專利名稱：用于制造x 射線陽極的方法和x 射線陽極的制作方法
技術領域：
本發明涉及用于一種制造X射線陽極的方法以及X射線陽極，所述X射線陽極至少在它的焦點范圍內具有結構化的表面。
背景技術：
在產生例如用于醫療應用的X射線輻射時，通常由金屬陽極材料制造的X射線陽極被加載以電子。在達到X射線陽極時，電子被強烈制動，以此一方面形成了 X射線輻射(所謂的制動輻射)且另一方面產生了熱量。但在被高度加速的電子到達X射線陽極時，此電子的動能的僅大約百分之一被轉化為X射線輻射能。剩余的能量被幾乎僅轉化為熱，且必須從X射線陽極被導出或輻射出。X射線陽極內的均衡的溫度形式通過所產生的熱功率和熱傳導和輻射能力確定。通常的X射線陽極主要包括由熔點高的金屬或金屬合金制成的或由陶瓷材料制成的X射線陽極體。X射線陽極的焦點范圍即電子到達其上的位置通常由高熔 點金屬鎢或鎢/錸合金制成。特別地,焦點區域受到高的熱負荷。在形成X射線福射時,在焦點軌跡或焦點區域上可能達到超過2500°c的溫度，這導致X射線陽極的提前老化。老化的焦點區域特別地顯示出由于金屬組織的再結晶導致的強烈的裂紋組織(rissgefilge)和巨核生長(Riesenkornwachstum),其中隨著裂紋形成的增加，X射線福射的劑量率下降。裂紋組織的形成例如在X射線旋轉陽極(帶有在IOOHz至200Hz之間的典型頻率的旋轉陽極)的情況下解釋為由于高周期溫度負荷導致，其中再結晶金屬組織由于快速的拉壓應力序列而疲勞破壞。金屬組織的疲勞破壞可甚至達到使整個顆粒或區域從焦點軌跡連接(Brennbahnverbund)脫落，以此明顯降低了可獲得的劑量率。X射線陽極在此情況中必須被維修或替換。原來，將焦點區域或焦點軌跡熔合在旋轉陽極體上，以因此產生固定的連接。熔合方法多年來被視作標準方法。為延長X射線陽極的使用壽命，已知通過在鎢體的核邊界上的氧化物分離(所謂的“Oxide DispersionStrengthening”)來提高鶴焦點軌跡的強度。也已知的是，為產生耐受性的層結構而使用熱噴射方法(例如，真空等離子體噴涂)，其中將附加的物質在噴射燃燒器內或外熔化、熔焊或熔合，其中氣體流以噴射粒子的形式被加速，且被拋射到X射線陽極的表面上。從US 7356122B2中獲得了一種方法，其中借助于電化學腐蝕方法在X射線陽極基體的表面上引入凹陷，以至少將表面在X射線陽極的焦點區域內微結構化。電化學處理的焦點區域包括離散的錐形結構，其上產生了 X射線輻射的“島面”。獨立的島面可在溫度周期交替時膨脹和收縮，以此防止了金屬組織的損壞和裂紋的形成。DE 10360018A1公開了帶有可受高熱負荷的表面的X射線陽極。在所涉及的X射線陽極的表面上布置了限定的微裂縫，以避免在X射線陽極運行期間焦點軌跡表面的彈塑性變形和隨之導致的疲勞破壞。微裂縫可在此通過不同的模式引入到表面內。此外，描述了用于制造此X射線陽極的相應的方法。
US 5629970A公開了帶有焦點區域的盤形X射線陽極。在焦點區域外，X射線陽極在其背離電子束的側上具有粗糙的表面，其中在表面上的凹陷的寬度和深度大于在X射線陽極運行期間所發射的輻射的波長。在此，US 5629970A的教導在于將凹陷分布一致地引入到表面內，以一方面保證良好的導熱且另一方面保證動態重量平衡。已知的方法中的缺點在于帶有不均勻的特別是彎曲的表面的X射線陽極僅能以很高的成本費用加工而成，因為為此要求特殊的模具。此外,在彎曲的表面的邊緣區內可能特別地出現尺寸偏差，這導致了昂貴且成本高的再加工。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種方法，通過該方法可快速、精確且廉價地制造帶有不同的表面幾何形狀的X射線陽極。本發明所要解決的另外的技術問題是提供相 應的可快速、精確且廉價地制造的X射線陽極。此技術問題根據本發明記載的方法以及X射線陽極解決，其中方法的有利構造視作X射線陽極的有利構造，反之亦然。在根據本發明的方法中，至少在X射線陽極的焦點區域內提供的凹陷通過燒蝕方法引入到X射線陽極基體的表面內，其中通過燒蝕方法在X射線陽極基體的表面內產生盲孔狀的凹陷。盲孔狀的凹陷此外至少基本上沿柵格狀線布置。在本發明的范圍內，所述盲孔狀的凹陷理解為不完全穿過X射線陽極基體且至少主要地形成為圓柱形的凹陷。以此，可產生表面的“穿孔”形式，其中盲孔狀的凹陷在X射線陽極運行期間作為額定斷裂位置起作用。以此方式，可明顯縮短X射線陽極的加工時間，因為表面的所希望的微結構化在X射線陽極運行期間基于所出現的材料應力在焦點范圍內通過彈塑性成形和已限定的微破裂形成。在此，可基本上建議將盲孔狀凹陷以相同或不同的直徑引入到X射線陽極基體的表面內。通過沿柵格狀線布置凹陷，即借助于柵格形的模式，可特別有效地最小化焦點區域內的裂紋組織，且降低材料內的應力分布。通過引入盲孔狀凹陷，在X射線陽極的表面上產生了也被稱為已限定的“裂紋組織”。在用于形成凹陷的燒蝕方法中，特別是電子束或激光束的高能束以合適的燒蝕設備產生且以相應的束引導、成形和偏轉被導向X射線陽極基體的表面上。在待加工的材料內的能量的量在此足夠高而使得材料被蒸發且因此被切除。與例如干腐蝕的結構化方法不同，可借助于燒蝕方法也快速、精確且廉價地結構化彎曲的或不規則地形成的X射線陽極的表面，因為例如在干腐蝕中所要求的彎曲的或另外地匹配的模式等的制造被有利地取消。作為替代，僅需將待結構化的X射線陽極基體以其表面相對于所使用的燒蝕設備定向且定位。在此，可通常使用確定的燒蝕設備而無需為制造不同地形成的X射線陽極進行修改或匹配。借助于燒蝕方法，此外可特別快速且尺寸精確地也在彎曲的或不規則的表面的情況下引入帶有直至50:1的縱橫比的微結構，以此在實現了在制造X射線陽極時的明顯的時間和成本下降。在本發明的有利構造中建議，使得凹陷通過激光脈沖燒蝕方法特別是使用飛秒激光器、皮秒激光器和/或納秒激光器的激光脈沖燒蝕方法，和/或通過電子束燒蝕方法引入到X射線陽基體的表面內。使用激光器來產生激光脈沖特別是超短激光脈沖實現了對使用實踐中的各類材料的很精確的加工，從而不同地形成的X射線陽極基體以及由不同的材料和材料配合制成的X射線陽極基體都可無問題地被加工。使用飛秒激光器所提供的優點是所述激光器由于激光脈沖的很短的時間尺度而產生了從固態到等離子態或氣態的直接過渡，即實際上越過了液態。以此，可忽略在被加工的表面的環境中的直接導熱。這實現了很精確的加工，因為由于激光束在X射線陽極基體的各被加工的區域上的影響被保持為有限的影響。此外，在飛秒激光脈沖中的燒蝕深度與被吸收的激光功率指數上相關，使得燒蝕深度很精確地通過脈沖的強度可調節。同樣適用于皮秒激光器的使用，其中由于更長的持續時間，取決于所使用的材料理論上可產生微小的但對于通用的使用對于界定了所產生的深度的部件區域的不明顯的影響。對于不同的應用也可僅需使用相對更廉價的納秒激光器，其中由于激光脈沖的更長的持續時間可產生對于界定了所產生的深度的部件區域的相應的更大的影響。電子能量以及射束功率在電子束燒蝕方法中可在寬的范圍內變化，且因此最佳地與各X射線陽極基體或焦點范圍的材料相匹配。此外，電子束燒蝕方法的使用實現了如下可能性，即通過記錄散射回的電子來類似于電子顯微鏡地確定被加工表面的表面特性，以此實現了在原處控制制造過程且因此實現以特別高的尺寸精度制造X射線陽極。另外的優點通過如下方式得到，即至少以基本上長方六面體形的表面凸起界定凹陷。換言之，建議將凹陷在X射線陽極內引入為使得在俯視圖中在X射線陽極的表面上形成 棋盤形的模式。在此，可基本上建議使得凹陷中斷地或不中斷地一即例如虛線的形式、點線的形式或點劃線的形式——在X射線陽極的被加工的表面上走向。借助于此類棋盤狀的或柵格形的模式，可特別有效地最小化焦點區域內的裂紋組織，且降低材料內的應力分布。在本發明的另外的有利的構造中建議，使得凹陷以至少為40i!m和/或至多為150 u m的深度被引入到X射線陽極基體的表面內。借助于深度至少為40 y m的凹陷，可特別有效地防止裂紋組織的形成，因為X射線陽極的材料也在高的熱負荷或交變負荷下具有足夠的空間以補償體積變化等。以此，明顯提高了 X射線陽極且特別是焦點軌跡或焦點范圍的壽命。與已知的以其僅可形成例如10 ii m至20 ii m的微小的腐蝕深度的腐蝕方法相比，借助于燒蝕方法可容易地以高精度和短的制造時間產生其深度直至150 或更大的凹陷。優選地，凹陷的深度為 40 u m>45 u m>50 u m>55 u m>60 u m>65 u m>70 u m>75 u m、80 u m、85um、90um、95um、100um、105um、110um、115um、120um、125um、130um、135um、14011111、14511111或15011111等。深度帶有相應的中間值，例如 50iim、51iim、52iim、53iim、54 um,55u m、56 um,57u m、58 um,59u m、60 y m等。對于通常的應用，特別有利的是帶有45iim至120 iim之間的凹陷,特別是50 y m至IOOiim之間的凹陷的X射線陽極，以防止裂紋組織的形成且即使在高負荷下也使焦點軌跡內的應力分布均勻化。在深度超過150 iim的凹陷的情況中，在X射線陽極運行期間在凹陷內所產生的X射線輻射主要在凹陷的壁上被吸收且因此不被使用。以此，可實現的射線劑量通常降低了對應于劑量損失的值，這也通過非結構化的X射線陽極中的常規的陽極損耗體現，使得通過陽極表面的微結構化在深度超過150 u m時通常不再可實現相關的優點。在本發明的另外的有利的構造中建議，通過燒蝕方法在X射線陽極基體的表面內附加地產生縫隙形的凹陷。借助于縫隙形的凹陷，可在X射線陽極基體的組織內特別可靠地建立負荷應力和固有應力。可建議使得凹陷在橫截面內至少基本上形成為矩形的或梯形的。縫隙形的凹陷可例如通過在燒蝕方法中使用的能量束相對于X射線陽極基體的表面的沿預先給定的路徑的相對運動產生。
如果在X射線陽極基體的表面內引入寬度為2 iim至12 iim的縫隙形的凹陷，和/或如果在X射線陽極基體的表面內以使相鄰縫隙形凹陷之間的距離在80 y m至320 y m之間的方式引入縫隙形凹陷，則得到了另外的優點。2pm至12pm之間的寬度在本發明的范圍內特另1J 地理角軍為 2 y m、3 y m、4 y m、5 y m、6 y m、7 y m、8 y m、9 y m、10 y m、11 y m、12 y m以及相應的中間值的寬度。80 y m至320 y m之間的距離在本發明的范圍內特別地理解為80um、90um、100um、110um、120um、130um、140um、150um、160um、170um、180um、190u m、200 u m、210 u m、220 u m、230 u m、240 u m、250 u m、260 u m、270 u m、280 u m、290 u m、300 ii m、310 ii m或320 u m以及相應的中間值的距離，所述中間值例如為101 u m、102 u m、103 u m、104 u m、105 u m、106 u m、107 u m、108 y m、109 y m 或 110 y m。通過此類定尺寸的縫隙形凹陷可特別有效地防止裂紋組織的形成，其中同時保證使得通過表面的微結構化所導致的劑量率損失最大為例如8%至10%。在本發明的另外的有利的構造中建議，使得縫隙形的凹陷引入到X射線陽極基體的表面內而使得比例B:A<0. 1，其中B為縫隙形的凹陷的平均寬度，以Pm為單位，且A為兩個相鄰的縫隙形的凹陷之間的平均距離，以Pm為單位。通過使縫隙形的凹陷對應于前 述寬度距離的關系，可特別有效地防止裂紋組織的形成，其中同時保證通過表面的微結構化所導致的劑量率損失最大為大約8%至10%。在本發明的另外的有利構造中建議，在X射線陽極基體的表面內引入盲孔狀凹陷，使得比例A: D在1. 0至3. 0之間，其中A為兩個相鄰的盲孔狀凹陷之間的距離，以U m為單位，且D為盲孔狀凹陷的平均直徑，以為單位。距離直徑的1.0至3.0之間的關系特別地理解為1. 0,1. 1、1. 2,1. 3,1. 4,1. 5,1. 6,1. 7,1. 8,1. 9,2. 0,2. 1,2. 2,2. 3,2. 4,2. 5、
2.6,2. 7,2. 8,2. 9、或3. 0以及相應的中間值的關系。以此實現了特別有效的表面穿孔，而帶有相應地精確的希望的微結構化的形成。在本發明的特別有利的構造中建議，在X射線陽極基體的表面內引入凹陷期間使得X射線陽極基體一次或多次相對于用于執行燒蝕方法的燒蝕設備定位。以此可制造帶有幾乎任意地成形的表面的X射線陽極。例如，為進行微結構化且引入凹陷，X射線陽極可固定在燒蝕設備的相應的保持件內且以精細機械調節馬達傾斜、移動或另外地定位。這相比于例如干腐蝕的結構化方法具有明顯的優點。如果例如必須以干腐蝕方法將安裝在X射線陽極上且相對于X射線陽極的其他表面傾斜7°至10°的鎢焦點軌跡進行微結構化，則需要成本高昂且耗費地制造彎曲的模具。本發明的另外的方面涉及X射線陽極，所述X射線陽極至少在其焦點區域內包括引入到X射線陽極基體的表面內的凹陷。在此，根據本發明建議使得盲孔狀凹陷通過燒蝕方法引入到X射線陽極基體的表面內，其中盲孔狀凹陷至少基本上沿柵格狀線布置。在此，可產生表面的“穿孔”，其中柵格狀的凹陷在X射線陽極的運行期間作為額定斷裂位置起作用。以此方式可明顯縮短X射線陽極的加工時間，因為表面的所希望的微結構化在X射線陽極運行期間基于所出現的材料應力在焦點范圍內通過彈塑性成形和已限定的微破裂形成。在此，可基本上建議將盲孔狀凹陷以相同或不同的直徑引入到X射線陽極基體的表面內。通過沿柵格狀線布置凹陷，即借助于柵格形的模式，可特別有效地最小化焦點區域內的裂紋組織，且降低材料內的應力分布。通過引入盲孔狀凹陷，在X射線陽極的表面上產生了也被稱為限定的“裂紋組織”。借助于燒蝕方法可快速、精確且廉價地制造X射線陽極，其中X射線陽極或其焦點區域是否是彎曲的或不規則地成形的是無關緊要的。此外，由此得到的優點從根據本發明的方法的前述描述中得到。在本發明的有利構造中建議，使得凹陷的至少一個主要部分的寬度在2 至12 um之間，和/或深度在40 um至150 Um之間，和/或距離在80 u m至320 Um之間。以此，在運行期間在X射線陽極的組織內的固有應力可被特別地有效地降低或事先避免。這降低了裂紋狀缺陷的擴展的驅動力，且因此涉及焦點軌跡壽命的明顯延長。由給出的尺寸所導致的劑量率損失相對于通常的無結構化表面的X射線陽極在此最大為8%至10%，且因此處于可容許的范圍內。另外的優點在于使X射線陽極包括具有1. 0至3. 0之間的比例A:D的盲孔狀凹陷，其中A為兩個相鄰的盲孔狀凹陷之間的距離，以U m為單位，且D為盲孔狀凹陷的平均直徑，以Pm為單位。借助于燒蝕方法可實現的高的縱橫比與現有技術相比允許了制造“穿孔”的類型，其中孔距離優選地為孔直徑的兩倍。以此，可特別快速地制造X射線陽極，因為在焦點軌跡運行中通過在作為額定斷裂位置起作用的盲孔狀凹陷上的裂紋形成，形成了取·決于凹陷的分布模式的微結構化表面。另外的優點在于將X射線陽極形成為X射線旋轉陽極。以此，X射線陽極與根據本發明制造的凹陷相結合具有特別長的壽命，且此外實現了與在固定陽極的情況中直至陽極材料熔融時的輻射強度相比更高的輻射強度。本發明的另外的方面涉及通過根據前述實施例的方法可獲得的X射線陽極和/或根據前述實施例中之一的X射線陽極在X射線設備內的使用。由此所得到的優點，特別是在可實現的成本降低方面和同時明顯延長的X射線陽極的壽命方面的優點從前述描述中可得到。
本方面的另外的特征從權利要求、實施例中以及根據附圖得到。在描述中的前述特征和特征組合以及在下文中在實施例中所述的特征和特征組合不僅以各給出的組合中而且也以另外的組合可使用，而不離開本發明的范圍。各圖為圖1示出了帶有盲孔狀凹陷的X射線陽極的焦點區域的示意性俯視圖，和圖2示出了帶有縫隙形凹陷的X射線陽極的焦點區域的示意性俯視圖。
具體實施例方式圖1示出了 X射線陽極12的焦點區域10的示意性俯視圖，其中借助于燒蝕方法可引入形式為盲孔狀凹陷14的微結構化。凹陷14的深度在50 至100 之間，且沿柵格狀直線布置，使得在原理上得到在圖2中所示的棋盤狀的模式。由于借助于燒蝕方法可實現的縱橫比，可因此作為圖2中所示的縫隙形凹陷14的替代，產生棋盤狀的模式的島狀表面凸起16的邊緣的“穿孔”的形式。相鄰的盲孔狀凹陷14之間的距離在所示的實施例中大致為凹陷14的孔徑的二倍。由此，可明顯縮短X射線設備10的加工時間，因為在X射線陽極12的運行中，在焦點區域10內，在圖2中所示的棋盤狀的模式通過在作為額定斷裂位置起作用的凹陷14上的裂紋形成而自身形成。圖2示出了 X射線陽極12的焦點區域10的示意性俯視圖，其中借助于燒蝕方法引入了形式為縫隙形凹陷14的微結構化。X射線陽極12在本示例中形成為旋轉陽極，且包括由耐熱的鑰合金制成的陽極基體(未示出)。焦點區域10則由鎢制成。但基本上也可提供另外的材料或材料配合。例如，整個X射線陽極12可由鎢或鎢合金制成。凹陷14的深度在50iim至IOOiim之間，且寬度在3 y m至10 y m之間，且形成為棋盤狀柵格的形式。相鄰的平行地延伸的凹陷之間的距離在IOOiim至300 iim之間，使得比例B:A最大為0. 1，其中B是縫隙形凹陷的寬度，單位為U m，且A是兩個相鄰的縫隙形凹陷之間的距離，單位為Um0此比例保證在凹陷14內失去的X射線輻射部分不大于在常規的X射線陽極中通過由于陽極損耗導致的通常的劑量損失所體現的X射線輻射部分。應認識到的是凹陷14基本上界定了長方六面體形的表面凸起16，所述表面凸起16在X射線陽極12的運行期間可膨脹到凹陷14內。由于超過40i!m的凹陷的深度，可特別地有效地防止裂紋組織的形成且降低鎢組織內的固有應力。這降低了用于形成且擴展裂紋狀的缺陷的驅動力，且涉及焦點軌跡壽命且因此X射線陽極12的壽命的明顯延長。由所示的微結構化所導致的相對于通常的帶有非結構化的焦點區域的X射線陽極的劑量率損失在此通常大致6%且最大10%。燒蝕設備的使用在此一方面允許了特別精確、快速且廉價地制造凹陷14，且另一方面允許制造具有超過40 m的深度的凹陷14。在本文中給出的用來限定用于表征本發明的事實的特定特征的過程和測量條件 的參數值也在偏離的情況下——例如由于測量方法、系統誤差、稱重誤差、DIN公差等所導致——視作被本發明的范圍所包括。
權利要求
1.一種用于制造X射線陽極(12)的方法，所述X射線陽極(12)包括至少在它的焦點區域(10)內引入到X射線陽極基體的表面內的若干凹陷(14)，其中，各凹陷(14)通過燒蝕方法引入到X射線陽極基體的表面內，其特征在于，通過燒蝕方法在X射線陽極基體的表面內產生盲孔狀凹陷(14)，其中，各凹陷(14)至少基本上沿柵格狀線布置。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述凹陷(14)通過超短激光脈沖，特別是通過飛秒激光器、皮秒激光器和/或納秒激光器，和/或通過電子束燒蝕方法引入到X射線陽極基體的表面內。
3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述凹陷(14)至少基本上限定了長方六面體形表面凸起(16)的邊界。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，所述凹陷(14)以至少40μ m的深度和/或以至多150 μ m的深度引入到X射線陽極基體的表面內。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其特征在于，通過燒蝕方法附加地在X射線陽極基體的表面內產生縫隙形凹陷(14)。
6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，將縫隙形凹陷(14)以2μπι至12μπι之間的寬度引入到X射線陽極基體的表面內，和/或將縫隙形凹陷(14)以使相鄰縫隙形凹陷(14)之間的距離在80 μ m至320 μ m之間的方式引入到X射線陽極基體的表面內。
7.根據權利要求5或6所述的方法，其特征在于，將縫隙形凹陷(14)這樣地引入到X射線陽極基體的表面內，使得比例B:A< O. 1，其中，B是所述縫隙形凹陷(14)的平均寬度，以μ m為單位，且A是兩個相鄰的縫隙形凹陷(14)之間的平均距離，以μ m為單位。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的方法，其特征在于，將盲孔狀凹陷(14)這樣地引入到X射線陽極基體的表面內，使得比例A: D在1. O至3. O之間，其中A是兩個相鄰的盲孔狀凹陷(14)之間的距離，以μ m為單位，且D是盲孔狀凹陷(14)的平均直徑，以μπι為單位。
9.根據權利要求1至8中一項所述的方法，其特征在于，X射線陽極基體在將所述凹陷(14)引入到X射線陽極基體的表面內期間一次或多次相對于用于執行燒蝕方法的燒蝕設備定位。
10.一種X射線陽極(12)，所述X射線陽極(12)至少在它的焦點區域(10)內包括引入到X射線陽極基體的表面內的若干凹陷(14)，其中，所述凹陷(14)通過燒蝕方法引入到X射線陽極基體的表面內，其特征在于，通過燒蝕方法在X射線陽極基體的表面內引入盲孔狀凹陷(14)，其中盲孔狀凹陷(14)至少基本上沿柵格狀線布置。
11.根據權利要求10所述的X射線陽極(12)，其特征在于，凹陷(14)的至少一個主要部分具有在2 μ m至12 μ m之間的寬度,和/或40 μ m至150 μ m之間的深度,和/或80 μ m至320 μ m之間的距離。
12.根據權利要求10或11所述的X射線陽極(12)，其特征在于，此盲孔狀凹陷(14)包括在1. O至3. O之間的比例A:D，其中A是兩個相鄰的盲孔狀凹陷(14)之間的距離，以μπι為單位，且D是盲孔狀凹陷(14)的平均直徑，以μ m為單位。
13.根據權利要求10至12中一項所述的X射線陽極(12)，其特征在于，所述X射線陽極(12)形成為X射線旋轉陽極。
14.一種通過根據權利要求1至9中任一項所述的方法獲得的X射線陽極(12)在X射線設備內的應 用，和/或根據權利要求10至13中任一項所述的X射線陽極(12)在X射線設備內的應用。
全文摘要
本發明涉及一種用于制造X射線陽極(12)的方法，所述X射線陽極(12)包括至少在其焦點區域(10)內引入到X射線陽極基體的表面內的若干凹陷(14)，其中，各凹陷(14)通過燒蝕方法引入到X射線陽極基體的表面內。在此，通過燒蝕方法在X射線陽極基體的表面內產生盲孔狀凹陷(14)，其中，各凹陷(14)至少基本上沿柵格狀線布置。本發明此外涉及一種X射線陽極(12)，所述X射線陽極(12)包括至少在其焦點區域(10)內引入到X射線陽極基體的表面內的凹陷(14)，以及涉及一種所述X射線陽極(12)在X射線設備內的應用。
文檔編號B23K26/36GK103021761SQ20121036381
公開日2013年4月3日 申請日期2012年9月26日 優先權日2011年9月26日
發明者J.弗羅伊登伯格, S.蘭彭舍夫, S.沃爾特 申請人:西門子公司