一種配套用于鍛造設備的人工旋轉臺的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及的是一種配套用于鍛造設備的人工旋轉臺，主要用于鍛件的承載平臺，屬于鍛造設備技術領域。
【背景技術】
[0002]鍛造設備，如水壓機主要用于金屬鍛件的熱鍛加工處理，由于金屬鍛件的熱鍛加工處理中，金屬鍛件為大件物品，且處于高溫狀態下，要將重量重、體積大的金屬鍛件方便地處于鍛造設備中，就需要專門的承載平臺，不僅能移動金屬鍛件，而且還要求在鍛造設備下轉移方位；目前由于配套的金屬鍛件承載平臺為固定式平臺，每次轉移方位均需要啟用吊具，因而勞動強度大，工作效率低，而且因高危操作，安全性差，移動金屬鍛件難度大，效果不佳。
【發明內容】
[0003]本發明的目的在于克服現有技術存在的不足，而提供一種結構簡單，使用操作方便，安全好好，既能承載鍛造設備的鍛壓力，又能承受高溫，提高鍛造效率，降低勞動強度的配套用于鍛造設備的人工旋轉臺。
[0004]本發明的目的是通過如下技術方案來完成的，一種配套用于鍛造設備的人工旋轉臺，它包括一承載底座，所述的底座為圓盤狀，其上平面設置有一圈內置有多個滾珠的下滾珠槽，底座的上面配置有一盤式旋轉臺，其下底面設置有與下滾珠槽相對應的一圈上滾珠槽，且上下滾珠槽之間置有所述的多個滾珠，所述的盤式旋轉臺通過所述的滾珠架設在所述的底座上并可相對旋轉;所述的盤式旋轉臺周邊設置有連通內腔的、用于插接轉動棒的多個插孔。
[0005]作為優選:所述的底座邊沿上設置有至少兩個相對布置的起吊座，所述底座與盤式旋轉臺之間的上滾珠槽和下滾珠槽內分別灌注有潤滑黃油，并在所述底座與盤式旋轉臺之間的相接處中間至少形成有空腔，而在所述盤式旋轉臺的上面為一承載平面。
[0006]本發明具有結構簡單，使用操作方便，安全好好，既能承載鍛造設備的鍛壓力，又能承受高溫，提高鍛造效率，降低勞動強度等特點。
【附圖說明】
[0007]圖1是本發明的結構示意圖。
[0008]圖2是圖1的A—A剖視結構示意圖。
【具體實施方式】
[0009]下面將結合附圖對本發明作詳細的介紹:圖1、2所示，本發明所述的一種配套用于鍛造設備的人工旋轉臺，它包括一承載底座I，所述的底座I為圓盤狀，其上平面設置有一圈內置有多個滾珠2的下滾珠槽，底座I的上面配置有一盤式旋轉臺3，其下底面設置有與下滾珠槽相對應的一圈上滾珠槽，且上下滾珠槽之間置有所述的多個滾珠2，所述的盤式旋轉臺3通過所述的滾珠2架設在所述的底座I上并可相對旋轉;所述的盤式旋轉臺3周邊設置有連通內腔的、用于插接轉動棒的多個插孔4。
[0010]圖中所示，所述的底座I邊沿上設置有至少兩個相對布置的起吊座5，所述底座I與盤式旋轉臺3之間的上滾珠槽和下滾珠槽內分別灌注有潤滑黃油，使上面的盤式旋轉臺可以方便地相對下面的底座I進行旋轉移位;并在所述底座I與盤式旋轉臺3之間的相接處中間至少形成有空腔，這樣可以降低整個人工旋轉臺的重量，還能節省材料;而在所述盤式旋轉臺3的上面為一承載平面。
【主權項】
1.一種配套用于鍛造設備的人工旋轉臺，它包括一承載底座，其特征在于所述的底座為圓盤狀，其上平面設置有一圈內置有多個滾珠的下滾珠槽，底座的上面配置有一盤式旋轉臺，其下底面設置有與下滾珠槽相對應的一圈上滾珠槽，且上下滾珠槽之間置有所述的多個滾珠，所述的盤式旋轉臺通過所述的滾珠架設在所述的底座上并可相對旋轉;所述的盤式旋轉臺周邊設置有連通內腔的、用于插接轉動棒的多個插孔。2.根據權利要求1所述的配套用于鍛造設備的人工旋轉臺，其特征在于所述的底座邊沿上設置有至少兩個相對布置的起吊座，所述底座與盤式旋轉臺之間的上滾珠槽和下滾珠槽內分別灌注有潤滑黃油，并在所述底座與盤式旋轉臺之間的相接處中間至少形成有空腔，而在所述盤式旋轉臺的上面為一承載平面。
【專利摘要】一種配套用于鍛造設備的人工旋轉臺，它包括一承載底座，所述的底座為圓盤狀，其上平面設置有一圈內置有多個滾珠的下滾珠槽，底座的上面配置有一盤式旋轉臺，其下底面設置有與下滾珠槽相對應的一圈上滾珠槽，且上下滾珠槽之間置有所述的多個滾珠，所述的盤式旋轉臺通過所述的滾珠架設在所述的底座上并可相對旋轉；所述的盤式旋轉臺周邊設置有連通內腔的、用于插接轉動棒的多個插孔；所述的底座邊沿上設置有至少兩個相對布置的起吊座，所述底座與盤式旋轉臺之間的上滾珠槽和下滾珠槽內分別灌注有潤滑黃油，并在所述底座與盤式旋轉臺之間的相接處中間至少形成有空腔，而在所述盤式旋轉臺的上面為一承載平面；它具有結構簡單，使用操作方便，安全好好，既能承載鍛造設備的鍛壓力，又能承受高溫，提高鍛造效率，降低勞動強度等特點。
【IPC分類】B21J13/00, B21J13/08
【公開號】CN105583341
【申請號】CN201610088429
【發明人】沈建強, 何勇, 卜祥柱, 徐李鵬, 賀雙旭
【申請人】浙江德潤重工機械有限公司
【公開日】2016年5月18日
【申請日】2016年2月17日