專利名稱：滾動轉盤式超微粉表面濺射包覆納米金屬復合膜裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于一種超微粉表面納米復合膜處理技術。
目前，對納米金屬復合膜的處理，通常采用的是比較落后的方法和裝置，最簡單的方法就是將超微粉放在一個震動篩上，用篩子震動將超微粉表面濺射生成包覆納米復合膜，也有采用分子篩震動的方法，超微粉從分子篩自由落下這種濺射裝置包覆納米復合膜，以上處理裝置不足之處是超微粉表面濺射不均勻，浪費原材料，另外復合膜厚度達不到要求。
為解決以上裝置的不足，本實用新型的目的提供一種滾動轉盤式超微粉表面濺射包覆納米金屬復合膜裝置，利用圓盤滾動以達到超微粉表面濺射形成納米金屬復合膜，以達到表面均勻、厚度可任意控制的目的。
本實用新型的結構設計是這樣實現的該裝置的結構是上面為一轉盤，轉盤下面為濺射靶面，兩平面平行且之間距離可調、轉速可調，轉盤與水平面成45度角，轉盤中心垂直裝有轉軸，轉軸下端裝有蝸輪，蝸輪與下面的減速器機、蝸桿連接，蝸桿端裝有直流調速電機，在轉盤的邊緣設有多個載料托盤，為15～30個，整個裝置以一立柱支架固定在某一個底座上(如
圖1所示)。
本實用新型的優點結構簡單，制作容易，結合磁控濺射工藝，可在多種超微粉末表面濺射包覆納米金屬薄膜，解決了超微粉末易團聚、流動性差的缺點。
本實用新型詳細結構及工作原理由以下實施例及附圖給出。
圖1為滾動轉盤式超微粉表面濺射包覆納米金屬復合膜裝置結構原理圖。
圖2為滾動轉盤式超微粉表面濺射包覆納米金屬復合膜裝置轉盤結構圖。
圖3為滾動轉盤式超微粉表面濺射包覆納米金屬復合膜裝置轉盤側投影圖。
其結構如
圖1所示，1為轉盤，2為濺射靶面，3為載料托盤，4為電機蝸桿，5為轉盤擋板，6為主軸，7為蝸輪。
工作過程轉盤轉動時載料托板帶動盤內粉末由下至上運動，粉末到達上部后沿傾斜的盤面均勻滾落，使粉末的表面暴露在濺射氣氛中，與轉盤正對的靶面濺射出的金屬粒子便可均勻沉積在微粉表面。由于轉盤不停地轉動，可使微粉表面均勻連續鍍膜，直至完成粉末的均勻包覆。
權利要求1.一種滾動轉盤式超微粉表面濺射包覆納米金屬復合膜裝置，其特征是該裝置的結構是上面為一轉盤(1)，轉盤下面為濺射靶面(2)，兩平面平行且之間距離可調、轉速可調，轉盤與水平面成45度角，轉盤中心垂直裝有轉軸(6)，轉軸下端裝有蝸輪(7)，蝸輪與下面的減速器機、蝸桿(4)連接，蝸桿端裝有直流調速電機，在轉盤的邊緣設有多個載料托盤(3)，整個裝置以一立柱支架固定在某一個底座上。
2.按照權利要求1所述滾動轉盤式超微粉表面濺射包覆納米金屬復合膜裝置，其特征是載料托盤為15～30個。
專利摘要本裝置屬于一種超微粉表面納米復合膜處理技術,其裝置是上面為一轉盤,下面為濺射靶面,且之間距離可調,與水平面成45度角,下面設有轉軸,轉軸端部裝有蝸輪、蝸桿,由直流電機帶動,轉盤下面設有多個載料托盤。優點:結構簡單,制作容易,結合磁控濺射工藝,可在多種超微粉末表面濺射包覆納米金屬薄膜,解決了超微粉末易團聚、流動性差的缺點。
文檔編號C23C14/34GK2464483SQ00253420
公開日2001年12月12日 申請日期2000年12月13日 優先權日2000年12月13日
發明者華偉剛, 宮駿, 聞立時, 孫超, 肖金泉, 關德慧, 譚明暉, 劉艷梅, 裴志亮 申請人:中國科學院金屬研究所