專利名稱：電暈處理設備的制作方法
技術領域：
本發明系提供一種電暈處理設備，具體而言，本發明設備是指一種具有高壓電路系統、中點接地、絕緣室、正電極板與負電極板的電暈處理設備。
背景技術：
一般低壓電漿表面處理都是采用高頻電漿電力發射系統(例如就像無線電頻RF)，如圖1所示，包含了一組電極電源10、一待清理件14，以及另一組用于發射無線電頻RF的電源11、發射盒12及交流電發電機13；由電極電源10產生的電漿電子，會利用氣體分子將待清理件14上的金屬原子濺射出來，當這些金屬原子行經濺鍍室中的氣體時，則這些金屬原子便再與氣體產生大量碰撞，產生表面原子撞擊、清理的效果；若在此同時，另外施與交流電發電機13的無線電頻RF的震蕩，則無線電頻RF散發出獨特的規律電子沖撞及震蕩光熱會加速這些金屬與氣體及電子間的碰撞，致使電子很容易與氣體分子碰撞而將能量轉移；上述符合常用的低壓電漿表面處理會降低電漿處理的電源的需求量(操作時間縮短、溫度降低)，并且防止過度加熱，此種高頻電漿電力發射系統是現今常見低壓電漿表面處理方法之一，但是，其處理作業仍會產生下列問題其一，常用無線電頻RF會有高成本的問題，由于無線電頻RF的高頻震動會使作業環境的溫度過高，故習用設備中必須安裝高成本的降溫設備；其二，同樣因為無線電頻RF易產生高溫的問題，作業環境高溫會使待清理件14表面原子結成失敗，而且，由于電漿電子分散并不均勻，該待清理件14表面處理的效果增益也十分有限；其三，習用無線電頻RF在發射時又會產生電磁波，而電磁波則會干擾周側的電子設備，使器材不準確、控制不易精確。
因此，如何開發出一種具有更佳表面處理效果、不會產生過多缺陷的表面電暈處理設備，早已變成研發者與制造商最想克服的幾個問題，而上述內容中所呈現的問題也是本發明的發明人研發的動機。
針對以上缺陷，在求理想、實用與進步之今日，誠為一極待努力追求改善之目標；有鑒于斯，本案發明人乃經詳思細索，并積多年從事各種電漿機構與相關電漿處理技術的販售、研究與開發之經驗，終而得以開發出一種電暈處理設備，其不但有益于表面處理作業，也能取代結成容易失敗、會產生高溫及電磁波的無線電頻電漿設備。
發明內容
本發明的第一目的，在于提供一種電暈處理設備，其利用二個電極板之間產生穩定的擴散電暈放電進行表面清潔，不但稠密的絲狀電弧會有效撞擊清理表面，且電暈發射的光線也能提升表面處理時的結成力量(穩定處理表面的分子及沖擊之中的電子)，加上本發明不會產生高頻震蕩及電磁波，故本發明會改善以往電漿表面處理設備成本過高、表面處理效果有限的問題。
本發明的第二目的，在于提供一種有效產生電暈放電的電暈處理設備，本發明將一個高壓電路系統設置在電源與正電極板之間，而該高壓電路系統運用中點接地另設置一負電極板，運用正電極板與負電極板之間的稠密絲狀電弧(跳動電子)產生較大范圍的電暈放電，藉此，本發明能在塑料表面能產生有利表面的一致、低溫電漿，無需進行額外加熱。
本發明的第三目的，在于提供一種電暈處理設備，其利用正電極板與負電極板之間的稠密絲狀電弧產生電暈，由于電暈操作放電的氣體溫度接近于室溫(屬于冷電漿形式)，故本發明十分節省能源與設備成本，無需將能量用提升氣體溫度之上。
本發明的第四目的，在于提供一種電暈處理設備，本發明的電暈放電(具有光線的稠密絲狀電弧)不會產生高頻震動、高溫及電磁波，故本發明的設備成本能夠大幅降低，且不會受到電磁波干擾。
為實現上述目的，本發明采用的技術方案如下一種電暈處理設備，包括有一電源，系提供充足的電力；一高壓電路系統，與該電源相連接，且會將電力提高至預設正電壓，另在高壓電路系統內裝設有中點接地，利用該中點接地產生預設的負電壓；一正電極板，與該高壓電路系統相連接，且會將導引該高壓電路系統上的預設正電壓；一負電極板，與該高壓電路系統相連接，且會將導引該高壓電路系統上的預設負電壓；一處理室，采絕緣材質制成，且提供一低壓密閉空間，在該低壓密閉空間內注入預設氣體，且處理室會將該正電極板與負電極板密封于內；一待清理物，置放在該正電極板與負電極板間；藉此，該正電極板與負電極板間會產生電暈放電，并對待清理物表面進行清理。
上述該處理室于低壓密閉空間內注入氧氣。
使用本發明的有益效果在于在二個電極板之間產生穩定的擴散電暈放電，利用電暈放電可以增進表面處理效果與表面一致性；正電極板與負電極板讓待清理物表面承受擴散的電暈放電(大量絲狀電弧與發光現象)，電子撞擊會產生一般性的表面清理，而大量絲狀電暈則會增益表面清理的效果。
圖1為常用的處理裝置示意簡圖。
圖2為本發明的電暈表面處理裝置示意簡圖。
圖3為本發明的電暈放電示意圖。
電極電源(10)電源(11)發射盒(12) 交流電發電機(13)待清理件(14)無線電頻(RF)電源(20)高壓電路系統(21)中點接地(211) 正電極板(22)負電極板(23)處理室(24)空間(241) 待清理物(25)電暈放電(26)具體實施方式
有關本發明為達成上述目的、所采用的技術，手段及其它功效，下面列舉一較佳可實施例并配合圖式詳細說明如后，相信本發明的目的、特征及其它優點，當可由之得一深入而具體的了解；首先，如圖2所示，為本發明簡圖，本發明包括有一個電源20、一高壓電路系統21、一正電極板22、一負電極板23及一處理室24，其中該電源20，提供充足的電力；該高壓電路系統21，與該電源20相連接，且會將電力提高至預設正電壓，另在高壓電路系統21內裝設有中點接地211，利用該中點接地211產生預設的負電壓；該正電極板22，與該高壓電路系統21相連接，且會將導引該高壓電路系統21上的預設正電壓；該負電極板23，與該高壓電路系統21相連接，且會將導引該高壓電路系統21上的預設負電壓；該處理室24，采絕緣材質制成，且提供一低壓密閉空間241，在該低壓密閉空間241內注入氧氣，且處理室24會將該正電極板22與負電極板23密封于內；一待清理物25，置放在該正電極板22與負電極板23之間；藉由上述結構特征與其相互關系位置的巧妙安排，本發明會讓待清理物25受到擴散的電暈放電處理，藉由稠密絲狀電弧、電暈增進表面清理效果，也由于本發明的氣體溫度接近于室溫(屬于冷電漿形式)，讓本發明設備成本降低。
其次，再將本發明的動作原理配合圖式詳細說明如后，期使貴審查委員對本發明的構造、特征及其它優點能有更進一步體會與認識，為便于說明與彰顯本發明確較傳統結構為進步與實用的優點；如圖3所示，本發明的電源20會將電力送入該高壓電路系統21內，而該高壓電路系統21會將電壓提升至正7500伏特(預設的可行數據)，并將正7500伏特電力傳送給該正電極板22，此時，該中點接地211會配合高壓電路系統21產生負7500伏特(預設的可行數據)電壓，并將負7500伏特電力傳送給負電極板23，使正電極板22與負電極板23之間產生稠密絲狀電弧(跳動電子)；另一方面，由于該處理室24采絕緣材質，且在該低壓密閉空間241內充滿氧氣，故稠密絲狀電弧會內的電子會撞擊氧分子，使氧分子因電子撞擊而形成不穩定的高能階狀態，但氧分子隨即會馬上回到低能階的位置(氧分子也呈跳動)，而在氧分子從高能階狀態返回低能階的同時，會釋放出相當能量的光子(Photon)，也產生出電暈光，此時，該稠密絲狀電弧會與電暈光結合成擴散狀的電暈放電26(光波、電弧混合體)，且會保持在該正電極板22與負電極板23之間，并不斷撞擊、照射待清理物25表面，故電暈放電26可以造成待清理件23表面受到清理，達成本發明的清理效果。
值得一提的是，電暈放電26內的電暈光不但會有效輔助清理待清理物25(降低絲狀電弧的電壓需求)，且電暈光會增進氧分子的一致性；另外，由于操作電暈放電26的氣體(氧氣)溫度接近于室溫(屬于冷電漿形式)，故本發明設備成本明顯降低。
值得一提的是，本發明能夠在低壓密閉空間241內增強清理效果，其運作在低頻率、較無電磁波的環境下，故本發明不會導致電子阻礙，能在在待清理物25表面產生充份的電暈放電26，無需過量的電子阻抗配合及過度的加熱。
綜上所述，本發明將一個高壓電路系統設置在電源與正電極板之間，而該高壓電路系統運用中點接地另設置一負電極板，運用正電極板與負電極板之間的稠密絲狀電弧(跳動電子)產生較大范圍的電暈放電，藉此，電暈放電會讓待清理物的表面清理效果更佳、增進表面一致性，也由于操作電暈放電的氣體溫度接近于室溫(屬于冷電漿形式)，故本發明設備成本較低，無需將能量用在氣體溫度的提升，更不會產生無線電頻放射設備的電磁干涉問題。
權利要求
1.一種電暈處理設備，其特征在于，包括有一電源，系提供充足的電力；一高壓電路系統，與該電源相連接，且會將電力提高至預設正電壓，另在高壓電路系統內裝設有中點接地，利用該中點接地產生預設的負電壓；一正電極板，與該高壓電路系統相連接，且會將導引該高壓電路系統上的預設正電壓；一負電極板，與該高壓電路系統相連接，且會將導引該高壓電路系統上的預設負電壓；一處理室，采絕緣材質制成，且提供一低壓密閉空間，在該低壓密閉空間內注入預設氣體，且處理室會將該正電極板與負電極板密封于內；一待清理物，置放在該正電極板與負電極板間；藉此，該正電極板與負電極板間會產生電暈放電，并對待清理物表面進行清理。
2.根據權利要求1所述的電暈處理設備，其特征在于，該處理室于低壓密閉空間內注入氧氣。
全文摘要
一種電暈處理設備，其為改善以往電漿表面處理設備成本過高、表面處理效果有限的問題；本發明解決是將一個高壓電路系統設置在電源與正電極板之間，而該高壓電路系統運用中點接地另設置一負電極板，運用正電極板與負電極板之間的稠密絲狀電弧(跳動電子)產生較大范圍的電暈放電，藉此，電暈放電會讓待清理物的表面清理效果更佳、增進表面一致性，也由于操作電暈放電的氣體溫度接近于室溫(屬于冷電漿形式)，故本發明設備成本較低，無需將能量用在氣體溫度的提升，更不會產生無線電頻放射設備的電磁干涉問題。
文檔編號C23F4/02GK1549298SQ03123519
公開日2004年11月24日 申請日期2003年5月9日 優先權日2003年5月9日
發明者蔡豐益 申請人:凌嘉科技股份有限公司