專利名稱：激光蝕刻銀漿銦錫氧化物薄膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種激光蝕刻銀漿ITO薄膜的方法，屬于激光蝕刻技術(shù)領(lǐng)域。
技術(shù)背景
由于多點(diǎn)觸控技術(shù)的發(fā)展，傳統(tǒng)的印刷工藝在結(jié)構(gòu)上難以滿足我們的需求。我們 傳統(tǒng)的激光蝕刻主要是蝕刻玻璃或者膜的ITO非可視區(qū)，而多點(diǎn)觸控產(chǎn)品可視區(qū)也需要進(jìn) 行蝕刻，并要確?；牡耐暾砸员ＷC產(chǎn)品的外觀良品率。傳統(tǒng)的做法是將材料上多余的 ITO通過酸蝕刻的方式去除，留下圖案，在印刷銀漿組成回路，具體工藝流程如圖1所示。
現(xiàn)在激光蝕刻在觸摸屏行業(yè)的應(yīng)用已經(jīng)很普遍，例如，我們普通四線屏在膜非可 視區(qū)通常使用激光蝕刻，對(duì)激光蝕刻的精度要求不是很高，精度士0. 1毫米就可以滿足；現(xiàn) 在電容屏中多使用蝕刻金屬膜形成ITO(即hdium Tin Oxide的簡(jiǎn)寫，中文為銦錫氧化物) ^FPC(Flexible Printed Circuit的簡(jiǎn)寫，中文為柔性可印制電路版)的連接線，工藝比 較復(fù)雜，而且成本很高；在多點(diǎn)電阻屏生產(chǎn)中激光蝕刻和酸蝕刻技術(shù)都在應(yīng)用，不過這里的 激光蝕刻是對(duì)ITO的蝕刻，ITO的圖案成型后再進(jìn)行銀漿的印刷。目前很多四線電阻屏工 廠也在原有的設(shè)備基礎(chǔ)上，進(jìn)行多點(diǎn)電阻屏和電容屏的研發(fā)和制樣，對(duì)銀漿圖案的生成使 用印刷的方式。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種先進(jìn)行銀漿印刷，后進(jìn)行激光圖案蝕刻的激光蝕刻銀漿ITO薄 膜的方法。
本發(fā)明為解決其技術(shù)問題所采用如下技術(shù)方案
一種激光蝕刻銀漿ITO薄膜的方法，包括以下步驟
(1)大片裁切基材到符合要求的尺寸，預(yù)烘以保證基材的伸縮率在正常范圍內(nèi)，絲 印銀漿，接著烘箱固化使銀漿粘附在基材上；
(2)激光蝕刻，絲印兩面保護(hù)膜防止ITO區(qū)域劃傷和非ITO區(qū)域沾污，紅外固化基 材上的圖案和保護(hù)膜，接著絲印絕緣油；
(3)固化絕緣油，絲印膠水使基材上下層粘合在一起，接著紅外固化，然后轉(zhuǎn)貼合。
所述的激光蝕刻的精度在士 10微米級(jí)。
所述的激光蝕刻采用充氮?dú)獾姆绞交虺檎婵盏姆绞?，防止銀漿在空氣中氧化。
所述的絲印銀漿時(shí)銀漿的印刷厚度在9微米以下。
本發(fā)明的有益效果如下
1、本發(fā)明是先在ITO上印刷銀漿，然后使用激光機(jī)根據(jù)我們的干蝕刻圖紙刻出我 們需要的圖案。
2、傳統(tǒng)的干蝕刻只是蝕刻ΙΤ0，不蝕刻銀漿，銀漿的圖案是印刷上去的；本發(fā)明的 激光蝕刻不但蝕刻玻璃和膜的ITO導(dǎo)電層，還蝕刻印刷在ITO上的銀漿圖案。
3、采用本發(fā)明提出的方法，不僅可以降低多點(diǎn)觸控產(chǎn)品的成本，設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)和良率都可以得到滿足。
圖1為傳統(tǒng)的流程工藝簡(jiǎn)圖。
圖2為本發(fā)明的流程工藝簡(jiǎn)圖。
圖3為激光蝕刻得到的最終圖案，其中1、銀漿ITO區(qū)域；2、ITO區(qū)域。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)說明。
如圖2所示，一種激光蝕刻銀漿ITO薄膜的方法，包括以下步驟首先，大片裁切 基材到符合要求的尺寸，預(yù)烘以保證基材的伸縮率在正常范圍內(nèi)，絲印銀漿，接著烘箱固化 使銀漿粘附在基材上；其次，激光蝕刻，絲印兩面保護(hù)膜防止ITO區(qū)域劃傷和非ITO區(qū)域沾 污，紅外固化基材上的圖案和保護(hù)膜，接著絲印絕緣油；最后，固化絕緣油，絲印膠水使基材 上下層粘合在一起，接著紅外固化，然后轉(zhuǎn)貼合。
激光蝕刻可以按照我們給出的圖紙，將銀漿和ITO —起蝕刻斷，得到我們需要的 圖案。使用激光蝕刻只需要一張或兩張電子圖就可以了，比傳統(tǒng)的印刷工藝少了一張甚至 兩張鋼網(wǎng)，從而大大節(jié)省了生產(chǎn)成本，并且不污染環(huán)境。由于鋼網(wǎng)的采購周期較之普通網(wǎng)版 要長(zhǎng)，這樣在一定程度上還縮短了送樣周期。最重要的是在一定程度上解決了我們邊緣區(qū) 域較窄客戶樣品的問題。下圖是印刷工藝和激光蝕刻工藝的一個(gè)簡(jiǎn)單對(duì)比。
權(quán)利要求
1.一種激光蝕刻銀漿ITO薄膜的方法，其特征包括以下步驟(1)大片裁切基材到符合要求的尺寸，預(yù)烘以保證基材的伸縮率在正常范圍內(nèi)，絲印銀 漿，接著烘箱固化使銀漿粘附在基材上；(2)激光蝕刻，絲印兩面保護(hù)膜防止ITO區(qū)域劃傷和非ITO區(qū)域沾污，紅外固化基材上 的圖案和保護(hù)膜，接著絲印絕緣油；(3)固化絕緣油，絲印膠水使基材上下層粘合在一起，接著紅外固化，然后轉(zhuǎn)貼合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光蝕刻銀漿ITO薄膜的方法，其特征在于所述的激光 蝕刻的精度在士 10微米級(jí)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光蝕刻銀漿ITO薄膜的方法，其特征在于所述的激光 蝕刻采用充氮?dú)獾姆绞交虺檎婵盏姆绞剑乐广y漿在空氣中氧化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光蝕刻銀漿ITO薄膜的方法，其特征在于所述的絲印 銀漿時(shí)銀漿的印刷厚度在9微米以下。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種激光蝕刻銀漿ITO薄膜的方法，屬于激光蝕刻技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括以下步驟首先，大片裁切基材到符合要求的尺寸，預(yù)烘以保證基材的伸縮率在正常范圍內(nèi)，絲印銀漿，接著烘箱固化使銀漿粘附在基材上；其次，激光蝕刻，絲印兩面保護(hù)膜防止ITO區(qū)域劃傷和非ITO區(qū)域沾污，紅外固化基材上的圖案和保護(hù)膜，接著絲印絕緣油；最后，固化絕緣油，絲印膠水使基材上下層粘合在一起，接著紅外固化，然后轉(zhuǎn)貼合。采用本發(fā)明提出的方法，不僅可以降低多點(diǎn)觸控產(chǎn)品的成本，設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)和良率都可以得到滿足。
文檔編號(hào)B23K26/12GK102033650SQ20101029995
公開日2011年4月27日 申請(qǐng)日期2010年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月29日
發(fā)明者周立克 申請(qǐng)人:南京點(diǎn)面光電有限公司