光反射板及其制造方法、以及光反射裝置的制作方法

專利名稱：光反射板及其制造方法、以及光反射裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光反射板及其制造方法、以及使用光反射板的光反射裝 置，更詳細(xì)地說，涉及光反射特性優(yōu)異的光反射板及其制造方法、以及 通過光反射板將太陽(yáng)光導(dǎo)入室內(nèi)來進(jìn)行照明的光管道等的光反射裝置。
背景技術(shù)：
以往，作為具有光反射板的光反射裝置，公知有將太陽(yáng)光導(dǎo)入室內(nèi)
用于照明的光管道(專利文獻(xiàn)l、 2)。由采光部對(duì)太陽(yáng)光進(jìn)行釆集，利用 光線引導(dǎo)筒通過反射來傳送所采集的光，由放光部在室內(nèi)放出。
并且，在專利文獻(xiàn)2所示的光管道中，在導(dǎo)光部?jī)?nèi)的光路上設(shè)置形 狀特別的光擴(kuò)散裝置。.光擴(kuò)散裝置使入射到光管道內(nèi)的光進(jìn)行擴(kuò)散反射， 光管道內(nèi)的光線均勻地?cái)U(kuò)展。并且，還公開了在光路的中途插入擴(kuò)散膜 的例子。
專利文獻(xiàn)1:日本特開昭58-93101號(hào)公報(bào) 專利文獻(xiàn)2:日本特開2000-149627號(hào)公報(bào)
但是，對(duì)于專利文獻(xiàn)1所公開的光管道，如圖9所示，采入的太陽(yáng) 光的光線束的擴(kuò)展程度大致被采光部1的大小限定，并且，通過光線引 導(dǎo)筒2的鏡面內(nèi)壁，光線束在保持采光時(shí)的擴(kuò)展程度的同時(shí)反射傳送， 因此在光線引導(dǎo)筒2內(nèi)反射傳送來的光從放光部集中地射出到一個(gè)或多 個(gè)部分，由此存在產(chǎn)生照明不均的問題。
并且，存在如下問題為了提高正反射的光反射率，光線引導(dǎo)筒2 的內(nèi)壁越為鏡面，眩目感越嚴(yán)重。
對(duì)于專利文獻(xiàn)2所公開的在光管道中設(shè)置擴(kuò)散膜的方法，雖然緩和 了照明不均、眩目的現(xiàn)象，但存在如下問題光透射過擴(kuò)散膜時(shí)，通常 光強(qiáng)度會(huì)衰減百分之幾十。
4并且，對(duì)于特別設(shè)置光擴(kuò)散裝置等的方法，存在附設(shè)費(fèi)用花費(fèi)較大 的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)有例的問題點(diǎn)而創(chuàng)造的，提供能夠高度維持正 反射的光反射率并減輕反射光眩目感的光反射板及其制造方法、以及無 需設(shè)置特別的光擴(kuò)散裝置等即能防止照明不均的光反射裝置。
為了解決上述課題，第1發(fā)明涉及光反射板，其特征在于，該光反 射板具有基體；以及光反射層，其形成在所述基體上，由銀或銀合金、
或者鋁或鋁合金構(gòu)成，在所述光反射層的表面，算術(shù)平均粗糙度(Ra) 為0.10 0.30jLim，并且算術(shù)平均波度(Wa)為0.30 2.50jim。
另外，光反射板包含加工前的材料和加工成特定尺寸的光反射板這 兩方面。
第2發(fā)明涉及第1發(fā)明的光反射板，其特征在于，所述基體是對(duì)以 鐵為主要成分并含有小于11%的鉻的鋼板實(shí)施鍍鋅或鍍鋅合金而得到的 基板，或者在該基板上有形成粘合劑層。
第3發(fā)明涉及第1發(fā)明的光反射板，其特征在于，所述基體是不銹 鋼基板，或者在該不銹鋼基板上形成有粘合劑層。
第4發(fā)明涉及第1發(fā)明的光反射板，其特征在于，所述基體是由鋁 或鋁合金構(gòu)成的基板，或者在該基板上形成有粘合劑層。
第5發(fā)明涉及第1發(fā)明的光反射板，其特征在于，所述基體是玻璃 基板或塑料基板，或者在這些基板上形成有粘合劑層。
第6發(fā)明涉及第1 第5發(fā)明中任一項(xiàng)的光反射板，其特征在于， 所述粘合劑層是有機(jī)樹脂材料或無機(jī)材料的膜、或者有機(jī)樹脂材料和無 機(jī)材料的混合物的膜。
第7發(fā)明涉及第1 第6發(fā)明中任一項(xiàng)的光反射板，其特征在于， 所述光反射層的表面被保護(hù)膜覆蓋。
第8發(fā)明涉及第7發(fā)明的光反射板，其特征在于，所述保護(hù)膜是有 機(jī)樹脂材料或無機(jī)材料的膜、或者有機(jī)樹脂材料和無機(jī)材料的混合物的膜。
第9發(fā)明涉及第7發(fā)明的光反射板，其特征在于，所述保護(hù)膜由有 機(jī)樹脂材料的膜和無機(jī)材料的膜這兩層構(gòu)成。
第10發(fā)明涉及光反射板制造方法，其特征在于，該光反射板制造方
法具有以下工序準(zhǔn)備具有算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.10 0.30jum、且 算術(shù)平均波度(Wa)為0.30 2.50nm的表面性狀的基體的工序；以及通 過電解鍍法、無電解鍍法或蒸鍍法中的任一種在所述基體上形成由銀或 銀合金的膜、或者由鋁或鋁合金的膜構(gòu)成的光反射層的工序。
第11發(fā)明涉及第10發(fā)明的光反射板制造方法，其特征在于，在形 成所述光反射層的工序后，具有在該光反射層上形成保護(hù)膜的工序。
第12發(fā)明涉及第10或11發(fā)明的光反射板制造方法，其特征在于， 所述基體由鋼板基板或鋁基板構(gòu)成，在該基板的軋制時(shí)，對(duì)該基板的表 面賦予所述算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)。
第13發(fā)明涉及第10或11發(fā)明的光反射板制造方法，其特征在于， 所述基體是玻璃基板或塑料基板，在該基板的形成時(shí)，對(duì)該基板的表面 賦予所述算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)。
第14發(fā)明涉及第10或11發(fā)明的光反射板制造方法，其特征在于， 所述基體通過涂布法在基板上形成粘合劑層，通過在該粘合劑層的形成 時(shí)調(diào)整涂布液的粘度和涂布液的量，從而對(duì)所述粘合劑層的表面賦予所 述算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)。
第15發(fā)明涉及光反射裝置，其特征在于，該光反射裝置具有第1 第9發(fā)明中任一項(xiàng)所述的光反射板。
第16發(fā)明涉及光反射裝置，其特征在于，該光反射裝置具有利用第 10 第14發(fā)明中任一項(xiàng)所述的光反射板制造方法所制造的光反射板。
第17發(fā)明涉及第15或16發(fā)明的光反射裝置，其特征在于，所述光 反射裝置是具有釆光部、導(dǎo)光部和放光部的光管道，所述光反射板設(shè)置 于所述導(dǎo)光部的內(nèi)壁。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的光反射板，具有由銀或銀合金的膜、或者 由鋁或鋁合金的膜構(gòu)成的光反射層，因此尤其在可見光的整個(gè)區(qū)域中反
6并且，光反射層表面的算術(shù)平均粗糙度(Ra)小到0.10 0.30pm， 因此能夠高度維持正反射的光反射率。而且，對(duì)同一光反射層的表面設(shè) 置算術(shù)平均波度(Wa)、并且將算術(shù)平均波度(Wa)的范圍設(shè)為0.3 2.5|im，因此能夠引起光的擴(kuò)散反射而不降低正反射的光反射率。 由此，能夠高度維持正反射的光反射率并減輕反射光的眩目感。 根據(jù)本發(fā)明的光反射板制造方法，在具有算術(shù)平均粗糙度(Ra)為 0.10 0.30^m、且算術(shù)平均波度(Wa)為0.30 2.50pm的表面性狀的基 體上，通過無電解鍍法等形成由銀膜等構(gòu)成的光反射層。因此，基體表 面的表面性狀延續(xù)到光反射層，所以能容易地對(duì)光反射層賦予期望的表 面性狀。
根據(jù)本發(fā)明的光反射裝置，具有上述光反射板，因此能高度維持反 射光的強(qiáng)度并減輕反射光的眩目感。
特別地，通過在光管道的導(dǎo)光部?jī)?nèi)壁應(yīng)用上述光反射板，可以通過 擴(kuò)散反射來傳送太陽(yáng)光等，因此能防止室內(nèi)的照明不均。并且，可以不 特別地設(shè)置光的擴(kuò)散裝置或擴(kuò)散膜等，因此能夠?qū)崿F(xiàn)成本的降低并防止 光強(qiáng)度的衰減。


圖1 (a)、 (b)是示出本發(fā)明第1實(shí)施方式的光反射板的2種結(jié)構(gòu)的
圖2 (a)、 (b)涉及本發(fā)明第1實(shí)施方式的光反射板的制造方法，是 示出對(duì)基板賦予表面性狀的方法的立體圖。
圖3涉及本發(fā)明第1實(shí)施方式的光反射板，是示出對(duì)光反射特性進(jìn) 行比較評(píng)價(jià)的結(jié)果的表。
圖4涉及本發(fā)明第1實(shí)施方式的光反射板，是示出圖3表的各樣品 反射面的算術(shù)平均粗糙度(Ra)與正反射率之間的關(guān)系的圖表。
圖5涉及本發(fā)明第1實(shí)施方式的光反射板，是示出圖3表的各樣品 反^1"面的算術(shù)平均波度(Wa)與光反射投影寬度(S)之間的關(guān)系的圖表。
7圖6 (a)、 (b)、 (c)涉及光反射板，是說明反射面的表面性狀與光 反射之間的關(guān)系的示意圖，(c)是本發(fā)明第1實(shí)施方式的光反射板的表 面性狀。
圖7涉及本發(fā)明第1實(shí)施方式的光反射板，是示出光反射投影寬度 (S)的測(cè)定法的立體圖。
圖8是示出本發(fā)明第2實(shí)施方式的光反射板的應(yīng)用例即光管道的結(jié) 構(gòu)的剖視圖。
圖9是示出作為現(xiàn)有例的光管道的結(jié)構(gòu)的剖視圖。
標(biāo)號(hào)說明
11:基板；lla:賦予了表面性狀的基板的表面；12:粘合劑層；12a: 賦予了表面性狀的粘合劑層的表面；13:光反射層；13a:賦予了表面性 狀的光反射層的表面；14:保護(hù)膜；20C:反射面；22C:反射光；31: 屋頂；32:采光部；33:導(dǎo)光部；33a:間隔壁；34:放光部；101、 102: 光反射板；103:光管道。
具體實(shí)施例方式
下面，參照附圖按照以下項(xiàng)目來說明本發(fā)明的實(shí)施方式。 (說明項(xiàng)目)
(1) 得到本發(fā)明的經(jīng)過的說明
(2) 本發(fā)明第1實(shí)施方式的光反射板的說明
(i) 光反射板的結(jié)構(gòu)
(a) 基板的結(jié)構(gòu)
(b) 光反射層的結(jié)構(gòu)
(c) 保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)
(ii) 光反射板的其它結(jié)構(gòu)
(iii) 光反射板的光反射層的表面性狀及其賦予方法
(iv) 光反射板的制造方法
(v) 表面性狀的評(píng)價(jià)
(3) 本發(fā)明第2實(shí)施方式的光反射裝置的說明(i)光管道(實(shí)施方式的說明)
(1) 得到本發(fā)明的經(jīng)過的說明
圖6 (a)、 (b)、 (c)是說明反射面的表面性狀與光反射特性的關(guān)系的示意圖。
圖6 (a)示出在反射面20a上沒有波度且算術(shù)平均粗糙度(Ra)較小時(shí)光的反射特性。標(biāo)號(hào)21示出入射光，22a示出反射光。該情況下，在反射面20a上正反射變強(qiáng)(正反射率提高)，因此反射光22a產(chǎn)生眩目感。另一方面，如圖6 (b)所示，當(dāng)反射面20b的算術(shù)平均粗糙度(Ra)變大時(shí)，在反射面20b上擴(kuò)散反射變強(qiáng)(擴(kuò)散反射率提高)，因此，雖然改善了反射光22b的眩目感，但到達(dá)受光面的光量減少。
本申請(qǐng)發(fā)明人針對(duì)是否能既維持反射光的強(qiáng)度又改善眩目感進(jìn)行了各種調(diào)查和研究。
結(jié)果發(fā)現(xiàn)，如圖6 (c)所示，即使在反射面20c上算術(shù)平均粗糙度(Ra)與圖6 (a)相等，在施加了 JISB0601所規(guī)定的算術(shù)平均波度(Wa)的情況下，在反射面20c上正反射的同時(shí)產(chǎn)生擴(kuò)散反射。并且發(fā)現(xiàn)，可以通過適當(dāng)調(diào)整算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)的程度，來高度維持正反射率并提高擴(kuò)散反射率，高度維持反射光的強(qiáng)度并減輕眩目感。
而且，在將圖6 (c)所示的表面性狀應(yīng)用于光管道內(nèi)壁的情況下，可以高度維持光的反射傳送效率并減輕照明光的眩目感。進(jìn)而，在反射傳送光時(shí)，通過擴(kuò)散反射使光線束擴(kuò)展成更寬的范圍，因此可以防止放光部的照明不均。
(2) 本發(fā)明第1實(shí)施方式的光反射板的說明(0光反射板的結(jié)構(gòu)
圖1 (a)是示出本發(fā)明第1實(shí)施方式的光反射板101的結(jié)構(gòu)的剖視圖。
如圖1 (a)所示，光反射板101由基板(基體)11和基板11上的光反射層13構(gòu)成。另外，可以根據(jù)需要在光反射層13上提供保護(hù)膜14?；?1的表面lla具有圖6 (c)所示的粗糙度和波度。粗糙度在JISB0601中規(guī)定為算術(shù)平均粗糙度(Ra)，在該實(shí)施方式中，設(shè)定為0.10 0.30,的范圍。波度以同樣的方式規(guī)定為算術(shù)平均波度(Wa)，在該實(shí)施方式中，設(shè)定為0.30 2.50miti的范圍。該表面性狀延續(xù)到光反射層13，光反射層13的表面13a也具有與基板11大致相同的表面性狀。(a)基板的結(jié)構(gòu)
構(gòu)成光反射板101的基板11使用由金屬構(gòu)成的板或箔(以下，除了特別表示的情況以外，統(tǒng)稱為金屬板)、由表面處理金屬構(gòu)成的板或箔(以下，除了特別表示的情況以外，統(tǒng)稱為表面處理金屬板)、由玻璃板或塑料構(gòu)成的板或膜(以下，除了特別表示的情況以外，統(tǒng)稱為塑料板)。
金屬板使用鋼板或鋁板。鋼板包括鉻含量小于11%質(zhì)量百分比的鐵合金的板、或鉻含量為11%質(zhì)量百分比以上的鐵合金即所謂的不銹鋼的板。特別地，絡(luò)含量小于11%質(zhì)量百分比的鐵合金鋼板是比鋁或不銹鋼便宜的材料，所以，優(yōu)選于廣泛普及產(chǎn)品的情況。在該實(shí)施方式中，鋁板是純鋁板、鋁合金板的統(tǒng)稱。鋁合金以鋁為主要成分，為了賦予強(qiáng)度、加工性、耐蝕性等而添加了鎂(Mg)、錳(Mn)、硅(Si)等并合金化。
表面處理金屬板是在上述金屬板的表面實(shí)施了各種鍍敷的板、或在鋁板的表面實(shí)施了氧化鋁膜(alumite)處理的板。另外，通過表面處理在金屬板表面形成的層(表面處理層)不用于反射光，而是為了防銹等而設(shè)置的。
作為鍍敷用的金屬，可以使用鋅、鋅合金、錫、鎳、鉻等。
接著，針對(duì)表面處理金屬板，尤其是實(shí)施了鍍鋅或鍍鋅合金的鋼板(以下稱為鍍鋅鋼板)進(jìn)行詳細(xì)說明。
鍍鋅鋼板由于鍍敷方法的不同而存在幾個(gè)種類。例如，熔融鍍鋅鋼板、熔融鍍鋅合金鋼板、電鍍鋅鋼板、電鍍鋅合金鋼板等。
作為鍍敷用的金屬，使用鋅或鋅合金。作為鋅合金，使用在鋅(Zn)中含有5%或55%質(zhì)量百分比的鋁(Al)的合金、或者在鋅(Zn)中含有鈷(Co)、鉬(Mo)的合金等。
鍍鋅鋼板可以直接用作基板，但為了進(jìn)一步防止鋅等鍍層的剝落和
10變質(zhì)，也可以實(shí)施化成處理。作為化成處理，例如可以應(yīng)用鉻酸鹽處理、 磷酸鹽處理、硅酸鋰處理、硅垸偶聯(lián)劑處理或者鋯處理等。
可以根據(jù)后文在(iii)項(xiàng)中說明的方法，對(duì)基板ll的表面lla施加 范圍為0.10 0.30(im的算術(shù)平均粗糙度(Ra)和范圍為0.30 2.50(am的 算術(shù)平均波度(Wa)。
(b) 光反射層的結(jié)構(gòu) 光反射層13可以使用銀或銀合金的膜、或者鋁或鋁合金的膜。 其中，銀或銀合金的膜可以通過利用銀鏡反應(yīng)還原析出銀的無電解
鍍法、例如噴鍍法來形成。除此之外，可以應(yīng)用在含有銀離子的水溶液 中進(jìn)行電解的電鍍法、在負(fù)壓氣氛下蒸發(fā)銀來形成膜的蒸鍍法等。銀膜 等的厚度優(yōu)選為可得到實(shí)用反射效果的0. 01 0.3^m左右。
并且，在鋁膜等的形成中，可以使用蒸鍍法或離子鍍法等干鍍法。 特別地，通過蒸鍍法形成的膜能夠確保較高的正反射率，因此是優(yōu)選的。 鋁膜等的膜厚最佳為能夠得到所謂光澤面的0. 01 0.2^im左右。
銀膜等和鋁膜等在膜厚過薄時(shí)，均不可避免地產(chǎn)生針孔，反射率降 低。另一方面，發(fā)現(xiàn)膜厚過厚時(shí)，也存在所謂反射率急劇降低的傾向。
光反射層13在上述膜厚的范圍內(nèi)幾乎原樣地延續(xù)基板11的表面性 狀，具有與基板ll大致相同的表面性狀。
(c) 保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)
作為光反射層13的銀膜等暴露于空氣中時(shí)，容易變色或產(chǎn)生沾污 等。特別地，在周圍氣氛即使含有微量的硫系氣體也容易變色。另外， 在清洗附著于銀膜上的沙塵、塵埃的情況下，銀膜容易殘留因清洗劑產(chǎn) 生的變色痕跡。為了防止這些情況，在光反射層13上設(shè)置保護(hù)膜14。由 此，可以長(zhǎng)時(shí)間地保持作為光反射板的性能并便于維護(hù)管理。
保護(hù)膜14使用由有機(jī)樹脂材料或無機(jī)材料、或者它們的混合物構(gòu)成 的膜?；蛘?，也可以由有機(jī)樹脂材料的膜和無機(jī)材料的膜這兩層構(gòu)成。
有機(jī)樹脂材料可以使用透明且薄的聚酯樹脂、丙烯樹脂、硅酮樹脂 等，無機(jī)材料可以使用耐污染性優(yōu)異的氧化鈦等。通過使用溶解了材料 的涂布液的涂布法、或使材料成為薄膜狀而粘貼，來制造有機(jī)樹脂材料
ii等的膜。
另外，也可以使用增反射膜作為保護(hù)膜14。增反射膜由折射率較大 的材料(例如鈦氧化物等)所構(gòu)成的層、和折射率較小的材料(例如硅 氧化物等)構(gòu)成的層這2層層疊而成，將這些各層的光學(xué)厚度(物理膜
厚X折射率)設(shè)為A/4 a:光的波長(zhǎng))，整體的光學(xué)厚度設(shè)為A/2?？梢?br> 通過使用增反射膜，來進(jìn)一步提高光的正反射率。 (ii)光反射板的其它結(jié)構(gòu)
接著，說明本發(fā)明第1實(shí)施方式的光反射板的其它結(jié)構(gòu)。圖l (b) 是示出該結(jié)構(gòu)的剖視圖。
在圖l (b)的光反射板102的結(jié)構(gòu)中，與圖l (a)的不同點(diǎn)在于， 在基板11與光反射層13之間夾有粘合劑層12。該情況下，基板11和粘 合劑層12構(gòu)成基體。
粘合劑層12設(shè)置為用來提高基板11自身的耐蝕性，并夾在基板11 與光反射層13之間而提高基板11與光反射層13的密接性。特別地，在 使用實(shí)施了鍍鋅或鍍鋅合金的鋼板等作為基板ll的情況下，為了使與光 反射層13之間的密接性牢固，優(yōu)選在該鋼板上形成粘合劑層12。另外， 通過對(duì)粘合劑層12的表面實(shí)施電暈放電處理或輝光放電處理，從而進(jìn)一 步提高與層疊在其上的銀膜之間的密接性。
在該結(jié)構(gòu)中，為了對(duì)光反射層13的表面13a賦予算術(shù)平均粗糙度 (Ra)為0.10 0.30(im、算術(shù)平均波度(Wa)為0.30 2.50^m的表面性 狀，預(yù)先對(duì)基底的粘合劑層12的表面12a賦予與其相同的表面性狀。
作為粘合劑層12，可以使用由各種材料構(gòu)成的涂裝膜或薄膜。涂裝 膜的材料只要是針對(duì)基板11具有良好密接性的有機(jī)樹脂材料，其種類沒 有特別限定，但尤其優(yōu)選聚酯樹脂、醇酸樹脂、丙烯樹脂、二液硬化型 聚氨酯樹脂等的涂料。薄膜的材料可以使用聚乙烯、聚碳酸酯樹脂、聚 酰胺樹脂、聚酰亞胺樹脂等。在粘合劑層12是涂裝膜的情況下，可以通 過使用溶解了材料的涂料的涂布法在基板11上制造。此外，在粘合劑層 12是薄膜的情況下，可以通過利用粘接劑等在基板11上粘貼薄膜從而在 基板11上制造。粘合劑層12需要以能賦予期望的表面性狀的膜厚來形成。
另外，粘合劑層12的表面性狀會(huì)影響到光反射層13的表面性狀甚
至光反射板的反射特性，因此其制造方法很重要。用于對(duì)粘合劑層12賦 予規(guī)定表面性狀的、更詳細(xì)的粘合劑層12的制造方法在后面敘述。
(iii)光反射板的光反射層的表面性狀及其賦予方法 接下來，說明對(duì)光反射板的反射特性產(chǎn)生較大影響的光反射層的表 面性狀及其賦予方法。
光反射板的反射特性直接由光反射層13的表面性狀決定。而且，對(duì) 于光反射板101，光反射層13的表面性狀延續(xù)基板11的表面性狀，因此 需要預(yù)先調(diào)整基板11 (在表面處理金屬板的情況下為表面處理層的表面) 的表面性狀。并且，對(duì)于光反射板102，光反射層13的表面性狀延續(xù)粘 合劑層12的表面12a的性狀，因此需要預(yù)先調(diào)整粘合劑層12的表面性 狀。
對(duì)于光反射板IOI，在基板ll為表面處理金屬板的情況下，為了賦 予期望的表面性狀，如圖2 (a)所示，將具有作為預(yù)定表面性狀的波度 或進(jìn)一步具有微小凹凸的軋輥15抵接在基板(被軋制體)11的表面lla 上，進(jìn)行精軋(還稱為調(diào)質(zhì)軋制)。由此，軋輥15表面的表面性狀轉(zhuǎn)印 到基板11的表面，對(duì)基板11的表面賦予表面性狀。
為了預(yù)先對(duì)在調(diào)質(zhì)軋制中使用的軋輥15的表面15a賦予規(guī)定的表面 性狀，使用基于研磨砂輪的研磨加工、噴射鈍化加工、以及放電鈍化加 工等?；蛘?，也可以使用激光鈍化加工、電子束加工等。
在調(diào)質(zhì)軋制中，通過調(diào)整軋輥對(duì)被軋制體的壓下負(fù)荷、以及對(duì)被軋 制體施加的張力等的軋制條件，可以容易地得到期望的表面性狀。
對(duì)于調(diào)質(zhì)軋制，可以使用表面性狀不同的2對(duì)精軋輥，在前級(jí)進(jìn)行 鏡面精軋輥軋制使表面平坦，在后級(jí)進(jìn)行噴射鈍化精軋輥軋制來賦予表 面性狀。通過組合表面性狀不同的鏡面精軋輥和噴射鈍化輥，可以精度 良好地控制被軋制體的表面性狀。
但是，對(duì)于實(shí)施了熔融鍍鋅等比較厚的鍍鋅的冷軋鋼板，如果在鍍 敷前賦予表面性狀則表面性狀由于鍍敷而發(fā)生變化，因此優(yōu)選在鍍敷后進(jìn)行調(diào)質(zhì)軋制。
并且，在基板(被軋制體)11為玻璃板的情況下，通過進(jìn)行物理研 磨、研磨或基于酸液的化學(xué)蝕刻(侵蝕)，由此對(duì)基板ll賦予表面性狀。 例如，將平坦的板玻璃平坦地放置于水平的工作臺(tái)上，使板玻璃通過研 磨頭下方，并且向研磨頭提供適當(dāng)?shù)难心?。作為?yōu)選的研磨劑，使用 砂的水性懸濁液。通常，隨著研磨的進(jìn)行，使用階段性地減小的研磨劑 粒子來調(diào)整表面性狀。在基板(被軋制體)11為塑料板(包含薄膜)的 情況下，在升溫到玻璃轉(zhuǎn)移點(diǎn)以上的溫度的狀態(tài)下，對(duì)加工成預(yù)定表面 性狀的加熱金屬輥進(jìn)行按壓來轉(zhuǎn)印表面性狀，對(duì)基板11賦予表面性狀。
另一方面，對(duì)于光反射板102，通過組合涂料的粘度調(diào)整和形成膜
的厚度調(diào)整，可以容易地將粘合劑層12的表面12a的性狀調(diào)整在期望的
范圍內(nèi)。例如，當(dāng)提高涂料的稀釋度而降低粘度時(shí)，可以減小算術(shù)平均
粗糙度(Ra)。另一方面，當(dāng)降低涂料的稀釋度而提高粘度、并適當(dāng)調(diào)整 與形成膜的厚度有關(guān)的涂料量時(shí)，可以增大算術(shù)平均波度(Wa)。由此， 可以通過適當(dāng)進(jìn)行涂料的粘度調(diào)整和涂料量的調(diào)整，來得到期望的表面 性狀。
列舉具體例子，在粘合劑層12的材料中使用二液硬化型聚氨酯樹脂
的情況下，將主劑、硬化劑、溶劑、均化劑的比率調(diào)配成5: 1: 20: 2， 涂料粘度(粘度杯NK-2/7 ;f、》卜巖田公司制造)設(shè)為9 10秒，利用噴 射槍以干燥后的厚度為3 8(im的方式使粘合劑層12成膜，由此，可以 將算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)調(diào)整在期望范圍內(nèi)。 (iv)光反射板的制造方法
接下來，參照?qǐng)D1和圖2來說明上述光反射板101的制造方法。特 別地，圖2 (a)、 (b)是示出對(duì)基板ll賦予表面性狀的方法的立體圖。
首先，準(zhǔn)備冷軋鋼板(基板)11，該冷軋鋼板ll是根據(jù)通常的冷軋 鋼板的制造工藝進(jìn)行酸洗、冷軋、退火而制造的。
接著，為了對(duì)冷軋鋼板ll賦予期望的表面性狀，如圖2(a)、 (b) 所示，利用軋機(jī)進(jìn)行調(diào)質(zhì)軋制。另外，在(iii)項(xiàng)的說明中說明了基于2 對(duì)軋輥的調(diào)質(zhì)軋制，但在該制造方法的說明中實(shí)施基于1對(duì)軋輥的調(diào)質(zhì)
14軋制。在圖2 (a)、 (b)中，僅表示了 l個(gè)軋輥，但實(shí)際上對(duì)置地設(shè)置有
1對(duì)軋輥。
在調(diào)質(zhì)軋制中，在研磨成規(guī)定表面精度的軋輥之間夾持所準(zhǔn)備的冷 軋鋼板11并使其移動(dòng)，由此進(jìn)行軋制，對(duì)冷軋鋼板11賦予表面性狀。 該情況下，適當(dāng)調(diào)整軋制條件(壓下負(fù)荷、張力)。通過該調(diào)質(zhì)軋制，如
圖2 (b)所示，對(duì)冷軋鋼板11的表面lla賦予0.10 0.30mjti的算術(shù)平 均粗糙度(Ra)和0.30 2.50(am的算術(shù)平均波度(Wa)。
以上，說明了不實(shí)施鍍敷的冷軋鋼板ll的表面形狀賦予方法，但在 實(shí)施了上述調(diào)質(zhì)軋制后，為了賦予耐蝕性，也可以實(shí)施鋅等的鍍敷。作 為一例，實(shí)施鍍鋅或鍍鋅合金的方法可以使用熔融鍍鋅法、熔融鍍鋅合 金法、電鍍鋅法、或電鍍鋅合金法中的任一種。
熔融鍍鋅法或熔融鍍鋅合金法是在熔融的鋅中或熔融的鋅合金中浸
漬鋼板而被覆鋅或鋅合金的方法。并且，電鍍鋅法或電鍍鋅合金法是在 溶解了鋅等的鍍液中或溶解了鋅合金等的鍍液中浸漬鋼板、并在鋼板與
鋅陽(yáng)極之間施加電壓而被覆鋅或鋅合金的方法。
另外，在實(shí)施了烙融鍍鋅等比較厚的鍍敷的鋼板的情況下，如果在 鍍敷前賦予表面性狀則表面粗糙度等由于鍍敷而變化，因此可以在鍍敷 后進(jìn)行調(diào)質(zhì)軋制。
接著，為了基板11表面的脫脂，利用堿性溶液來清洗基板11的表 面。接著，使用離子交換水或蒸餾水來清洗上述基板11，并進(jìn)行干燥。 另外，根據(jù)粘合劑層12的表面狀態(tài)，也可以不進(jìn)行堿性溶液的清洗。
接下來，進(jìn)行用于形成銀膜的前處理。
前處理是在基板11上形成錫的處理，然后實(shí)施銀鏡反應(yīng)。
在前處理中，首先，在基板ll的表面涂布含鹽酸的含有四氯化錫、 二氯化錫和氯化鐵的水溶液(前處理活性劑)，在基板11的表面形成作 為催化劑的錫。優(yōu)選將當(dāng)前處理溶液調(diào)整為pH2以下。
.接著，使用離子交換水或蒸餾水對(duì)形成了錫的基板11的表面進(jìn)行清 洗，去除殘留在基板ll表面的前處理溶液。
這樣進(jìn)行了前處理后，通過銀鏡反應(yīng)在基板11上實(shí)施光反射層13即銀膜形成工序。
在銀膜形成工序中，對(duì)實(shí)施了前處理的基板ll表面，通過噴霧噴射 同時(shí)射出PH10 13的氨化硝酸銀水溶液和含有還原劑(例如硫酸肼、乙
二醛等)的pH8 12的水溶液。作為還原劑水溶液，使用在將還原劑溶
解于水中或稀釋后的溶液中加入氫氧化鈉而成為堿性的還原劑水溶液。 由此，以錫為起動(dòng)核，在基板11表面析出銀并形成銀膜。
所形成的銀膜延續(xù)基板11的表面性狀，對(duì)表面13a賦予算術(shù)平均粗 糙度(Ra)為0.10 0.30pm、算術(shù)平均波度(Wa)為0.30 2.5(Vm的表
面性狀。
接著，使用離子交換水或蒸餾水對(duì)基板ll進(jìn)行清洗，去除殘留在光 反射層13表面的氨化硝酸銀水溶液和還原劑水溶液。
接著，利用鼓風(fēng)機(jī)吹散附著在光反射層13表面的水滴。然后，進(jìn)行 使基板11干燥的干燥工序。干燥條件例如設(shè)為在7(TC的溫度下干燥20 分鐘。
根據(jù)需要在光反射層13上形成保護(hù)膜14。詳細(xì)說來，通過使用溶 解有無機(jī)材料或有機(jī)樹脂材料的涂布液的涂布法、或使有機(jī)樹脂材料成 為薄膜狀而進(jìn)行粘貼，來形成保護(hù)膜14。
通過以上方式，完成圖l (a)所示的光反射板IOI。
如上所述，根據(jù)該實(shí)施方式的光反射板的制造方法，在具有算術(shù)平 均粗糙度(Ra)為0.10 0.30nm、且算術(shù)平均波度(Wa)為0.30 2.50jim 的表面性狀的基板11上，通過無電解鍍法等形成由銀膜等構(gòu)成的光反射 層13。因此，基板11表面的表面性狀延續(xù)到光反射層13，所以可以容 易地對(duì)光反射層13賦予期望的表面性狀。
另外，在上述光反射板的制造方法中，在基板11上直接形成作為光 反射層13的銀膜，但如圖1 (b)所示，也可以在光反射層13的形成前， 在基板11上形成具有本發(fā)明的表面性狀的粘合劑層12。該情況下，也可 以不對(duì)基板11賦予本發(fā)明的表面性狀。
為了在基板11上形成具有本發(fā)明的表面性狀的粘合劑層12，在基板 11上涂布由聚酯樹脂、醇酸樹脂、丙烯樹脂或二液硬化型聚氨酯樹脂中的任一種構(gòu)成并適當(dāng)調(diào)整了粘度的涂料。此時(shí)，調(diào)整涂布量來得到規(guī)定
的膜厚。通過這種方式涂布了涂料后進(jìn)行干燥，由此在表面12a上形成 具有算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.10 0.30^im、算術(shù)平均波度(Wa)為0.30 2.50pm的表面性狀的粘合劑層12。
并且，作為銀膜的形成方法，使用基于噴霧噴射方式的無電解鍍法， 但也可使用浸漬方式。并且，除此之外，也可以使用電鍍法、蒸鍍法。
并且，也可以使用鋁膜來代替銀膜。例如在通過蒸鍍法形成鋁膜的 情況下，把真空度設(shè)為約lX10_3Pa，把基板加熱設(shè)為約300K。 (v)表面性狀的特性評(píng)價(jià)
接著，以下說明制造具有各種表面性狀的光反射板并評(píng)價(jià)其特性的 具體的實(shí)施例。
(光反射板的制造條件)
根據(jù)上述光反射板的制造方法，制造光反射板作為用于特性評(píng)價(jià)的 樣品。該情況下，省略保護(hù)膜14。將它們匯總記載在圖3的表中。 (實(shí)施例1 (Al))
在賦予了算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.1^irn、算術(shù)平均波度(Wa)為 0.3pm的表面性狀的冷軋鋼板(基板11、以下相同)上，通過使用了pH10 左右的氨化硝酸銀水溶液和pH10左右的還原劑(硫酸肼)水溶液的無電 解鍍法，形成厚度為100nm的銀(Ag)膜(光反射層13、以下相同)。
其中，算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)根據(jù)下述的(特 性評(píng)價(jià))項(xiàng)目進(jìn)行測(cè)定。以下相同。并且，在圖3的表中，將基板ll的 冷軋鋼板簡(jiǎn)單記載為鋼板。以下相同。 (實(shí)施例2 (A2))
在賦予了算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.11^im、算術(shù)平均波度(Wa)為 0.89pm的表面性狀的鋁(Al)板(基板ll、以下相同)上，通過與實(shí)施 例1相同的無電解鍍法，形成厚度為100nm的銀(Ag)膜。 (實(shí)施例3 (A3))
在賦予了算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.11pim、算術(shù)平均波度(Wa)為 2.5jjin的表面性狀的鋁(Al)板上，通過與實(shí)施例l相同的無電解鍍法，形成厚度為100nm的銀(Ag)膜。 (實(shí)施例4 (A4)) 在賦予了算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.21pm、算術(shù)平均波度(Wa)為 l.l^im的表面性狀的冷軋鋼板上，通過與實(shí)施例1相同的無電解鍍法，形 成厚度為100nm的銀(Ag)膜。 (實(shí)施例5 (A5)) 在冷軋鋼板(基板ll)上，通過噴霧涂裝，形成賦予了算術(shù)平均粗 糙度(Ra)為0.22^rn、算術(shù)平均波度(Wa)為1.0,的表面性狀的丙烯 樹脂膜(粘合劑層12)，在丙烯樹脂膜上通過與實(shí)施例1相同的無電解鍍 法，形成厚度為100nm的銀(Ag)膜。 (實(shí)施例6 (A6)) 在賦予了算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.29jLim、且算術(shù)平均波度(Wa) 為0.33pm的表面性狀的冷軋鋼板上，通過與實(shí)施例1相同的無電解鍍法， 形成厚度為100nm的銀(Ag)膜。 (實(shí)施例7 (A7)) 在賦予了算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.3)im、算術(shù)平均波度(Wa)為 2.5,的表面性狀的冷軋鋼板上，通過蒸鍍法，真空度設(shè)為約lX10'卞a， 基板加熱設(shè)為約300K，形成厚度為0.05,的鋁(Al)膜(光反射層13)。 (比較例1 (Bl)) 在賦予了算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.05^、算術(shù)平均波度(Wa)為 0.15pm的表面性狀的冷軋鋼板上，通過與實(shí)施例1相同的無電解鍍法， 形成厚度為100nm的銀(Ag)膜。 (比較例2 (B2)) 在賦予了算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.2nm、算術(shù)平均波度(Wa)為 3.2pm的表面性狀的冷軋鋼板上，通過與實(shí)施例1相同的無電解鍍法，形 成厚度為100nm的銀(Ag)膜。 (比較例3 (B3)) 在賦予了算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.49,、算術(shù)平均波度(Wa)為 0.3Hiii的表面性狀的冷軋鋼板上，通過與實(shí)施例1相同的無電解鍍法，形
18成厚度為100nm的銀(Ag)膜。
(比較例4 (B4)) 在賦予了算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.6pm、且算術(shù)平均波度(Wa) 為l.l阿的表面性狀的冷軋鋼板上，通過與實(shí)施例1相同的無電解鍍法， 形成厚度為100nm的銀(Ag)膜。
(特性評(píng)價(jià))
針對(duì)各樣品測(cè)定算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)，進(jìn) 而測(cè)定正反射率和光反射投影寬度(S)。測(cè)定結(jié)果匯總記載在圖3的表 中。
(算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)的評(píng)價(jià)方法和條件) 通過JISB0601所規(guī)定的方法，在表l所記載的條件下，測(cè)定算術(shù)平
均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)。 [表l]_
測(cè)定條件項(xiàng)目算術(shù)平均粗糙度(Ra)拜算術(shù)平均波度(Wa) pm
測(cè)定長(zhǎng)度(mm)1.258
截止波長(zhǎng)(mm)0.250.8
(正反射率的評(píng)價(jià)方法和條件)
正反射率例如是表示光管道內(nèi)的光傳送性能的指標(biāo)，正反射率越大， 光傳送效率越高。
從實(shí)際測(cè)定的全反射率中減去同樣實(shí)際測(cè)定的擴(kuò)散反射率，來求出 正反射率。該全反射率和擴(kuò)散反射率使用分光測(cè)色儀(美能達(dá)(s 乂 A
夕)公司制造、型號(hào)為CM-3500d、波長(zhǎng)為550nm)，根據(jù)JISZ8722的條 件(c)的規(guī)定來測(cè)定。將與實(shí)用光傳送效率對(duì)應(yīng)的正反射率為88%以上 設(shè)為合格。
(光反射投影寬度(S)的評(píng)價(jià)方法和條件)
光反射投影寬度(S)是表示眩目感程度的指標(biāo)，光反射投影寬度(S) 越大，正反射的一部分轉(zhuǎn)化為擴(kuò)散反射，減輕反射光的眩目感。
光反射投影寬度(S)可以通過圖7所示的測(cè)定法來測(cè)定。在該測(cè)定 法中，如該圖所示，按照相對(duì)于測(cè)定樣品23的表面成角度45。的方式照 射激光光線27 (測(cè)定樣品表面上投影圓25的長(zhǎng)徑為5mm)，其反射光線
19投影到在距離投影圓25為30cm的位置處垂直豎立的投影屏26。
結(jié)果，在投影幕26上以與測(cè)定樣品23的表面性狀對(duì)應(yīng)的反射投影 寬度(S:橢圓的長(zhǎng)徑)，投影了激光光線的反射投影橢圓24。隨著在測(cè) 定樣品表面由算術(shù)平均波度(Wa)表示的波度變大，反射投影寬度變大， 并且其輪廓變得不清晰。
在本實(shí)施方式中，關(guān)于消除反射光的眩目感的光反射板，將該光反 射投影寬度(S)為12mm以上設(shè)為合格。在圖3表的評(píng)價(jià)欄中，用合格 記號(hào)〇表示滿足正反射率為88%以上、且光反射投影寬度(S)為12mm 以上的樣品，用不合格記號(hào)X表示不滿足任一方的樣品。 (評(píng)價(jià)結(jié)果)
通過正反射率來評(píng)價(jià)算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa) (評(píng)價(jià)1)，通過光反射投影寬度(S)來評(píng)價(jià)算術(shù)平均粗糙度(Ra)和 算術(shù)平均波度(Wa)(評(píng)價(jià)2)。 (評(píng)價(jià)l)
圖4是示出使用圖3表的測(cè)定結(jié)果生成的、算術(shù)平均粗糙度(Ra) 與正反射率之間的關(guān)系的圖表。寫在圖表中的數(shù)字表示樣品編號(hào)。在圖 表中，以針對(duì)各樣品得知算術(shù)平均波度(Wa)的范圍的方式進(jìn)行表示。 白色圓點(diǎn)(〇)表示算術(shù)平均波度(Wa)處于0.05 2.5pm的范圍內(nèi)的 樣品，黑色圓點(diǎn)(參)表示算術(shù)平均波度(Wa)為3.2拜的樣品。
根據(jù)圖4，對(duì)于算術(shù)平均波度(Wa)為0.05 2.5pm的樣品，正反 射率與算術(shù)平均粗糙度(Ra)之間大致存在一定的關(guān)系。即，在算術(shù)平 均粗糙度(Ra)為0.3,以下時(shí)，正反射率確保88%這樣足夠大的值， 但在算術(shù)平均粗糙度(Ra)超過0.3iom時(shí)，正反射率的降低變大。因此， 為了確保足夠大的基于反射的光傳送效率，優(yōu)選將光反射層13的膜面的 算術(shù)平均粗糙度(Ra)的上限設(shè)為0.3pm。
另一方面，對(duì)于算術(shù)平均波度(、化)為3.20pm的樣品(比較例2 (參記號(hào)))，即使算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.3pm以下，正反射率也低 至85.6%，基于反射的光傳送效率不佳。 (評(píng)價(jià)2)接著，圖5是示出使用圖3表的測(cè)定結(jié)果生成的、算術(shù)平均波度(Wa) 與光反射投影寬度(S)之間關(guān)系的圖表。寫在圖表中的數(shù)字表示樣品編 號(hào)。
根據(jù)圖5，對(duì)于算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.1 0.3,的各樣品，在 算術(shù)平均波度(Wa)為0.2(im附近，光反射投影寬度(S)大幅上升， 在算術(shù)平均波度(Wa)為0.3^irn以上時(shí)，光反射投影寬度(S)成為作 為合格值的12mm以上。
另一方面，在比較例3、 4中，光反射投影寬度(S)大到28mm、 35mm，在減輕眩目感這方面良好，但正反射率小于88°/。，光傳送效率差。
并且，在算術(shù)平均粗糙度(Ra)小于0.1,的比較例1中，正反射 率高，但光反射投影寬度(S)小于12mm，沒有減輕眩目感。
并且，在使用了鋁基板的實(shí)施例2和3、在基板11與光反射層13 之間夾有粘合劑層(丙烯樹脂)12的實(shí)施例5、以及使用鋁膜作為光反 射層13的實(shí)施例7中，可以通過將表面性狀(算術(shù)平均粗糙度(Ra)和 算術(shù)平均波度(Wa))設(shè)定在規(guī)定范圍內(nèi)，來得到足夠大的光反射投影寬 度(S)，由此具有減輕眩目感的效果。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的光反射板，具有由銀或銀合金的 膜、或者由鋁或鋁合金的膜構(gòu)成的光反射層13，因此尤其在可見光的整 個(gè)區(qū)域中反射效率優(yōu)異。
并且，光反射層13表面的算術(shù)平均粗糙度(Ra)小到0.10 0.30,， 因此可以高度維持正反射的光反射率。而且，對(duì)相同的光反射層13的表 面設(shè)置算術(shù)平均波度(Wa)、且將算術(shù)平均波度(Wa)的范圍設(shè)為0.3 2.5]Lim，因此可以引起光的擴(kuò)散反射而不降低正反射的光反射率。
由此，可以既高度維持正反射的光反射率又減輕反射光的眩目感。 (3)本發(fā)明第2實(shí)施方式的光反射裝置的說明 (i)光管道
圖8是示出本發(fā)明第2實(shí)施方式的光管道結(jié)構(gòu)的剖視圖。在圖8中， 示出設(shè)置于房屋的屋頂31的光管道103，該屋頂31實(shí)際隔開室內(nèi)和室外。 光管道103具有設(shè)于室外的采光部32、設(shè)于室內(nèi)的放光部34、以及連接采光部32與放光部34的導(dǎo)光部33。導(dǎo)光部33的間隔壁33a的內(nèi)表 面具有圖6 (c)所示的光反射面。
使用圖1 (a)所示的光反射板101、或圖1 (b)所示的光反射板102 來制造間隔壁33a。例如，在采用比較厚的金屬板或塑料板作為基板11 的情況下，可以將光反射層側(cè)作為內(nèi)壁面，使這些板本身成形為管道形 狀而設(shè)置。另一方面，在采用稱之為箔的薄金屬板或塑料薄膜等作為基 板ll的情況下，利用剛性較高的其它部件，粘貼施工在所制造的光管道 成形體的內(nèi)壁面上。
根據(jù)該實(shí)施例的光管道，針對(duì)光管道內(nèi)壁的光反射面適當(dāng)規(guī)定算術(shù) 平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)的范圍，因此可以使從采光部 32采入的太陽(yáng)光線在光管道103的內(nèi)壁擴(kuò)散反射，同時(shí)維持高反射傳送 效率地進(jìn)行傳播。如圖8所示，光通過在光管道內(nèi)擴(kuò)散反射而一邊擴(kuò)展 光線束一邊傳播，因此在放光部34均勻地放射光線。由此，可以防止照 明不均，并且可以減輕照明光的眩目感。
以上，通過實(shí)施方式詳細(xì)說明了本發(fā)明，但本發(fā)明的范圍不限于在 上述實(shí)施方式中具體示出的例子，在不脫離本發(fā)明主旨的范圍內(nèi)對(duì)上述 實(shí)施方式的變更也包含在本發(fā)明的范圍中。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性
本發(fā)明的光反射板可以通過將構(gòu)成光反射板的光反射層表面的表面 性狀設(shè)定在規(guī)定范圍內(nèi)，來高度維持基于正反射的光傳送效率，并減輕 作為現(xiàn)有問題的反射光的眩目感。通過將該光反射板用于將太陽(yáng)光等作 為照明光源導(dǎo)入日照差的建筑物、地下室等的光管道，可以防止照明不 均并大幅提高光管道的性能。
2權(quán)利要求
1.一種光反射板，其特征在于，該光反射板具有基體；以及光反射層，其形成在所述基體上，由銀或銀合金、或者鋁或鋁合金構(gòu)成，在所述光反射層的表面，算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.10～0.30μm，并且算術(shù)平均波度(Wa)為0.30～2.50μm。
2. 根據(jù)權(quán)利要求I所述的光反射板，其特征在于，所述基體是對(duì)以鐵為主要成分并含有小于11%的鉻的鋼板實(shí)施鍍鋅或鍍鋅合金而得到的基板，或者在該基板上形成有粘合劑層。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光反射板，其特征在于，所述基體是不銹鋼基板，或者在該不銹鋼基板上形成有粘合劑層。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光反射板，其特征在于，所述基體是由鋁或鋁合金構(gòu)成的基板，或者在該基板上形成有粘合劑層。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光反射板，其特征在于，所述基體是玻璃基板或塑料基板，或者在這些基板上形成有粘合劑層。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1 5中的任一項(xiàng)所述的光反射板，其特征在于，所述粘合劑層是有機(jī)樹脂材料或無機(jī)材料的膜、或者有機(jī)樹脂材料和無機(jī)材料的混合物的膜。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1 6中的任一項(xiàng)所述的光反射板，其特征在于，所述光反射層的表面被保護(hù)膜覆蓋。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的光反射板，其特征在于，所述保護(hù)膜是有機(jī)樹脂材料或無機(jī)材料的膜、或者有機(jī)樹脂材料和無機(jī)材料的混合物的膜。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的光反射板，其特征在于，所述保護(hù)膜由有機(jī)樹脂材料的膜和無機(jī)材料的膜這兩層構(gòu)成。
10. —種光反射板制造方法，其特征在于，該光反射板制造方法具有以下工序準(zhǔn)備具有算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.10 0.30)am、且算術(shù)平均波度(Wa)為0.30 2.50pm的表面性狀的基體的工序；以及通過電解鍍法、無電解鍍法或蒸鍍法中的任一種在所述基體上形成由銀或銀合金的膜、或者由鋁或鋁合金的膜構(gòu)成的光反射層的工序。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的光反射板制造方法，其特征在于，在形成所述光反射層的工序后，具有在該光反射層上形成保護(hù)膜的工序。
12. 根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的光反射板制造方法，其特征在于，所述基體由鋼板基板或鋁基板構(gòu)成，在該基板的軋制時(shí)，對(duì)該基板的表面賦予所述算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的光反射板制造方法，其特征在于，所述基體是玻璃基板或塑料基板，在該基板的形成時(shí)，對(duì)該基板的表面賦予所述算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)。
14. 根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的光反射板制造方法，其特征在于，所述基體通過涂布法在基板上形成粘合劑層，通過在該粘合劑層的形成時(shí)調(diào)整涂布液的粘度和涂布液的量，從而對(duì)所述粘合劑層的表面賦予所述算術(shù)平均粗糙度(Ra)和算術(shù)平均波度(Wa)。
15. —種光反射裝置，其特征在于，該光反射裝置具有權(quán)利要求1 9中任一項(xiàng)所述的光反射板。
16. —種光反射裝置，其特征在于，該光反射裝置具有利用權(quán)利要求10 14中任一項(xiàng)所述的光反射板制造方法所制造的光反射板。
17. 根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的光反射裝置，其特征在于，所述光反射裝置是具有采光部、導(dǎo)光部和放光部的光管道，所述光反射板設(shè)置于所述導(dǎo)光部的內(nèi)壁。
全文摘要
本發(fā)明的課題是提供一種能高度維持正反射的光反射率并減輕反射光眩目感的光反射板。作為解決手段，其特征在于，光反射板具有基體(11)；以及光反射層(13)，其形成在基體(11)上，由銀或銀合金、或者鋁或鋁合金構(gòu)成，在光反射層(13)的表面(13a)，算術(shù)平均粗糙度(Ra)為0.10～0.30μm，并且算術(shù)平均波度(Wa)為0.30～2.50μm。
文檔編號(hào)F21V7/22GK101680975SQ20088001975
公開日2010年3月24日 申請(qǐng)日期2008年6月9日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月23日
發(fā)明者大場(chǎng)光芳, 大嶋達(dá)也, 西麻里 申請(qǐng)人:東洋鋼鈑株式會(huì)社