專利名稱：矩形平面多弧靶的制作方法
專利說明
一、技術領域本實用新型涉及一種真空離子多弧鍍膜機設備的關鍵部件——多弧靶。
二背景技術：
目前，國內外的真空離子多弧鍍膜機設備，大多數采用直徑50～100mm的圓形平面多弧靶，一臺鍍膜機需要配置幾個甚至幾十個這種靶，相應地還要配備幾個甚至幾十個引弧裝置和電弧源，使用時，必須逐個點燃每一個靶，關注每個弧源的運行情況，因而導致真空離子多弧鍍膜機設備的弧靶系統復雜，造價高，操作繁瑣。另外，圓形平面多弧靶還存在控弧磁場位形不合理、靶材刻蝕不均勻、弧斑運動不穩定、經常跑弧和熄弧等缺陷，影響工業化生產過程中的鍍膜質量。
三
發明內容
本實用新型針對現有技術存在的不足，提供一種矩形平面多弧靶，此種多弧靶一臺鍍膜機僅需配置一個，因而極大地簡化了真空離子多弧鍍膜機設備的弧靶系統結構。
本實用新型的技術方案是根據冷陰極真空弧光放電機理和磁控理論，從改變磁路入手，將陰極靶的形狀設計為矩形平面板，使磁場分量在矩形平面靶表面形成一個腰形磁環跑道，讓弧斑在這個磁環跑道內運動。由于陰極靶的形狀改變，安裝陰極靶的靶固定框、與靶固定框組合的的絕緣盒和磁體固定板的形狀均隨之改變，靶固定框為與陰極靶相匹配的矩形框，絕緣盒為與靶固定框相匹配的矩形盒，磁體固定板為與絕緣盒相匹配的矩形板。陰極靶的優選尺寸范圍為長500～2000mm，寬50～200mm。陰極靶的具體尺寸，根據鍍膜機的鍍膜室直徑和高度決定。
本實用新型提供的矩形平面多弧靶，包括絕緣盒、屏蔽板、磁體固定板、靶固定框、磁體、陰極靶、進水管、出水管；屏蔽板與絕緣盒連接，磁體固定板位于絕緣盒底部，磁體放置在磁體固定板上，靶固定框位于絕緣盒內且其一端與磁體固定板相貼，陰極靶安放在靶固定框的另一端，陰極靶、靶固定框和磁體固定板通過連接件連接成一體，進水管、出水管安裝在絕緣盒底部并與陰極靶、靶固定框和磁體固定板圍成的腔體接通，以通過進水管與出水管形成的循環水直接冷卻靶體。
本實用新型具有以下有益效果1、一臺鍍膜機僅需配置一個矩形平面多弧靶，一個引弧裝置，一套弧電源，操作者只需引一次弧，關注一個弧源的放電情況，因而鍍膜機整機造價降低，操作更為方便，故障減少。
2、弧斑在腰形磁環跑道內運動，靶面位移長，因而刻蝕區域大，鍍膜均勻區寬，鍍膜工藝重復性好。
3、矩形平面多弧靶安裝在鍍膜機的鍍膜室壁，可以充分利用鍍膜室空間。
四
圖1是本實用新型所提供的矩形平面多弧靶的一種結構圖；圖2是圖1的側視圖；圖3是本實用新型所提供的矩形平面多弧靶在真空離子多弧鍍膜機的鍍膜室的安裝示意圖。
圖中，1—屏蔽板、2—絕緣盒、3—靶固定框、4—磁體、5—陰極靶、6—密封圈、7—出水管、8—磁體固定板、9—絕緣套、10—進水管、11—鍍膜室、12—引弧裝置、13—弧電源。
五具體實施方式
以下結合附圖通過實施例對本實用新型所提供的矩形平面多弧靶的結構作進一步說明。
本實施例中的矩形平面多弧靶的結構如圖1、圖2所示，包括絕緣盒2、屏蔽板1、磁體固定板8、靶固定框3、磁體4、陰極靶5、進水管10、出水管7。屏蔽板1與絕緣盒2連接；磁體固定板8位于絕緣盒底部，磁體4為永磁體，放置在磁體固定板上；靶固定框位3于絕緣盒內且其一端與磁體固定板8相貼，陰極靶5安放在靶固定框的另一端，陰極靶5、靶固定框3和磁體固定板8通過連接件螺釘連接成一體，陰極靶5與靶固定框3的接觸面、磁體固定板8與靶固定框3的接觸面均設置有密封圈6；陰極靶5為鈦靶或鋯靶，其形狀為矩形平面板，由于真空離子多弧鍍膜機的鍍膜室直徑φ1000mm、高1200mm，故陰極靶5的尺寸為長1000mm、寬100mm，靶固定框3為與陰極靶相匹配的矩形框，絕緣盒2為與靶固定框相匹配的矩形盒，磁體固定板8為與絕緣盒相匹配的矩形板；進水管10、出水管7均為金屬管，兼作電極，安裝在絕緣盒2底部并與陰極靶、靶固定框和磁體固定板圍成的腔體接通，組裝時與絕緣盒接觸部位套裝了絕緣套9。
矩形平面多弧靶在真空離子多弧鍍膜機的鍍膜室11的安裝位置和安裝方式如圖3所示，弧電源13的正極接鍍膜室11并接地，其負極接陰極靶5，靶電流為90～255A，工作電壓為16～24V。使用時，將鍍膜室11抽到一定的真空度后啟動引弧裝置12，則可引燃電弧，電弧一旦被引燃，低壓大電流電源將維持陰陽極間弧光放電過程。電弧弧斑在正交電場和磁場(磁體4提供)中沿著磁場跑道作有規律運動，形成一條弧環。
權利要求1.一種矩形平面多弧靶，包括絕緣盒(2)、屏蔽板(1)、磁體固定板(8)、靶固定框(3)、磁體(4)、陰極靶(5)、進水管(10)、出水管(7)，屏蔽板與絕緣盒連接，磁體固定板位于絕緣盒底部，磁體放置在磁體固定板上，靶固定框位于絕緣盒內且其一端與磁體固定板相貼，陰極靶安放在靶固定框的另一端，陰極靶、靶固定框和磁體固定板通過連接件連接成一體，進水管、出水管安裝在絕緣盒底部并與陰極靶、靶固定框和磁體固定板圍成的腔體接通，其特征在于陰極靶(5)的形狀為矩形平面板，靶固定框(3)為與陰極靶相匹配的矩形框，絕緣盒(2)為與靶固定框相匹配的矩形盒，磁體固定板(8)為與絕緣盒相匹配的矩形板。
2.根據權利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于陰極靶(5)的優選尺寸范圍為長500～2000mm，寬50～200mm。
3.根據權利要求1或2所述的矩形平面多弧靶，其特征在于進水管(10)、出水管(7)均為可兼作電極的金屬管，組裝時與絕緣盒接觸部位套裝了絕緣套(9)。
專利摘要一種矩形平面多弧靶，包括絕緣盒、屏蔽板、磁體固定板、靶固定框、磁體、陰極靶、進水管、出水管。陰極靶的形狀為矩形平面板，使磁場分量在矩形平面靶表面形成一個矩形磁環跑道。由于陰極靶的形狀改變，靶固定框為與陰極靶相匹配的矩形框，絕緣盒為與靶固定框相匹配的矩形盒，磁體固定板為與絕緣盒相匹配的矩形板。此種矩形平面多弧靶不僅刻蝕區域大，鍍膜均勻區寬，鍍膜工藝重復性好，而且一臺鍍膜機僅需配置一個，操作者只需引一次弧，關注一個弧源的放電情況，因而鍍膜機整機造價降低，操作更為方便。
文檔編號C23C14/28GK2623697SQ0324925
公開日2004年7月7日 申請日期2003年6月27日 優先權日2003年6月27日
發明者常建, 陳佳, 常鴻, 常江, 陳志能 申請人:常建