是由氧化鋯或石英構成。
在所述蒸發源100的形成有開口部的下端面規定部分上形成有突起部350。這時，相對于所述蒸發源長度方向在所述突起部350的中央部形成有凹凸部。在此，所述第三支承裝置330中的任一個第三支承裝置可以是插入在所述凹凸部內并被固定的固定-第三支承裝置330c。
這樣，所述蒸發源100的中央部就被固定-第三支承裝置330c固定，而兩側則由其他的第三支承裝置來支承所述蒸發源的重量，能夠滑動。這樣，在所述蒸發源100由熱而膨脹時，就能防止產生翹曲和發生破損的現象。
所述外部殼體62能夠由冷卻板構成，該冷卻板使用制冷劑來防止從位于其內部的蒸發源放出的熱向外部放出。
所述外部殼體可分成多個單元，而所述多個單元的各個可具備蒸發源。這樣，由于所述各個蒸發源內部具有相同的蒸鍍物質并垂直地進行移動，可在基板上蒸鍍均勻的薄膜，特別是在適用于大型基板時是有利的。另外，所述各個蒸發源分別在其內部具有相互不同的蒸鍍物質時，能夠在蒸鍍工序期間把兩個蒸鍍物質混合而蒸鍍在所述基板上。
圖13b是把圖13a的蒸發源組件沿I-I′線剖切的剖面圖，即，是所述蒸發源相對于長度方向的中央部的剖面圖。
參照圖13b，所述蒸發源100通過固定-第三支承裝置330c而支承并固定在所述外部殼體62上。
這時，所述蒸發源100在被開口的前面下端的規定部分上形成有突起部350，所述外部殼體的第三支承裝置的凹凸部331c則插入固定在所述凹凸部內。在此，通過調整位于所述蒸發源后面的第三支承裝置330c′的高度或位于前面的第三支承裝置330c的高度，就能調節所述蒸發源的傾斜。由此，能夠調節從所述蒸發源放出的蒸鍍物質的蒸鍍方向。
圖13c是把圖13a的蒸發源組件沿II-II′線剖切的剖面圖，是所述蒸發源左側部或右側部的剖面圖。
參照圖13c，所述蒸發源100通過第三支承裝置330b而支承并固定在所述外部殼體62上。這時，所述蒸發源可通過第三支承裝置330b來進行接觸并支承其重量。
如上所述，如位于所述蒸發源中央部的中心-三支承裝置那樣，通過調整位于后面的第三支承裝置330b′的高度或位于前面的第三支承裝置330b的高度，就能調節所述蒸發源100的傾斜。由此，能夠調節從所述蒸發源100放出的蒸鍍物質的蒸鍍方向。
這樣，所述蒸發源相對于長度方向的中央部被所述外部殼體的固定-第三支承裝置330c約束，其兩側部通過所述外部殼體的第三支承裝置330a、330b而僅支承所述蒸發源的重量，能夠滑動。由此，能夠防止所述蒸發源由熱膨脹而引起的翹曲。通過使所述蒸發源和所述外部殼體的接觸面積最小化，可防止由接觸部熱損失引起的所述加熱部的溫度不均勻。
以上說明的本發明，只要是具有本發明所屬技術領域一般知識的人，就能在不脫離本發明技術思想的范圍內進行各種置換、變形和變更，所以，其并不限定于上述的實施例和附圖內。
權利要求
1.一種蒸發源，其特征在于，包括蒸鍍物質貯藏部，其放置有蒸鍍物質，并且局部開口；噴嘴部，其具有與所述蒸鍍物質貯藏部的開口的部分連結并用于噴射所述蒸鍍物質的開口部；反射板，其包圍所述噴嘴部的至少一部分的角部；殼體，其包圍所述蒸鍍物質貯藏部；加熱部，其位于所述殼體與所述蒸鍍物質貯藏部之間。
2.如權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，還具有位于所述殼體與所述加熱部之間的反射板。
3.如權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，所述反射板由耐熱合金構成。
4.如權利要求3所述的蒸發源，其特征在于，所述反射板由以鎳為主要成分的耐熱合金構成。
5.如權利要求4所述的蒸發源，其特征在于，所述反射板由鉻鎳鐵合金構成。
6.如權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，所述噴嘴部具有中央部比角部突出的結構。
7.如權利要求6所述的蒸發源，其特征在于，所述反射板位于所述噴嘴部的角部。
8.如權利要求7所述的蒸發源，其特征在于，所述噴嘴部的突出的中央部比所述反射板的表面的高度高。
9.如權利要求7所述的蒸發源，其特征在于，所述噴嘴部的突出的中央部比所述反射板的表面的高度低。
10.如權利要求9所述的蒸發源，其特征在于，所述噴嘴部的突出的中央部與所述反射板的表面具有小于或等于1mm的高度差。
11.如權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，所述反射板具有位于所述噴嘴部的非開口部并且比所述噴嘴部突出的結構。
12.如權利要求11所述的蒸發源，其特征在于，位于所述噴嘴部的開口部周邊的所述反射板的邊緣部分具有錐角。
13.如權利要求11所述的蒸發源，其特征在于，位于所述噴嘴部的開口部周邊的所述反射板表面的邊緣間隔，比所述噴嘴部的噴嘴的寬度寬。
14.如權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，具有通過傳導將所述加熱部的熱量向所述反射板傳遞的結構。
15.如權利要求14所述的蒸發源，其特征在于，所述加熱部與所述反射板是直接連結的。
16.如權利要求14所述的蒸發源，其特征在于，還包括位于所述加熱部與所述反射板之間的導熱體。
17.如權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，具有通過輻射將所述加熱部的熱量向所述反射板傳遞的結構。
18.如權利要求17所述的蒸發源，其特征在于，其還包括位于所述反射板與所述加熱部之間的導熱體。
19.如權利要求17所述的蒸發源，其特征在于，所述反射板具有直接接受所述加熱部的輻射熱的結構。
20.如權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，所述加熱部包括熱源和熱源支承體。
21.如權利要求1所述的蒸發源，其特征在于，所述蒸發源還包括位于所述反射板上且把所述反射板覆蓋的罩。
22.如權利要求21所述的蒸發源，其特征在于，所述罩包括向蒸鍍方向突出的突出部。
23.如權利要求21所述的蒸發源，其特征在于，還包括位于所述殼體與所述加熱部之間的反射板。
24.如權利要求21所述的蒸發源，其特征在于，所述蒸鍍物質是有機物。
25.如權利要求21所述的蒸發源，其特征在于，所述蒸鍍物質是導電性物質。
26.如權利要求21所述的蒸發源，其特征在于，所述加熱部包括熱源和熱源支承體。
27.一種蒸鍍裝置，其特征在于，其具有蒸發源和支承基板的容器，所述蒸發源包括蒸鍍物質貯藏部，其放置有蒸鍍物質，且局部開口；噴嘴部，其具有與所述被開口的部分連結并用于噴射所述蒸鍍物質的開口部；反射板，其包圍所述噴嘴部的至少一部分的角部；殼體，其包圍所述蒸鍍物質貯藏部；加熱部，其位于所述殼體與所述蒸鍍物質貯藏部之間。
28.如權利要求27所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置還包括位于所述反射板上且把所述反射板覆蓋的罩。
29.如權利要求28所述的蒸發源，其特征在于，所述蒸發源的罩包括向蒸鍍方向突出的突出部。
30.如權利要求27所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸發源是線狀蒸發源。
31.如權利要求27所述的蒸鍍裝置，其特征在于，在所述容器內配置有移動輸送所述蒸發源的移送裝置。
32.一種蒸發源，其特征在于，包括殼體，其一面開口；貯藏部，其位于所述殼體的內部，在其內部貯藏有機物且一面開口；噴嘴部，其與所述貯藏部的開口的部分連接，噴射蒸鍍物；加熱部，其位于所述貯藏部與所述殼體之間。
33.如權利要求32所述的蒸發源，其特征在于，所述貯藏部由石墨構成。
34.如權利要求33所述的蒸發源，其特征在于，所述貯藏部上附有防止泄漏部件。
35.如權利要求34所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件附在所述貯藏部的內部。
36.如權利要求34所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件附在所述貯藏部的外面。
37.如權利要求34所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件是鎳。
38.如權利要求34所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件由鎢、錸、鉭、鉬、鈮、釩、鉿、鋯、鈦這樣高熔點金屬中的任一種構成。
39.如權利要求34所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件是氧化物。
40.如權利要求34所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件是碳化物。
41.如權利要求34所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件是氮化物。
42.如權利要求32所述的蒸發源，其特征在于，所述噴嘴部由石墨構成。
43.如權利要求32所述的蒸發源，其特征在于，所述噴嘴部上附有所述防止泄漏部件。
44.如權利要求43所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件附在所述噴嘴部的內部。
45.如權利要求43所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件附在所述噴嘴部的外面。
46.如權利要求43所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件是鎳。
47.如權利要求43所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件是由鎢、錸、鉭、鉬、鈮、釩、鉿、鋯、鈦這樣高熔點金屬中的任一種構成。
48.如權利要求43所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件是氧化物。
49.如權利要求43所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件是碳化物。
50.如權利要求43所述的蒸發源，其特征在于，所述防止泄漏部件是氮化物。
51.如權利要求32所述的蒸發源，其特征在于，所述噴嘴部包括蒸鍍物噴射噴嘴，其把蒸鍍物粒子噴射在所述基板上；防止飛散膜，其防止所述貯藏部的蒸鍍物飛散。
52.如權利要求32所述的蒸發源，其特征在于，所述蒸發源還具備安裝在所述殼體內壁上的內部熱反射板。
53.如權利要求32所述的蒸發源，其特征在于，所述蒸發源還具備安裝在所述噴嘴部的基板方向外部面上的熱遮斷板。
54.如權利要求52所述的蒸發源，其特征在于，所述蒸發源還具備位于所述加熱部的一側并位于所述貯藏部與所述殼體之間的多個第一支承裝置，所述多個第一支承裝置與所述貯藏部和所述殼體的各個規定部分接觸。
55.如權利要求54所述的蒸發源，其特征在于，所述多個第一支承裝置由線狀形態、點狀形態或是它們的組合形態構成。
56.如權利要求54所述的蒸發源，其特征在于，所述多個第一支承裝置中至少一個第一支承裝置是固定在所述貯藏部的一側面中央部的固定-第一支承裝置。
57.如權利要求56所述的蒸發源，其特征在于，在所述貯藏部的長度方向上的中央部設置有凹凸部。
58.如權利要求56所述的蒸發源，其特征在于，所述固定-第一支承裝置被約束并固定在所述殼體的規定部分上。
59.如權利要求54所述的蒸發源，其特征在于，所述殼體還包括分別與所述多個第一支承裝置連結的第二支承裝置。
60.如權利要求59所述的蒸發源，其特征在于，所述多個第一支承裝置中配置于中央的第一支承裝置與所述第二支承裝置相互約束并固定。
61.如權利要求59所述的蒸發源，其特征在于，所述第二支承裝置還包括在兩側面部上形成有溝道且通過所述溝道而插入組裝的內部熱反射板。
62.如權利要求54所述的蒸發源，其特征在于，所述多個第一支承裝置還包括支承所述噴嘴部的支承裝置。
63.一種蒸發源組件，其特征在于，包括如權利要求54所述的蒸發源；外部殼體，其至少收容一個該蒸發源。
64.如權利要求63所述的蒸發源組件，其特征在于，所述蒸發源組件還包括位于所述蒸發源與所述外部殼體之間，且把所述蒸發源連結并支承在所述外部殼體上的多個第三支承裝置。
65.如權利要求64所述的蒸發源組件，其特征在于，所述多個第三支承裝置與所述蒸發源的規定部分接觸。
66.如權利要求64所述的蒸發源組件，其特征在于，所述多個第三支承裝置包括固定在所述蒸發源的長度方向上的中央部的固定-第三支承裝置。
67.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括殼體，其一面開口；貯藏部，其位于所述殼體的內部，在內部貯藏有機物且一面開口；噴嘴部，其包含與所述貯藏部的開口的部分連結且將蒸鍍物粒子噴射到基板上的噴射噴嘴，和防止所述貯藏部的蒸鍍物飛散的防止飛散膜；加熱部，其位于所述貯藏部與所述殼體之間；熱反射板，其設置在所述殼體的內壁上，把來自所述加熱部的熱量反射到所述貯藏部；熱遮斷板，其安裝在所述噴嘴部的基板方向的外部面上。
68.如權利要求67所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述殼體具有1～5mm的厚度。
69.如權利要求67所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述貯藏部具有1～5mm的厚度。
70.如權利要求67所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述貯藏部由石墨構成。
71.如權利要求67所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述貯藏部上附有防止泄漏部件。
72.如權利要求71所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件附在所述貯藏部的內部。
73.如權利要求71所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件附在所述貯藏部的外面。
74.如權利要求71所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件是鎳。
75.如權利要求71所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件由鎢、錸、鉭、鉬、鈮、釩、鉿、鋯、鈦這樣高熔點金屬中的任一種構成。
76.如權利要求71所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件是氧化物。
77.如權利要求71所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件是碳化物。
78.如權利要求71所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件是氮化物。
79.如權利要求67所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述噴嘴部由石墨構成。
80.如權利要求79所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述噴嘴部上附有所述防止泄漏部件。
81.如權利要求80所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件附在所述噴嘴部的內部。
82.如權利要求80所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件附在所述噴嘴部的外面。
83.如權利要求80所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件是鎳。
84.如權利要求80所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件由鎢、錸、鉭、鉬、鈮、釩、鉿、鋯、鈦這樣高熔點金屬中的任一種構成。
85.如權利要求80所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件是氧化物。
86.如權利要求80所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件是碳化物。
87.如權利要求80所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述防止泄漏部件是氮化物。
88.如權利要求67所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸發源還具備位于所述加熱部的一側并且位于所述貯藏部與所述殼體之間的多個第一支承裝置，所述多個第一支承裝置與所述貯藏部和所述殼體的各個規定部分接觸。
89.如權利要求88所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述多個第一支承裝置由線狀形態、點狀形態或是它們的組合形態構成。
90.如權利要求88所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述多個第一支承裝置中至少一個第一支承裝置是固定在所述貯藏部的一側面中央部上的固定-第一支承裝置。
91.如權利要求90所述的蒸鍍裝置，其特征在于，在所述貯藏部的長度方向上的中央部設置有凹凸部。
92.如權利要求90所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述固定-第一支承裝置被約束并固定在所述殼體的規定部分上。
93.如權利要求88所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述殼體還包括分別與所述多個第一支承裝置連結的第二支承裝置。
94.如權利要求93所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述多個第一支承裝置中配置在中央的第一支承裝置與所述第二支承裝置相互約束并固定。
95.如權利要求93所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述第二支承裝置還包括在兩側面部上形成有溝道且通過所述溝道而插入組裝的內部熱反射板。
96.如權利要求88所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述多個第一支承裝置還包括支承所述噴嘴部的支承裝置。
全文摘要
本發明提供一種蒸發源和具備該蒸發源的蒸鍍裝置，其能通過使用反射板來有效提高噴嘴的熱量，從而防止蒸鍍物質在噴嘴處凝縮。本發明的蒸發源包括蒸鍍物質貯藏部，其放置有蒸鍍物質并且局部開口；噴嘴部，其具有連結在所述蒸鍍物質貯藏部的開口的部分上并用于噴射所述蒸鍍物質的開口部；反射板，其把所述噴嘴部的至少一部分的角部包圍；殼體，其包圍所述蒸鍍物質貯藏部包圍；加熱部，其位于所述殼體與所述蒸鍍物質貯藏部之間。本發明的蒸鍍裝置具備所述蒸發源。另外，本發明的有機物蒸發源由于改善所述有機物貯藏部和噴嘴部的材質并在它們的表面上附有防止有機物泄漏部件，所以，提高了噴嘴部和有機物貯藏部的導熱性，并防止了有機物的泄漏。
文檔編號C23C14/24GK1782120SQ20051012693
公開日2006年6月7日 申請日期2005年11月28日 優先權日2004年11月26日
發明者安宰弘, 李星昊, 鄭錫憲, 趙源錫, 康熙哲 申請人:三星Sdi株式會社