熱阻擋涂層和方法
【專利摘要】本發明描述了用多孔分段熱阻擋涂層涂覆的制品。所述涂層具有小于理論密度的約88%的密度。本發明還描述了多層制品和施用所述熱阻擋涂層到制品的方法。
【專利說明】熱阻擋涂層和方法
[0001]相關申請的交叉引用
本申請要求2014年2月21日提交的美國臨時專利申請號61/942,984的權益，其公開內容通過引用明確地結合到本文中。
技術領域
[0002]本發明通常所屬的技術領域為熱噴霧工藝涂層。
[0003]背景
熱噴霧為其中將各種材料以加熱或熔融形式噴霧到表面上的涂覆方法。所述涂覆材料通常通過電等離子體或電弧加熱。所使用的涂覆材料尤其包括例如金屬、合金和陶瓷的物質。根據預定用途，涂層品質一般通過例如密度、孔隙度、抗燒結性、導熱率、耐應變性等要點測量。許多要點可影響這些及其他涂層性質，例如所使用的涂覆材料的細節、所使用的等離子體氣體的細節、流速、功率水平、噴嘴距離(torch distance)、基材的細節等。由于其性質，這些類型的涂層通常用于保護結構材料免受高溫、腐蝕、侵蝕、磨損等。因此，持續探求改進用于這些用途以及其他用途的這些涂層的性質和性能的方式。
[0004]本文所述的方法和材料滿足上述挑戰，包括改進的涂層性質和性能等其它要點。
[0005]概要
本發明描述了施用熱阻擋涂層到制品的方法，其包括將等離子體加熱的顆粒涂覆材料熱噴霧到所述制品的表面上，以產生具有小于理論密度的約88%的密度的多孔分段熱阻擋涂層。
[0006]另外的實施方案包括:上述方法，其中所述涂覆材料用級聯等離子體槍或常規熱噴霧等離子體槍如9M或F4槍施用；上述方法，其中所述涂覆材料用例如SinplexPro ?等離子體槍或TriplexPro?等離子體槍的級聯電弧槍技術施用；上述方法，其中氬氣作為初次等離子體氣體使用；上述方法，其中氫氣作為二次等離子體氣體使用；上述方法，其中等離子體焓為約14，000KJ/Kg-約24，000KJ/Kg;上述方法，其中所述等離子體焓為約18，000KJ/Kg ；上述方法，其中氬氣與氫氣的比率為約6:1至約18:1;上述方法，其中氬氣與氫氣的比率為約9:1至約12:1;上述方法，其中所述涂覆材料的進料速率為約30g/min至約180g/min ；上述方法，其中所述進料速率為約60g/min至約120g/min ；上述方法，其中平均噴霧顆粒溫度為約2700°C_約3300°C;上述方法，其中平均噴霧顆粒溫度為約2700°C_約3300°C;上述方法，其中平均噴霧顆粒速度為約180m/s-約280m/s ；上述方法，其中權利要求30的方法，其中平均噴霧顆粒速度為約190m/s-約250m/s ；上述方法，其中涂層具有等于或小于約4.9g/cc的密度;上述方法，其中所述涂層具有約4.2g/cc-約4.9g/cc的密度;上述方法，其中所述涂層具有約3.0g/cc-約5.5g/cc的密度;上述方法，其中所述涂層具有至少約5個宏觀裂紋/線性英寸;上述方法，其中所述涂層具有約5-約60個宏觀裂紋/線性英寸;上述方法，其中所述涂層具有大于約5體積％、優選高達20體積%且可高達25體積%的孔隙度;上述方法，其中所述涂覆材料包含用氧化鎂、氧化鋪、氧化乾、氧化鐿、dy spos ia、氧化IL、氧化鉺、氧化釹、氧化鑭和/或氧化鎖中的一種或多種穩定的氧化錯，其量一般為約5 -約7 5重量％、優選為約5 -約50重量%且更優選為約5-約15重量％;上述方法，其中氧化鉿代替至少部分(或所有)的氧化鋯。上述方法，其中所述涂覆材料為氧化釔穩定的氧化鋯。
[0007]另外的實施方案還包括:上述方法，其包括在所述制品上施用至少一個抗氧化粘合涂層;上述方法，其中其包括在所述粘合涂層的頂部施用致密的傳統氧化釔穩定的氧化鋯層;上述方法，其包括在所述粘合涂層的頂部施用致密分段的氧化釔穩定的氧化鋯層;上述方法，其包括在所述粘合涂層的頂部施用至少一個中間涂層;上述方法，其包括在所述粘合涂層的頂部施用至少一個頂涂層;上述方法，其中所述中間涂層包括傳統多孔氧化釔穩定的氧化鋯、致密涂層、多孔分段涂層和/或致密分段涂層中的至少一個層;上述方法，其中所述頂涂層包括傳統多孔氧化釔穩定的氧化鋯、致密涂層、多孔分段涂層和/或致密分段涂層中的至少一個層;上述方法，其包括施用至少一個多孔分段涂層作為中間涂層;上述方法，其包括施用至少一個多孔分段涂層作為頂涂層;上述方法，其中所述粘合涂層的厚度達到約200微米;上述方法，其中所述中間涂層的厚度達到約400微米;上述方法，其中所述中間涂層的厚度為約50微米-400微米;上述方法，其中所述頂涂層的厚度達到約800微米;上述方法，其中所述頂涂層的厚度為約100微米-約800微米;上述方法，其中所述中間涂層包括耐應變涂層的至少一個層;上述方法，其中所述粘合涂層包含MCRAlY，其中M為N1、Co和/或Fe;上述方法，其中所述粘合涂層為NiCr、NiAl和/或NiCrAlY;上述方法，其中所述粘合涂層另外含有少量、例如痕量至0.6重量％的如、Hf和/或Si ;上述方法，其中所述涂層具有在與傳統氧化鋯熱阻擋涂層相比較時減小的導熱率、在與傳統氧化鋯熱阻擋涂層相比較時高的耐應變性、在與傳統氧化鋯熱阻擋涂層相比較時高的抗燒結性和/或改進的熱循環壽命;上述方法，其中所述顆粒具有約10微米-約176微米的粒度;上述方法，其中所述涂覆材料或粉末的表觀密度為約1.0克/立方厘米-約3.0克/立方厘米;上述方法，其中在所述顆粒中的總氧化物雜質小于約0.5重量％;上述方法，其中所述氧化物來自包括但不限于Si02、Al203、氧化鐵、氧化鈉、Ca0、Mg0和/或T12的組;上述方法，其中在所述顆粒中的總氧化物雜質小于約0.15重量％;上述方法，其中所述粉末含有小于約0.05重量%的鈾和/或釷;上述方法，其中所述粉末含有小于約0.02重量%的鈾和/或釷;上述方法，其中所述粉末包含含有約75重量％等離子體致密化的顆粒和約25重量%噴霧干燥的粉末的雙峰分布;上述方法，其中所述等離子體致密化的粉末的直徑為約I Iym-約75μπι且所述噴霧干燥的粉末的直徑為約7 5μπι-約180pm。另外，所述粉末可為等離子體致密化的粉末、團聚并燒結的粉末、熔合并粉碎的粉末或噴霧干燥的粉末或以變化百分數的這些粉末的任何組合。
[0008]還描述了用多孔分段熱阻擋涂層涂覆的制品，其中所述涂層具有小于理論密度的約88%的密度。
[0009]另外的實施方案包括:上述制品，其中所述涂層具有約3.0g/cc-約5.5g/cc的密度、約5個宏觀裂紋/線性英寸-約60個微觀裂紋/線性英寸和約5體積%至高達約25體積％的孔隙度;上述制品，其中所述涂層包含用氧化鎂、氧化鋪、氧化乾、氧化鐿、dysposia、氧化釓、氧化鉺、氧化釹、氧化鑭和/或氧化鍶中的一種或多種穩定的氧化鋯;上述制品，其中氧化鉿代替至少部分的氧化鋯；上述制品，其中所述涂層包含氧化釔穩定的氧化鋯；上述制品，其包括在所述制品上的至少一個抗氧化的粘合涂層;上述制品，其包括在所述粘合涂層的頂部的致密傳統或分段的氧化釔穩定的氧化鋯層;上述制品，其包括在所述粘合涂層的頂部的至少一個中間涂層;上述制品，其包括在所述粘合涂層的頂部的至少一個頂涂層;上述制品，其包括至少一個多孔分段涂層作為中間或頂涂層。
[0010]本發明的其他例示性實施方案和優勢可通過回顧本公開和附圖來確定。
[0011]附圖簡述
本發明在以下詳述中參照所提到的多個附圖通過本發明的例示性實施方案的非限制性實施例進一步描述，且其中:
圖1A、IB和IC不出如本文所述的各種涂覆制品的不意圖；
圖2示出典型的熱阻擋涂層；
圖3示出如本文所述的典型的熱阻擋涂層。
[0012]詳述
在此示出的特例作為例示且僅出于說明性討論本發明的各種實施方案的目的，并且以提供認為是本發明的原理和概念方面的最有用且易于理解的描述的原因而呈現。在這方面，除了為基本理解本發明所必需的外，不曾試圖更詳細地顯示本發明的細節，說明書使得本領域技術人員顯而易見的是本發明的幾種形式是怎樣在實際中體現的。
[0013]現在將參考更詳細的實施方案描述本發明。然而，本發明可以不同形式體現且不應將其視為局限于本文所闡述的實施方案。相反，提供這些實施方案從而使本公開更加透徹且完整，且將對本領域的技術人員充分表達本發明的范圍。
[0014]除非另作定義，否則本文所用的所有技術和科學術語都具有與本發明所屬領域的技術人員通常理解的含義相同的含義。在本文中在本發明的說明書中使用的術語只是出于描述特定實施方案的目的，并非旨在限制本發明。除非在上下文中明確地指出，否則如在本發明的描述和隨附權利要求中所使用，單數形式“一個/種”和“所述”還旨在包括復數形式。本文提到的所有出版物、專利申請、專利及其他參考文獻都通過引用以其整體明確地結合到本文中。
[0015]除非另外指出，否則在說明書和權利要求中使用的表達成分的量、反應條件等的所有數值在所有情況下都應該理解為由術語“約”修飾。因此，除非指出相反情況，否則以下說明書和隨附權利要求中陳述的數值參數都是近似值，其可根據設法通過本發明獲得的所要性質而改變。最起碼的是，而且并不試圖限制與本權利要求的范圍等效的原則的應用，應該根據有效數字的數目且通過普通舍入方法解釋各數值參數。
[0016]盡管陳述本發明的廣泛范圍的數值范圍和參數是近似值，但應盡可能準確地報道在具體實施例中陳述的數值。然而，任何數值內在地含有由其相應試驗測量中見到的標準偏差必要地產生的某些誤差。在本說明書中給出的每一數值范圍均包括落入這一較寬數值范圍內的每一較窄數值范圍，如同這個較窄數值范圍在本文中全部明確地寫出一樣。
[0017]本發明的額外優勢將在隨后的描述中部分地陳述，且在某種程度上將自該描述而顯而易見或可為通過實施本發明來學習。應理解上述概述與以下詳述兩者都只是例示性和說明性的，且并非限制如所要求保護的本發明。
[0018]熱阻擋涂層是眾所周知的，其包括具有垂直裂紋的那些。存在公開具有垂直裂紋的熱阻擋涂層的許多出版物和專利。然而，這些涂層一般具有致密的微觀結構。例如，Taylor的美國專利5，073，433號和Taylor等人的美國專利8，197,950號公開了具有大于理論密度的88%的5.47g/cc (克/立方厘米)-5.55g/cc的密度的分段涂層。這些美國專利各自的公開內容通過引用以其整體明確地結合到本文中。
[0019]本文描述涂層和制備這種涂層的方法，其中所述涂層有利地高度耐應變且具有低導熱率。所述涂層還有利地為用于高溫應用的抗燒結熱阻擋涂層，其可保護金屬部件且利用一個或多個抗氧化粘合涂層。
[0020]圖1A示出如本文所述的基本結構，其中基材材料(10)用也如本文所述的熱阻擋頂涂層(11)涂覆。在圖1B和IC中示出的其他選項包括多層形式，包括在基材上增加粘合涂層
(12)和任選的中間層(13)。
[0021]圖2不出如例如在inThermal Spray Coatings for Gas Turbinesand Energy Generat1n..A Re view, Journal of Thermal Spray Technology，第22 卷(第5期)，第564-576頁，2013年6月中描述的典型致密的垂直開裂的熱阻擋涂層(TBC)涂層，其公開內容通過引用以其整體明確地結合到本文中。參考圖2，示出用熱阻擋涂層(22)涂覆的基材材料(21)。還可以看到孔(23)和宏觀裂紋(24)。
[0022]圖3示出根據本發明且具有約20%的孔隙度和每英寸約35個垂直宏觀裂紋的多孔且分段的等離子體噴霧的氧化鋯-氧化釔(YSZ)涂層的拋光橫截面。參考圖3，示出用熱阻擋涂層(32)涂覆的基材材料(31)。還可以看到孔(33)和宏觀裂紋(34)。
[0023]將有利地制備具有小于理論密度的88%的涂層密度的空氣等離子體噴霧的分段涂層。這類涂層可通過控制顆粒熔融狀態和應力水平以增加涂層的孔隙度來制備。增加的孔隙度可有利地增加涂層抗燒結性，降低導熱率并促進耐應變性增強，特別是在與垂直裂紋組合時。
[0024]本文所述的制品包括與現有涂層相比具有減小的導熱率、較高耐應變性、較高抗燒結性和改進的抗熱循環疲勞性的熱阻擋涂層。可制備所述熱阻擋涂層，其具有多孔且垂直分段的微觀結構。該涂層可例如有利地為氧化釔穩定的氧化鋯(YSZ)涂層，其具有4.2g/cc-4.9g/cc范圍的典型密度或者其中所述涂層具有約3.0g/cc-約5.5g/cc的密度，且具有約5-約60個宏觀裂紋/線性英寸的垂直裂紋密度。這些涂層一般具有比傳統致密分段熱阻擋涂層高1.4-1.6倍的熱循環壽命。所述涂層可使用常規熱噴霧技術和如本文所述改進的設備等離子體噴霧。
[0025]根據本發明制備的涂層的非限制性實施例包括以下內容。
實施例
[0026]多孔分段氧化釔穩定的氧化鋯熱阻擋涂層通過等離子體噴霧YSZ球狀粉末形成。YSZ粉末由7重量%氧化釔和余量的氧化鋯組成，其具有5μπι-180μπι且優選11μπι-125μπι范圍的粒度。可能的雙峰分布可利用75重量%的等離子體致密化的材料(粒度為11μπι-75μπι范圍)以及25重量%的噴霧干燥的材料(粒度為75μπι-180μπι范圍)。可能的徑直材料可利用具有粒度11μπι-1 1ym的等離子體致密化的YSZ粉末。將YSZ粉末徑向注入等離子體噴槍中。在實施方案中，等離子體噴槍利用級聯槍技術且可為TriplexPro ?-210等離子體槍、SinplexPro ?等離子體槍或甚至常規等離子體槍，例如由Oerlikon Metco制備的F4槍或9ΜΒ槍。當涂層在金屬或陶瓷復合基材的頂部施用時，優選利用級聯槍技術的等離子體槍。
[0027]在等離子體噴霧期間，應該控制等離子體噴霧參數，使得一些顆粒完全熔融，而一些顆粒將僅部分地熔融或保持未熔融。一般地，應該在基材上施用涂層之前將基材預熱到約 500°C。
[0028]以此方式施用的YSZ涂層可有利地具有合乎需要的孔隙度且由完全熔融的濺射物(splat)以及部分熔融和未熔融的顆粒構成。該YSZ涂層也可有利地具有約4.2g/cc-約4.9g/cc范圍(S卩，小于理論密度的88%)的密度，且可包括沿平行于基材表面的線測量的約5-約60個垂直宏觀裂紋/線性英寸。還可預期該YSZ涂層表現出合乎需要的性質，例如低導熱率、大大改進的抗燒結性和增強的耐應變性。
[0029]在上述實施例中，已經證實利用7_8重量％ (wt%) YSZ材料且通過已知OerlikonMetco HOSP方法制備的涂層。然而，本發明不受此限制且可擴展到使用各種粉末制造方法的許多不同氧化鋯熱阻擋體系。
[0030]在非限制性實施例中，可利用許多類型的材料體系，例如:用氧化鎂、氧化鈰、氧化釔、氧化鐿、dy spo s i a、氧化釓、氧化鉺、氧化釹、氧化鑭、氧化鍶的一種或多種組合穩定的氧化鋯體系。氧化鉿可代替部分或全部的氧化鋯。
[0031]另外，可使用許多類型的材料制造方法，例如如下制造方法:其利用噴霧干燥的粉末制造路徑或工藝(0-100重量%預合金化或0-100重量%未反應的組成)以及有機粘合劑;噴霧干燥并燒結的材料;噴霧干燥并等離子體致密化的材料；以及各種制造路徑中的兩種或更多種的化學沉淀共混物。還可利用根據這三種制造路徑中的一種或多種制備的熔合并粉碎的材料的共混物。
[0032]在非限制性實施例中，粉末性質可包括下列:約10-約176微米的粒度;約1.0g/cc-約3.(^/(^的表觀密度；如下純度，其中例如3102)1203、氧化鐵、氧化鈉工&0、1^0和1102的氧化物的總雜質低于0.5重量%且優選小于0.15重量％;如下放射性，小于0.05重量%鈾和釷且優選小于0.02重量％;可能的雙峰分布，其可利用75重量％的等離子體致密化的材料(粒度為11_-75_范圍)以及25重量%的噴霧干燥的材料(粒度為75_-180_范圍)。
[0033]在非限制性實施例中，所述涂層可為利用抗氧化粘合涂層和多孔分段頂涂層的雙層體系，或利用在抗氧化粘合涂層的頂部的7-8重量％ YSZ的致密傳統體系或甚至致密分段YSZ的多層體系。所述涂層也可為具有變化涂層微觀結構的多層涂層，其包括在抗氧化粘合涂層基材上的一個或多個中間涂層和一個或多個頂涂層。所述中間涂層可為傳統多孔YSZ涂層、致密涂層、多孔分段涂層、致密分段涂層或其任何組合的一層或數層。所述一個頂涂層或多個頂涂層可為傳統多孔YSZ涂層、致密涂層、多孔分段涂層、致密分段涂層或其任何組合的一層或數層。在多層涂層應用中，所述一個或多個多孔分段涂層可至少表現為中間涂層或頂涂覆層。典型的涂層厚度可包括至多200微米的粘合涂層、約50-400微米的中間涂層和約100-約800微米的頂涂層。
[0034]在非限制性實施方案中，粘合涂覆層一般可為NiCr、NrAl、NiCrAlY或其他含MCRAlY的材料，其中M代表N1、Co和/或鐵的組合。所述MCrAlY材料還可含有痕量的Re、Hf、Si0
[0035]所產生的涂覆制品具有多孔分段熱阻擋涂層，其中所述涂層具有小于理論密度的約88%的密度。另外的非限制性實施方案包括:上述制品，其中所述涂層具有等于或小于約
4.9g/cc的密度;上述制品，其中所述涂層具有約4.2g/cc-約4.9g/cc的密度;上述制品，其中所述涂層具有約3.0g/cc-約5.5g/cc的密度;上述制品，其中所述涂層具有至少約5個宏觀裂紋/線性英寸；上述制品，其中所述涂層具有約5-約60個宏觀裂紋/線性英寸；上述制品，其中所述涂層具有大于約5體積％、優選高達20體積%且可高達25體積%的孔隙度;上述制品，其中所述涂層包含用氧化鎂、氧化鋪、氧化乾、氧化鐿、dy spo s ia、氧化IL、氧化鉺、氧化釹、氧化鑭和/或氧化鍶中的一種或多種穩定的氧化鋯;上述制品，其中氧化鉿代替至少部分的氧化鋯;上述制品，其中所述涂層為氧化釔穩定的氧化鋯。
[0036]另外的非限制性實施方案還包括:上述制品，其包括在所述制品上的至少一個抗氧化的粘合涂層;上述制品，其包括在所述粘合涂層的頂部的致密傳統7-8重量％的氧化釔穩定的氧化鋯層;上述制品，其包括在所述粘合涂層的頂部的致密分段的氧化釔穩定的氧化鋯層;上述制品，其包括在所述粘合涂層的頂部的至少一個中間涂層;上述制品，其包括在所述粘合涂層的頂部的至少一個頂涂層;上述制品，其中所述中間涂層包括傳統多孔氧化釔穩定的氧化鋯、致密涂層、多孔分段的涂層和/或致密分段的涂層中的至少一個層;上述的制品和方法，其中所述中間層可為:I)傳統5-10重量%的YSZ涂層結構，2)具有小于5%孔隙度的致密YSZ或3)致密分段的YSZ;上述制品，其中所述頂涂層包括傳統多孔氧化釔穩定的氧化鋯、致密涂層、多孔分段涂層和/或致密分段涂層中的至少一個層;上述制品，其包括至少一個多孔分段涂層作為中間涂層;上述制品，其包括至少一個多孔分段涂層作為頂涂層;上述制品，其中所述粘合涂層的厚度達約200微米;上述制品，其中所述中間涂層的厚度達約400微米;上述制品，其中所述中間涂層的厚度為約50微米-400微米;上述制品，其中所述頂涂層的厚度高達約800微米;上述制品，其中所述頂涂層的厚度為約100微米-約800微米;上述制品，其中所述中間涂層包括耐應變涂層的至少一個層;上述制品，其中所述粘合涂層包含MCRA1Y，其中M為附、0)和/或？6;上述制品，其中所述粘合涂層為附0、祖六1和/或NiCrAlY;上述制品，其中所述粘合涂層另外含有少量、例如痕量至0.6重量％的如、!^和/或Si;上述制品，其中所述涂層具有在與傳統氧化鋯熱阻擋涂層相比較時減小的導熱率、在與傳統氧化鋯熱阻擋涂層相比較時高的耐應變性、在與傳統氧化鋯熱阻擋涂層相比較時高的抗燒結性和/或改進的熱循環壽命。
[0037]應注意到這類粉末制造方法可影響涂層微觀結構。粉末純度、粉末粒度、輸入粉末的熱以及在粉末與噴霧參數之間的內在關系可影響涂層微觀結構以及構造成實現最佳微觀結構，例如多孔且分段的TBC。
[0038]另外，應該注意到捕獲在熱阻擋涂層內用于降低導熱率、改進抗燒結性和增加熱循環壽命的半熔融和未熔融的金屬氧化物顆粒的重要性。
[0039]根據本發明的一個有利的實施方案，多孔分段涂層可通過利用具有9mm噴霧嘴的SinplexPro ?等離子體槍形成。氬氣和氫氣分別作為初次等離子體氣體和二次等離子體氣體使用。所使用的等離子體焓可為14000KJ/Kg(千焦耳/千克)-24000KJ/Kg范圍，優選為18000KJ/Kg。氬氣與氫氣的比率可為6-18，優選為9-12。進料速率可為30g/min(克/分鐘)-180g/min，優選為60g/min-120g/min范圍。平均顆粒溫度和速度可分別為2700°C-3300°C、180m/s(米/秒)-280m/s范圍。優選平均溫度為2700°C-3000°C且平均速度為190m/s-250m/
So
[0040]應注意到上述實施例僅出于解釋的目的提供且無論如何也不被視為限制本發明。雖然已經參照例示性實施方案描述了本發明，但是應當理解本文使用的詞語是描述性和說明性的詞語，而不是限制性的詞語。可以在不偏離本發明各方面范圍和精神的前提下，在如同當前陳述及修改的隨附權利要求書的范圍內進行各種變化。盡管在本文中參考特定的方式、材料和實施方案描述本發明，但本發明并不旨在限于本文公開的特例；相反，本發明延伸至例如在隨附權利要求的范圍內的所有功能上等效的結構、方法和用途。
【主權項】
1.施用熱阻擋涂層到制品的方法，其包括將等離子體加熱的粉末涂覆材料熱噴霧到所述制品的表面上，以產生具有小于理論密度的約88%的密度的多孔分段熱阻擋涂層。2.權利要求1的方法，其中所述涂層具有約3.0g/CC-約5.5g/cc的密度、約5個宏觀裂紋/線性英寸-約60個微觀裂紋/線性英寸和約5體積%至高達約25體積%的孔隙度。3.權利要求1的方法，其中所述涂覆材料包含用氧化鎂、氧化鈰、氧化釔、氧化鐿、dy spos ia、氧化釓、氧化鉺、氧化釹、氧化鑭和/或氧化鍶中的一種或多種穩定的氧化鋯。4.權利要求1的方法，其中氧化鉿代替至少部分的氧化鋯。5.權利要求1的方法，其包括在所述制品上施用至少一個抗氧化粘合涂層。6.權利要求1的方法，其包括在所述粘合涂層的頂部施用致密的傳統或分段的氧化釔穩定的氧化鋯層。7.權利要求1的方法，其包括在所述粘合涂層的頂部施用至少一個中間涂層。8.權利要求1的方法，其包括在所述粘合涂層的頂部施用至少一個頂涂層。9.權利要求7的方法，其包括施用至少一個多孔分段涂層作為中間涂層。10.權利要求8的方法，其包括施用至少一個多孔分段涂層作為頂涂層。11.用多孔分段熱阻擋涂層涂覆的制品，其中所述涂層具有小于理論密度的約88%的密度。12.權利要求11的制品，其中所述涂層具有約3.0g/cc-約5.5g/cc的密度、約5個宏觀裂紋/線性英寸-約60個微觀裂紋/線性英寸和約5體積%至高達約25體積%的孔隙度。13.權利要求11的制品，其中所述涂層包含用氧化鎂、氧化鈰、氧化釔、氧化鐿、dy spos ia、氧化釓、氧化鉺、氧化釹、氧化鑭和/或氧化鍶中的一種或多種穩定的氧化鋯。14.權利要求13的制品，其中氧化鉿代替至少部分的氧化鋯。15.權利要求11的制品，其中所述涂層包含氧化釔穩定的氧化鋯。16.權利要求11的制品，其包括在所述制品上的至少一個抗氧化粘合涂層。17.權利要求16的制品，其包括在所述粘合涂層的頂部的致密的傳統或分段的氧化釔穩定的氧化鋯層。18.權利要求16的制品，其包括在所述粘合涂層的頂部的至少一個中間涂層。19.權利要求16的制品，其包括在所述粘合涂層的頂部的至少一個頂涂層。20.權利要求16的制品，其含有至少一個多孔分段涂層作為中間或頂涂層。
【文檔編號】B23B9/04GK106061655SQ201580007489
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2015年2月19日
【發明人】D.陳, C.G.達姆布拉, M.R.多夫曼
【申請人】歐瑞康美科（美國）公司