專利名稱：一種底層墊掩模蔭罩對準噴涂的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種蔭罩式等離子體顯示屏的生產(chǎn)制造工藝，特別是一種掩模 蔭罩與工作蔭罩內(nèi)壁熒光粉層涂敷的工藝，具體地說是一種底層墊掩模蔭罩對 準噴涂的方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的蔭罩式等離子體顯示屏利用彩色陰極射線管CRT生產(chǎn)中常用的蔭罩 來替代現(xiàn)有的離子體顯示板PDP中制造工藝復(fù)雜的障壁。蔭罩式等離子體顯示 屏三基色熒光粉層依次按陣列涂敷在工作蔭罩的內(nèi)壁上，要實現(xiàn)這樣有選擇性 的涂敷，必須用掩模蔭罩與工作蔭罩配合。在垂直方向上掩膜蔭罩和工作蔭罩 的節(jié)距一致，而水平方向掩模蔭罩節(jié)距是工作蔭罩的三倍。當(dāng)兩張蔭罩貼合并 將其中一色對準后，其它兩色被遮擋住，這樣就可實現(xiàn)選擇性噴涂熒光粉層。 噴涂其它兩色同理，只要將兩張蔭罩相對位置偏移一列即可。
掩模蔭罩與工作蔭罩是在0. 15mm厚的薄鋼帶上通過精密曝光刻蝕工藝而 形成的幾十萬至幾百萬個特定形狀、特定排列的孔矩陣圖形。要在這幾十萬至 幾百萬個特定形狀、特定排列的小孔內(nèi)壁上均勻涂敷一定厚度的三色熒光粉層 難度很大，現(xiàn)有的生產(chǎn)工藝是掩模蔭罩與工作蔭罩根據(jù)所需噴涂基色選擇性 對準后直接吸附在噴涂吸附磁板框架上進行噴涂作業(yè)，這就可能出現(xiàn)兩方面問 題 一是制作橡膠吸附磁板的磁粉材料在整張磁板的一些小區(qū)域存在分散不均 勻的現(xiàn)象，則在這些小區(qū)域就會相應(yīng)出現(xiàn)磁場分布不均勻。熒光粉材料是由稀 土氧化物成分組成的，磁場對稀土氧化物中的一些金屬元素會產(chǎn)生磁力作用， 這樣磁場分布情況就會對由稀土氧化物成分組成的熒光粉漿料附著情況產(chǎn)生 影響。如果吸附磁場分布不均勻，則涂敷時熒光粉漿料的附著情況一致性也差。 二是霧化的漿料除了附著在掩模蔭罩、工作蔭罩內(nèi)壁層和橡膠吸附磁板上之 外，再無其它空間可以附著。附著以外的漿料一部分可能向工作蔭罩與橡膠吸 附磁板接觸交界處的縫隙滲漏，造成工作蔭罩小孔通氣槽堵塞；另一部分動能大的霧化漿料在接觸到到底部橡膠吸附磁板后會反向彈射出來，將之前已涂敷 形成的致密平滑的熒光粉層部分顆粒打掉，造成的后果是最終形成的熒光粉層 不致密、不平滑，且上粉量也有所降低，這對發(fā)光亮度及發(fā)光一致性都有較大 的不良影響。少量反彈的霧化漿料顆粒最終大部分都會散落在操作間的環(huán)境 中，這也會給操作人員的身心健康及相關(guān)作業(yè)設(shè)備帶來一定的危害。因此，現(xiàn) 有的工作蔭罩內(nèi)壁層噴涂熒光粉的方法無法達到橡膠吸附磁板的磁粉分布均 勻、無法保證最終形成的熒光粉層致密、平滑，上粉量高，發(fā)光亮度和發(fā)光一 致性好，無法保證給操作人員以健康工作環(huán)境的要求，不能滿足現(xiàn)有生產(chǎn)的需 要。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有的大尺寸蔭罩式等離子體顯示屏三基色熒光粉 涂敷過程中由于吸附磁場分布不均勻而造成熒光粉附著一致性差、液態(tài)槳料向 工作蔭罩小孔通氣槽滲漏和少量動能大的霧化漿料反向彈射問題，提出一種底 層墊掩模蔭罩對準噴涂的方法。
本發(fā)明的技術(shù)方案是
1、 一種底層墊掩模蔭罩對準噴涂的方法，其特征是它包括以下步驟
a. 在對準用玻璃平板、玻璃平板、工作蔭罩、上層選色掩膜蔭罩和底層 所墊掩模蔭罩邊框相應(yīng)位置上均設(shè)置若干組定位孔，每組定位孔由三個對準孔 組成，三個對準孔之間的距離與工作蔭罩網(wǎng)格孔中三原色之間的距離相匹配；
b. 將一塊表面處理干凈的對準用玻璃平板放在對準臺支撐架上，底層所 墊掩模蔭罩、工作蔭罩和上層選色掩膜蔭罩大孔面都朝上且對準孔位置點一致 依次放置在對準用玻璃平板上；
c. 六只對準錐銷匹配插入預(yù)噴基色相應(yīng)的對準孔中，取玻璃平板對準孔 匹配放置在三張蔭罩的上方，放置后將六組對準鎖緊裝置裝好，通過對準孔、 對準錐銷和鎖緊裝置的共同作用，則底層所墊掩模蔭罩、工作蔭罩和上層選色 掩膜蔭罩在對準用玻璃平板上完成對應(yīng)基色選擇性對準及鎖緊過程；
d. 然后通過兩次翻轉(zhuǎn)，將底層所墊掩模蔭罩、工作蔭罩和上層選色掩膜 蔭罩從對準用玻璃平板上轉(zhuǎn)到噴涂吸附磁板框架上，此時底層所墊掩模蔭罩、 工作蔭罩、上層選色掩膜蔭罩和橡膠吸附磁板完成對準、吸附過程；
4e. 將上述完成對準、吸附的底層所墊掩模蔭罩、工作蔭罩、上層選色掩 膜蔭罩、橡膠吸附磁板和噴涂吸附磁板框架裝入水幕箱內(nèi)進行對應(yīng)基色熒光粉 的噴涂、分離和烘干；
f. 工作蔭罩烘干后重復(fù)步驟b e，直至三基色熒光粉全部完成噴涂、分 離和烘干，然后將噴涂好三基色熒光粉的工作蔭罩流水至下道工序燒結(jié)。
2、本發(fā)明所述的底層所墊掩模蔭罩和上層選色掩膜蔭罩的外觀、材質(zhì)、 孔型尺寸和節(jié)距尺寸均一致即兩張蔭罩為同一種蔭罩，且底層所墊掩模蔭罩和 上層選色用掩膜蔭罩均為純鐵材質(zhì)。
本發(fā)明的有益效果
1、 本發(fā)明通過底層所墊掩模蔭罩傳導(dǎo)并均勻分布橡膠吸附磁板所形成的 磁場，由稀土氧化物成分組成的三色熒光粉漿料附著情況將隨吸附磁場分布一 致性情況的改善而改善，特別是在某些磁場分布差別較大的小區(qū)域改善更為明 顯，顯著提高了最終形成的熒光粉層的附著一致性，改善了顯示屏白場效果。
2、 本發(fā)明通過底層所墊掩模蔭罩在橡膠吸附磁板與工作蔭罩之間建立容 納空間，在噴涂時多余的液態(tài)漿料可以在底層所墊掩模蔭罩的槽孔空間內(nèi)容 積，而不會直接通過工作蔭罩與橡膠吸附磁板接觸交接處的縫隙向工作蔭罩小 孔面通氣槽滲漏，有效保持了小孔通氣槽通暢，可以顯著提高后續(xù)抽排氣工序 的效率。
3、 本發(fā)明通過底層所墊掩模蔭罩在橡膠吸附磁板與工作蔭罩之間建立容 納空間，可減輕少量動能大的霧化漿料的反彈作用，漿料顆粒反彈數(shù)量減少既 利于保護已涂敷形成的熒光粉層不受破壞，又可以減輕對操作間環(huán)境的污染。
4、 本發(fā)明采用的底層所墊掩模蔭罩與上層選色掩膜蔭罩為同一種蔭罩， 兩種掩模蔭罩都是可以回收使用的。因此底層墊掩模蔭罩對準噴涂的方法不會 增加生產(chǎn)成本，卻可以提高了蔭罩式等離子體顯示屏的產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。
圖1是本發(fā)明的底層所墊掩模蔭罩、工作蔭罩和上層選色掩膜蔭罩依次放 置的結(jié)構(gòu)示意圖。 ，
圖2是本發(fā)明的底層所墊掩模蔭罩、工作蔭罩和上層選色掩膜蔭罩在玻璃 平板上對準結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本發(fā)明的底層所墊掩模蔭罩、工作蔭罩和上層選色掩膜蔭罩在噴涂 吸附磁板框架上的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是采用本發(fā)明的方法對準噴涂后工作蔭罩與掩模蔭罩內(nèi)壁熒光粉層附 著情況示意圖。
圖5是本發(fā)明的工作蔭罩噴涂、烘干和分離后內(nèi)壁熒光粉層附著情況示意圖。
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖1-5和實施例對本發(fā)明作進一步說明。
一種底層墊掩模蔭罩對準噴涂的方法，它包括以下步驟
a. 在對準用玻璃平板l、玻璃平板、工作蔭罩2、上層選色掩膜蔭罩3和 底層所墊掩模蔭罩4邊框相應(yīng)位置上均設(shè)置若干組定位孔，每組定位孔由三個 對準孔5組成，三個對準孔5之間的距離與工作蔭罩2網(wǎng)格孔中三原色之間的 距離相匹配；
b. 將一塊表面處理干凈的對準用玻璃平板1放在對準臺支撐架上，底層 所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2和上層選色掩膜蔭罩3大孔面都朝上且對準孔位 置點一致依次放置在對準用玻璃平板1上；
c. 六只對準錐銷6匹配插入預(yù)噴基色相應(yīng)的對準孔5中，取玻璃平板對 準孔匹配放置在三張蔭罩的上方，放置后將六組對準鎖緊裝置裝好，通過對準 孔5、對準錐銷6和鎖緊裝置的共同作用，則底層所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2 和上層選色掩膜蔭罩3在對準用玻璃平板1上完成對應(yīng)基色選擇性對準及鎖緊 過程；
d. 然后通過兩次翻轉(zhuǎn)180。程序，將底層所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2和 上層選色掩膜蔭罩3從對準用玻璃平板1上轉(zhuǎn)到噴涂吸附磁板框架7上，此時 底層所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2、上層選色掩膜蔭罩3和橡膠吸附磁板8完 成對準、吸附過程；
.e.將上述完成對準、吸附的底層所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2、上層選色 掩膜蔭罩3、橡膠吸附磁板8和噴涂吸附磁板框架7裝入水幕箱內(nèi)進行對應(yīng)基 色熒光粉的噴涂、分離和烘干；
f.工作蔭罩2烘干后重復(fù)步驟b e，直至三基色熒光粉全部完成噴涂、
6分離和烘干，然后將噴涂好三基色熒光粉的工作蔭罩2流水至下道工序燒結(jié)。 本發(fā)明的底層所墊掩模蔭罩4和上層選色掩膜蔭罩3的外觀、材質(zhì)、孔型
尺寸和節(jié)距尺寸均一致即兩張蔭罩為同一種蔭罩，且底層所墊掩模蔭罩4和上
層選色用掩膜蔭罩3均為純鐵材質(zhì)。 具體實施時
首先，在對準用玻璃平板l、玻璃平板、工作蔭罩2、上層選色掩膜蔭罩3 和底層所墊掩模蔭罩4邊框相應(yīng)位置上均設(shè)置若干組定位孔，每組定位孔由三 個對準孔5組成，三個對準孔5之間的距離與工作蔭罩2網(wǎng)格孔中三原色之間 的距離相匹配；如圖1所示是本發(fā)明底層所墊掩模蔭罩、工作蔭罩及上層
選色用掩模蔭罩依次放置結(jié)構(gòu)示意圖。然后，將一塊表面處理干凈的對準用玻
璃平板l放在對準臺支撐架上，底層所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2和上層選色 掩膜蔭罩3大孔面都朝上且對準孔位置點一致依次放置在對準用玻璃平板1 上；六只對準錐銷6匹配插入預(yù)噴基色相應(yīng)的對準孔5中，取玻璃平板對準孔 匹配放置在三張蔭罩的上方，放置后將六組對準鎖緊裝置裝好，通過對準孔5、 對準錐銷6和鎖緊裝置的共同作用，將底層所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2和上 層選色掩膜蔭罩3在對準用玻璃平板1上完成對應(yīng)基色選擇性對準及鎖緊過 程；如圖2所示是本發(fā)明上述三張蔭罩依次放置在對準用玻璃平板上，并通 過蔭罩與玻璃平板邊框上所設(shè)的對準孔及對準錐銷進行對準操作的結(jié)構(gòu)示意 圖。然后通過兩次翻轉(zhuǎn)18(T程序，將底層所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2和上 層選色掩膜蔭罩3從對準用玻璃平板1上轉(zhuǎn)到噴涂吸附磁板框架7上，此時底 層所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2、上層選色掩膜蔭罩3和橡膠吸附磁板8完成 對準、吸附過程，如圖3所示是本發(fā)明三張蔭罩在對準玻璃平板上完成對準 后通過對倒翻轉(zhuǎn)程序轉(zhuǎn)移至吸附框架上結(jié)構(gòu)示意圖。將上述完成對準、吸附的 底層所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2、上層選色掩膜蔭罩3、橡膠吸附磁板8和噴 涂吸附磁板框架7裝入水幕箱內(nèi)進行對應(yīng)基色熒光粉的噴涂、分離和烘干；如 圖4所示是本發(fā)明采用底層墊掩模蔭罩對準噴涂后工作蔭罩與掩模蔭罩內(nèi)壁 熒光粉層附著情況示意圖。如圖5所示是本發(fā)明工作蔭罩與掩膜蔭罩噴涂烘 干分離后工作蔭罩內(nèi)壁熒光粉層附著情況示意圖。工作蔭罩2烘干后重復(fù)步驟 以上步驟，直至三基色熒光粉全部完成噴涂、分離和烘干，然后將噴涂好三基 色熒光粉的工作蔭罩2流水至下道工序燒結(jié)。實施例一
a. 在對準用玻璃平板l、玻璃平板、工作蔭罩2、上層選色掩膜蔭罩3和 底層所墊掩模蔭罩4邊框相應(yīng)位置上均設(shè)置若干組定位孔，每組定位孔由三個 對準孔5組成，三個對準孔5之間的距離與工作蔭罩2網(wǎng)格孔中三原色之間的 距離相匹配；
b. 將一塊表面處理干凈的對準用玻璃平板1放在對準臺支撐架上，底層 所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2和上層選色掩膜蔭罩3大孔面都朝上且對準位置 點一致依次放置在對準用玻璃平板1上；
c. 六只對準錐銷6匹配插入預(yù)噴基色相應(yīng)的對準孔5中，取玻璃平板對 準孔匹配放置在三張蔭罩的上方，放置后將六組對準鎖緊裝置裝好，通過對準 孔5、對準錐銷6和鎖緊裝置的共同作用，將底層所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2 和上層選色掩膜蔭罩3在對準用玻璃平板1上對對應(yīng)基色進行選擇性對準，然 后鎖緊；
d. 在三張蔭罩上方的玻璃平板上放置橡膠吸附磁板8并壓緊，橡膠吸附 磁板8通過上層玻璃平板與工作蔭罩2吸緊，將對準鎖緊的底層所墊掩模蔭罩 4、工作蔭罩2、上層的玻璃平板和上層選色掩膜蔭罩3及壓緊的橡膠吸附磁板 8 —起對倒翻轉(zhuǎn)放到噴涂吸附磁板框架7上，通過兩次翻轉(zhuǎn)180°程序底層所 墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2、上層選色掩膜蔭罩3和橡膠吸附磁板8完成對準、 吸附過程；
e. 將上述完成對準、吸附的底層所墊掩模蔭罩4、工作蔭罩2、上層選色 掩膜蔭罩3、上層的玻璃平板、橡膠吸附磁板8和噴涂吸附磁板框架7裝入水 幕箱內(nèi)進行對應(yīng)基色熒光粉的噴涂、分離和烘干；
f. 工作蔭罩2烘干后重復(fù)步驟b e，直至三基色熒光粉全部完成噴涂、 分離和烘干，然后將噴涂好三基色熒光粉的工作蔭罩2流水至下道工序燒結(jié)。
本發(fā)明未涉及部分均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實現(xiàn)。
權(quán)利要求
1、一種底層墊掩模蔭罩對準噴涂的方法，其特征是它包括以下步驟a. 在對準用玻璃平板(1)、玻璃平板、工作蔭罩(2)、上層選色掩膜蔭罩(3)和底層所墊掩模蔭罩(4)邊框相應(yīng)位置上均設(shè)置若干組定位孔，每組定位孔由三個對準孔(5)組成，三個對準孔(5)之間的距離與工作蔭罩(2)網(wǎng)格孔中三原色之間的距離相匹配；b. 將一塊表面處理干凈的對準用玻璃平板(1)放在對準臺支撐架上，底層所墊掩模蔭罩(4)、工作蔭罩(2)和上層選色掩膜蔭罩(3)大孔面都朝上且對準孔位置點一致依次放置在對準用玻璃平板(1)上；c. 六只對準錐銷(6)匹配插入預(yù)噴基色相應(yīng)的對準孔(5)中，取玻璃平板對準孔匹配放置在三張蔭罩的上方，放置后將六組對準鎖緊裝置裝好，通過對準孔(5)、對準錐銷(6)和鎖緊裝置的共同作用，則底層所墊掩模蔭罩(4)、工作蔭罩(2)和上層選色掩膜蔭罩(3)在對準用玻璃平板(1)上完成對應(yīng)基色選擇性對準及鎖緊過程；d. 然后通過兩次翻轉(zhuǎn)，將底層所墊掩模蔭罩(4)、工作蔭罩(2)和上層選色掩膜蔭罩(3)從對準用玻璃平板(1)上轉(zhuǎn)到噴涂吸附磁板框架(7)上，此時底層所墊掩模蔭罩(4)、工作蔭罩(2)、上層選色掩膜蔭罩(3)和橡膠吸附磁板(8)完成對準、吸附過程；e. 將上述完成對準、吸附的底層所墊掩模蔭罩(4)、工作蔭罩(2)、上層選色掩膜蔭罩(3)、橡膠吸附磁板(8)和噴涂吸附磁板框架(7)裝入水幕箱內(nèi)進行對應(yīng)基色熒光粉的噴涂、分離和烘干；f. 工作蔭罩(2)烘干后重復(fù)步驟b～e，直至三基色熒光粉全部完成噴涂、分離和烘干，然后將噴涂好三基色熒光粉的工作蔭罩(2)流水至下道工序燒結(jié)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種底層墊掩模蔭罩對準噴涂的方法，其特征是所 述的底層所墊掩模蔭罩(4)和上層選色掩膜蔭罩(3)的外觀、材質(zhì)、孔型尺 寸和節(jié)距尺寸均一致即兩張蔭罩為同一種蔭罩，且底層所墊掩模蔭罩(4)和 上層選色用掩膜蔭罩(3)均為純鐵材質(zhì)。
全文摘要
本發(fā)明的一種底層墊掩模蔭罩對準噴涂的方法，通過底層所墊掩模蔭罩(4)傳導(dǎo)并均勻分布橡膠吸附磁板(8)所形成的磁場，由稀土氧化物成分組成的三色熒光粉漿料附著情況將隨吸附磁場分布一致性情況的改善而得到明顯改善，本發(fā)明可以減輕少量動能大的霧化漿料的反向彈射作用，漿料顆粒反彈數(shù)量的減少既利于保護已涂敷形成的熒光粉層不受破壞，又可以減輕對操作間環(huán)境的污染。本發(fā)明具有使得最終形成的熒光粉層致密、平滑，上粉量高，發(fā)光亮度高和發(fā)光一致性好的優(yōu)點。
文檔編號H01J29/07GK101422773SQ200810234808
公開日2009年5月6日 申請日期2008年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月18日
發(fā)明者潔 凌, 朱立鋒, 王保平, 進 花 申請人:南京華顯高科有限公司