專利名稱：一種用于熱蒸發型真空鍍膜設備的熱蒸發源的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及真空鍍膜設備，特別涉及一種適用于熱蒸發型真空鍍膜設備中使用的新型蒸發源。它是由一組V字形斜槽料斗和其底部的加熱片所組成的。
背景技術：
熱蒸發型真空鍍膜設備適用于蒸鍍多種材料，是一種被廣為使用于對各種形式基材進行鍍膜加工的設備。其中熱蒸發源是整個鍍膜系統的重要組成部分，其性能的好壞直接影響到鍍膜的質量，可以說蒸發源是整個鍍膜系統的心臟。
現在被使用的熱蒸發源多為舟型，根據蒸發舟的形狀可分為敞口型和窄口型，根據蒸發舟使用數量的不同又可分為單個型和多個型。以上形式的蒸發源都存在有不同的缺陷。
使用敞口型蒸發源蒸鍍時物料在達到升華溫度后會迅速蒸發，蒸發速率在很短的時間內達到最大，然后隨著物料的減少而逐步下降，這種形式的蒸發源，蒸發的穩定性不好，對蒸發量和蒸鍍的厚度都很難控制，現在多被使用在一些試驗用小型設備上。
使用窄口型蒸發源蒸鍍時由于蒸發源的蒸發口很小，克服了敞口型物料被瞬間蒸發的缺點，提高了物料蒸發的穩定性，但隨著物料的蒸發，一部分物料會在蒸發口冷卻凝結，使蒸發口逐漸變小，蒸發量也隨之下降，長時間使用還會導致蒸發口堵塞。因此這種形式的蒸發源多用于短時間蒸鍍較薄的膜層，對于蒸鍍較厚的膜層時就無法使用。
單個舟型蒸發源型一般用于小型鍍膜設備，在大型設備中使用的單個舟型蒸發源在蒸鍍時熔化蒸發物料作為電流的優良導體會導致蒸發源局部產生短路，致使整個蒸發源的發熱不均，影響蒸鍍的效果，嚴重的還會導致局部過熱燒毀蒸發源。
現在在大型鍍膜設備中多采用多個蒸發源系統來保證鍍膜的效果和質量。但在已公開的專利中(如P4016225.7；DE970246等)多個蒸發源系統只是在鍍膜系統中使用多個舟型蒸發源，雖然可以彌補單個舟型蒸發源所存在的一些缺陷，但鍍膜的均勻性和可控制性沒有得到根本的改善。
發明內容
本實用新型需要解決的技術問題是設計一種用于熱蒸發型真空鍍膜設備的熱蒸發源，以克服現有技術存在的鍍膜的均勻性和可控制性不完美的缺陷。
本實用新型的技術方案一種在真空鍍膜設備中使用的蒸發源，包括料斗、底部支座、加熱電極和加熱片。
其特征在于，所說的料斗為V字形斜槽，V字形斜槽通過支架固定在底部支座上，所說的加熱片嵌在V字形斜槽的底部，并與加熱電極相連接。
本實用新型改變了傳統舟型蒸發源，盛放蒸發物料的料斗為V字形斜槽，物料的蒸發只依靠料斗底部的加熱片。
本實用新型中V字形料斗底部的加熱片在熱蒸發時被電流加熱，在達到一定溫度后與其表面接觸的蒸發物料受熱蒸發。這種結構加熱片的電阻、表面積均恒定，只要蒸發電流不變，其表面的溫度就恒定，與其表面接觸的蒸發物料蒸發速率的穩定性就得到大大的提高，同時很好的改善了對物料蒸發的控制性，只需調節蒸發電流就可調節物料的蒸發速率。
本實用新型中使用的V字形斜槽料斗在蒸發時并不被加熱，其底部物料被蒸發后，由于物料本身重力的關系，后續物料會源源不斷的沿料槽滑至底部，這種結構可以很好的保證蒸發的連續進行，適用于對不同厚度膜層的蒸鍍，同時蒸發結束后未蒸發的物料沒有受過熱仍舊可以使用，大大節約了材料成本。
本實用新型提供的新型蒸發源可根據不同的需要進行組合使用，根據鍍膜設備的尺寸可以在設備中安裝一個或多個相互獨立的這種新型的蒸發源，從而組成完整的蒸發系統。多個蒸發源在真空鍍膜系統中的位置也可根據需要安置。
本實用新型提供的新型蒸發源克服了傳統舟型蒸發源的缺陷，大幅度的提高了物料蒸發的穩定性，從而提高了鍍膜的均勻性和質量。同時改善了對物料蒸發的可控制性，使鍍膜過程更加易于控制和調節。這種新型的蒸發源適用于各種類型和尺寸的真空蒸發鍍膜系統。
圖1為本實用新型的橫截面圖。
圖2為本實用新型的俯視圖。
具體實施方式
參見圖1和圖2，一種在真空鍍膜設備中使用的蒸發源，包括料斗1、底部支座2、加熱電極3和加熱片4。
其特征在于，所說的料斗1為包括兩個獨立斜邊6的V字形斜槽，獨立斜邊6之間的夾角為60～120°，獨立斜邊6通過支架10固定在底部支座2上，加熱片4嵌在V字形斜槽的底部，加熱片4與V字形斜槽之間設有設有絕緣片，加熱片4可與V字形斜槽中的物料充分接觸，加熱片4與加熱電極3相連接，熱電極3固定在底部支座2上；所說的底部支座2包括緊靠在V字形斜槽底部的絕緣支座201和連接在絕緣支座201兩端的金屬支座202，獨立斜邊(6)通過支架(10)固定在金屬支座(202)上；
所說的加熱電極3包括四片導電金屬，每兩片為一組，分別構成陰極301和陽極302，加熱片4固定在陰極301和陽極302之間構成回路。
可根據不同的需要，將上述的蒸發源進行組合使用，根據鍍膜設備的尺寸可以在設備中安裝一個或多個相互獨立的這種新型的蒸發源，從而組成完整的蒸發系統。多個蒸發源在真空鍍膜系統中的位置也可根據需要安置。
權利要求1.一種用于熱蒸發型真空鍍膜設備的熱蒸發源，包括料斗(1)、底部支座(2)、加熱電極(3)和加熱片(4)，其特征在于，所說的料斗(1)為包括兩個獨立斜邊(6)的V字形斜槽，獨立斜邊(6)通過支架(10)固定在底部支座(2)上，加熱片(4)嵌在V字形斜槽的底部，加熱片(4)與加熱電極(3)相連接，熱電極(3)固定在底部支座(2)上。
2.根據權利要求1所述的用于熱蒸發型真空鍍膜設備的熱蒸發源，其特征在于，所說的底部支座(2)包括緊靠在V字形斜槽底部的絕緣支座(201)和連接在絕緣支座(201)兩端的金屬支座(202)，獨立斜邊(6)通過支架(10)固定在金屬支座(202)上。
3.根據權利要求1所述的用于熱蒸發型真空鍍膜設備的熱蒸發源，其特征在于，加熱片(4)與V字形斜槽之間設有設有絕緣片。
4.根據權利要求1所述的用于熱蒸發型真空鍍膜設備的熱蒸發源，其特征在于，所說的加熱電極(3)包括四片導電金屬，每兩片為一組，分別構成陰極(301)和陽極(302)，加熱片(4)固定在陰極(301)和陽極(302)之間構成回路。
5.根據權利要求1～4任一項所述的用于熱蒸發型真空鍍膜設備的熱蒸發源，其特征在于，獨立斜邊(6)之間的夾角為60～120°。
專利摘要本實用新型設計了一種用于熱蒸發型真空鍍膜設備的熱蒸發源，包括料斗和加熱片。其特征在于，所說的料斗為V字形斜槽，所說的加熱片設置在V字形斜槽的底部。本實用新型改變了傳統舟型蒸發源，盛放蒸發物料的料斗為V字形斜槽，物料的蒸發只依靠料斗底部的加熱片。本實用新型提供的新型蒸發源克服了傳統舟型蒸發源的缺陷，大幅度的提高了物料蒸發的穩定性，從而提高了鍍膜的均勻性和質量。同時改善了對物料蒸發的可控制性，使鍍膜過程更加易于控制和調節。這種新型的蒸發源適用于各種類型和尺寸的真空蒸發鍍膜系統。
文檔編號C23C14/26GK2668649SQ20032010896
公開日2005年1月5日 申請日期2003年10月16日 優先權日2003年10月16日
發明者徐良衡, 徐英明, 陳紹 申請人:上海復旦天臣新技術有限公司