專利名稱：等離子體顯示屏板的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種等離子體顯示屏板，更具體而言，所涉及的等離子體顯示屏板優化了放電電極之間的結構和電極位置，從而提高了屏板前面的黑色部分的比率，由此降低了從屏板的前面觀察的反射亮度。
背景技術：
近來，等離子體顯示屏板作為常規陰極射線管顯示裝置的替代品引起了人們的注意。等離子體顯示屏板是一種平板顯示屏板，其利用可見光顯示預期圖像，所述可見光是通過以紫外線激勵按照預定圖案形成的磷光體材料的方法發射的，所述紫外線由填充于其上形成了多個電極的兩個基板之間的放電氣體的放電生成。
圖1是常規交流(AC)型等離子體顯示屏板10的結構的垂直截面圖。
常規AC型等離子體顯示屏板10包括在其上顯示圖像的上板50和與上板50平行耦合的下板60。在上板50的前基板11上形成多個放電維持電極對12，每一放電維持電極對12包括Y電極31和X電極32。
在面對前基板11的下板60的后基板21上具有多個與Y電極31和X電極32交叉的尋址電極22。每一Y電極31和X電極32包括透明電極31a和32a以及匯流電極31b和32b。由一對Y電極31和X電極32與和所述Y電極31和X電極32交叉的尋址電極22形成的空間為構成了一個放電單位的單位放電單元。
在前基板11和后基板21的表面上分別形成前介電層15和后介電層25。在前介電層15上形成通常由MgO形成的保護層16，在后介電層25的前表面上形成阻擋肋30，其維持放電距離并防止放電單元之間發生電學和光學串擾。在阻擋肋30的兩個側壁上以及在未形成阻擋肋30的后介電層25的前表面上涂覆熒光層26。
在上述AC型等離子體顯示屏板10內，由于光進入前屏板，因此光在前屏板處可能受到反射。因此，在從前屏板處觀察的反射亮度的影響下，AC型等離子體顯示屏板10具有低亮室對比度。
發明內容
本發明提供了一種等離子體顯示屏板，其優化了放電電極之間的結構和電極位置，從而提高了屏板前面的黑色部分的比率，由此降低了從屏板的前面觀察的反射亮度，進而提高了亮室對比度。
根據本發明的一方面，提供了一種等離子體顯示屏板，包括后基板；面對所述后基板的前基板；阻擋肋，其設置于所述前基板和所述后基板之間，并界定了多個放電單元；設置于面對所述后基板的前基板的表面上的維持電極對，其沿一方向延伸并相互隔開；設置于面對所述前基板的所述后基板的表面上的尋址電極，其與所述維持電極對交叉；覆蓋所述維持電極對的前介電層，其具有沿平行于所述維持電極對的設置方向的方向形成的溝槽，使所述溝槽具有處于自所述后基板到所述前基板的方向的斜面，并且使所述維持電極對的末端位于所述前基板的下表面上處于所述斜面的投影范圍內的位置上。覆蓋所述尋址電極的后介電層；涂覆于所述放電單元內的磷光體層；以及填充于所述放電單元內的放電氣體。
所述溝槽可以分別形成于所述維持電極對之間。
可以將所述溝槽形成為暴露所述前基板。
所述溝槽可以跨越所述放電單元延伸。
所述溝槽可以對應于所述放電單元以不連續的方式形成。
所述等離子體顯示屏板還可以包括覆蓋所述前介電層和所述溝槽的保護層。
根據本發明的另一方面，提供了一種等離子體顯示屏板，包括相互面對的前基板和后基板；設置于面對所述后基板的前基板的表面上的維持電極對，其沿一方向延伸并相互隔開；以及覆蓋所述維持電極對的前介電層，其具有沿平行于所述維持電極對的設置方向的方向形成的溝槽，使所述溝槽具有處于自所述后基板到所述前基板的方向的斜面，并且使所述維持電極對的末端位于所述斜面投影到所述前基板上的位置處。
所述等離子體顯示屏板通過提高屏板前面的黑色部分的比率降低了從屏板前面觀察的反射亮度，由此提高了亮室對比度。
通過參考附圖詳細描述本發明的示范性實施例，本發明的上述和其他特征和優點將變得顯而易見，附圖中圖1是常規交流(AC)型等離子體顯示屏板的結構的垂直截面圖；圖2是根據本發明實施例的等離子體顯示屏板的分解透視圖；圖3是根據本發明實施例的沿圖2的III-III線得到的截面圖；圖4是根據本發明實施例的圖3中的部分A的放大截面圖；圖5是根據本發明實施例的具有不連續溝槽的上板的改良形式的局部透視圖；圖6是沿圖5的VI-VI線得到的截面圖；以及圖7是根據本發明實施例的圖6中的部分B的放大截面圖。
具體實施例方式
現在將參考附圖更為充分地描述本發明，附圖中展示了本發明的示范性實施例。
圖2是根據本發明實施例的等離子體顯示屏板100的分解透視圖。圖3是沿圖2的III-III線得到的截面圖，圖4是圖3中的部分A的放大截面圖。
參考圖2到圖4，等離子體顯示屏板100包括上板150和與上板150平行耦合的下板160。上板150包括前基板111、前介電層115、維持電極對112和保護層116，下板160包括后基板121、尋址電極122、后介電層125、阻擋肋130和磷光體層(phosphor layer)126。
前基板111和后基板121間隔預定距離，在其間界定放電空間。前基板111和后基板121可以由諸如玻璃的具有高可見光透射率的材料形成。但是，前基板111和/或后基板121可以是有色的，從而提高亮室對比度。
在前基板111和后基板121之間設置阻擋肋130。可以根據制造工藝將阻擋肋130設置在后介電層125上。阻擋肋130將放電空間界定為多個放電單元180，防止放電單元180之間發生光學和電學串擾。在圖2中，阻擋肋130界定了按矩陣排列的具有矩形水平截面的放電單元180，但是本發明不限于此。也就是說，阻擋肋可以將放電單元180界定為具有多邊形形狀，例如具有三角形、五邊形、圓形或橢圓形水平截面，或者將其界定為諸如條狀的開放形式。而且，阻擋肋130還可以將放電單元180界定為具有華夫餅干(waffle)形狀或delta形狀。
將維持電極對112設置于面對后基板121的前基板111上。每一維持電極對112是指形成于前基板111的后表面上的用于維持放電的X電極131和Y電極132，將維持電極對112以相互平行并間隔預定距離的方式布置到前基板111上。X電極131起著公共電極的作用，Y電極132起著掃描電極的作用。在本發明的當前實施例中，維持電極對112形成于前基板111上，但是維持電極對112的位置不限于此。例如，可以將維持電極對112設置為自前基板111朝向后基板121的預定距離處。
X電極131和Y電極132分別包括透明電極131a和132a以及匯流電極131b和132b。透明電極131a和132a由諸如氧化銦錫(ITO)的透明導電材料形成，其不會阻擋由磷光體材料發出的光朝向前基板11傳輸。但是，諸如ITO的透明材料通常具有高電阻。因此，如果僅采用透明電極131a和132a形成維持電極112，將沿長度方向產生大電壓降。因此，驅動功耗高，響應速度低。為了解決這些問題，在透明電極131a和132a上設置由金屬窄條形成的匯流電極131b和132b。匯流電極131b和132b可以由具有單層結構的諸如Ag、Al或Cu的金屬形成，或者可以由具有多層結構的Cr/Al/Cr形成。采用光蝕刻(photo etching)法或光刻(photolithography)法形成透明電極131a和132a以及匯流電極131b和132b。
X電極131和Y電極132的形狀和位置如下。匯流電極131b和132b以相互平行并間隔預定距離的方式設置于單位放電單元180內，并跨越放電單元180延伸。如上所述，透明電極131a和132a分別電連接到匯流電極131b和132b，矩形形狀的透明電極131a和132a在每一放電單元180內不連續設置。透明電極131a和132a的第一末端連接至匯流電極131b和132b，將透明電極131a和132a的第二末端設置為面對每一放電單元180的中央部分。
在前基板111上形成覆蓋維持電極對112的前介電層115。前介電層115防止相鄰X電極131和Y電極132之間發生電連接，并且防止X電極131和Y電極132受到由帶電粒子或電子的直接撞擊而引起的損壞。而且，前介電層115可以起著感應電荷的作用。前介電層115可以由PbO、B2O3、SiO2等形成。
可以在被設置為覆蓋維持電極對112的前介電層115內形成溝槽190。也就是說，可以沿平行于維持電極對112的設置方向的方向形成溝槽190，使得溝槽190在自后基板121到前基板111的方向具有斜面191。維持電極對112的末端192位于處于斜面191的投影范圍內的前基板111的下表面上。
如圖3所示，當按照隆脊結構形成前介電層115時，當光由放電單元180射出時，由于光受到斜面191的散射，因此由斜面191形成的傾斜部分呈現黑色。因此，利用這一特點，可以通過控制傾斜部分的寬度使所述黑色部分擴展或縮小，并且可以通過擴展所述黑色部分降低反射亮度。
這時，為了使黑色部分的比率最大化，如圖3所示，可以通過斜面191的延伸使維持電極對112的靠近溝槽190的一側的末端位于傾斜部分內。而且，在這種情況下，由于能夠充分確保維持電極對112的末端部分到斜面191的距離193，因而能夠避免耐受電壓問題和電極暴露問題。
而且，溝槽190形成于位于X電極131和Y電極132的電極對之間的前介電層115內。將溝槽190形成至前介電層115的預定深度，考慮等離子體放電對前介電層115造成損壞的可能性、阻擋肋130的布局、放電電壓等確定溝槽190的深度。例如，在圖2到圖4所示的實施例中，可以將溝槽190形成為暴露前基板111。在圖5所示的本發明的另一實施例中，可以在形成了溝槽290的前基板211的部分上形成前介電層215。
參考圖2和圖3，對應于每一放電單元180形成一個溝槽190，但是，本發明不限于此。也就是說，可以對應每一放電單元180形成多個溝槽190。而且，每一放電單元180未必一定具有相同數量的溝槽190。例如，發射紅光的放電單元、發射綠光的放電單元和發射藍光的放電單元可以具有不同數量的溝槽190。
由于通過溝槽190降低了前介電層115的厚度，因而提高了正面的光透射率。根據本實施例的溝槽190基本具有矩形水平截面，但是根據本發明的溝槽190的形狀不限于此，其可以具有各種不同的形狀。而且，溝槽190形成于維持電極對112之間，從而容易地產生放電，并由此提高亮度。
參考圖2，溝槽190在X電極131和Y電極132之間跨越放電單元180延伸。在這種情況下，溝槽190可以在排氣過程中起到填充于放電空間內的雜質氣體的排出通道的作用，在密封過程中起到放電氣體的流入通道的作用。
但是，在圖5所示的等離子體顯示屏板的上板內，可以在前介電層215內對應于每一放電單元280不連續地形成溝槽290。
可以形成覆蓋前介電層115和溝槽190的保護層116。根據本發明實施例，如果將溝槽190形成為暴露前基板111，那么可以不在前基板111上形成保護層116。
也就是說，等離子體顯示屏板100還可以包括覆蓋前介電層115的保護層116。保護層116防止前介電層115在放電過程中受到由帶電粒子和電子的撞擊而導致的損壞。
而且，保護層116能夠在放電過程中發射大量的二次電子，因而能夠促進等離子體放電。具有上述功能的保護層116由具有高二次電子發射系數和高可見光透射率的材料形成。在形成前介電層115之后，主要通過濺射或電子束淀積形成作為薄膜的保護層116。
將尋址電極122設置在面對前基板111的后基板121上。尋址電極122跨越放電單元180延伸，從而與X電極131和Y電極132交叉。
尋址電極122的作用在于產生尋址放電，尋址放電能夠促進在X電極131和Y電極132之間產生維持放電。更具體地說，尋址電極122降低了用于產生維持放電的電壓。在Y電極132和尋址電極122之間產生尋址放電。在完成尋址放電之后，在X電極131和Y電極132上累積了壁電荷，由此促進了在X電極131和Y電極132之間產生維持放電。
由X電極131和Y電極132的電極對與尋址電極122形成的空間形成了單位放電單元180，尋址電極122與X電極131和Y電極132交叉。
在后基板121上形成覆蓋尋址電極122的后介電層125。形成后介電層125的電介質能夠防止尋址電極122在放電過程中受到帶電粒子和電子的損害，并且能夠感應電荷，例如，所述材料可以是PbO、B2O3、SiO2等。
在位于后介電層125上的阻擋肋130的兩個側壁上以及在未形成阻擋肋130的后介電層125的前表面上形成包括紅色、綠色和藍色磷光體層的磷光體層126。磷光體層126包括通過接收紫外線而發射可見光的成分。形成于發射紅光的放電單元內的紅色磷光體層包括諸如Y(V，P)O4:Eu的磷光體材料，形成于發射綠光的放電單元內的綠色磷光體層包括諸如Zn2SiO4:Mn、YBO3:Tb等的磷光體材料，形成于發射藍光的放電單元內的藍色磷光體層包括諸如BAM:Eu的磷光體材料。
在放電單元180內填充混合了Ne氣和Xe氣的放電氣體。在放電單元180內填充了放電氣體之后，采用諸如形成于前基板111和后基板121的邊緣上的熔接玻璃(frit glass)的密封件使前基板111和后基板121相互耦合。
由于在維持放電過程中受到激勵的放電氣體的能級的降低，從放電氣體中發射出紫外線。所述紫外線激勵涂覆在放電單元180上的磷光體層126，隨著磷光體層126的能級的降低，從磷光體層126中發射出可見光。所述可見光通過前介電層115和前基板111透射，并形成圖像。
圖5是根據本發明實施例的具有不連續溝槽的上板的改良形式的局部透視圖。圖6是沿圖5的VI-VI線得到的截面圖，圖7是圖6中的部分B的放大截面圖。
參考圖5到圖7，除了將在下文中描述的部分以外，根據本發明實施例的等離子體顯示屏板與圖2到圖4所示的等離子體顯示屏板相同，在本實施例中和前面的實施例中均采用相同的附圖標記表示相同的組件，因此將不再重復對它們的詳細說明。
在圖5中，示出了根據本實施例的等離子體顯示屏板的上板250。下板可以與圖2中的下板160相同。
所述等離子體顯示屏板包括后基板121；面對后基板121的前基板211；設置于前基板211和后基板121之間并界定了多個放電單元280的阻擋肋130；設置于面對后基板121的前基板211的表面上的沿某一方向延伸并相互隔開的維持電極對212；設置于面對前基板211的后基板121的表面上并與維持電極對212交叉的尋址電極122；覆蓋維持電極對212的前介電層215，其具有平行于維持電極對212的溝槽290，可以使溝槽290具有處于自后基板121到前基板211的方向的斜面291，并且可以使維持電極對212的末端位于前基板211上處于斜面291的投影范圍內的位置上；覆蓋尋址電極122的后介電層125；涂覆在放電單元280內的磷光體層126；以及填充于放電單元280內的放電氣體。
根據本發明實施例，前介電層215內的溝槽290可以對應于每一單位放電單元280不連續形成。可以在前介電層215上形成保護層216。
在具有上述結構的等離子體顯示屏板200內，每一維持電極對212是指一對電極231和232。在維持電極對212中，一個電極是起著公共電極作用的X電極231，維持電極對212的另一個電極是起著掃描電極作用的Y電極232。
每一X電極231和Y電極232包括透明電極231a和232a，以及匯流電極231b和232b。
在根據本發明的等離子體顯示屏板中，可以形成隆脊型介電層和延伸的斜面，使位于放電間隙側的電極末端部分位于隆脊傾斜部分內，由此提高屏板前面的黑色部分的比率。
因此，可以通過降低從屏板的前面觀察的反射亮度提高亮室對比度。
盡管已經參考其示范性實施例特別展示和描述了本發明，但是本領域的普通技術人員將要理解，可以在其中做出多種形式和細節上的變化而不脫離由權利要求所限定的本發明的精神和范圍。
本申請要求于2005年12月30日在韓國知識產權局提交的韓國專利申請No.10-2005-0135859的權益，其公開全文引入于此以做參考。
權利要求
1.一種等離子體顯示屏板，包括后基板；面對所述后基板的前基板；阻擋肋，其設置于所述前基板和所述后基板之間，并界定了多個放電單元；設置于面對所述后基板的所述前基板的表面上的維持電極對，其沿一方向延伸并相互隔開；設置于面對所述前基板的所述后基板的表面上的尋址電極，其與所述維持電極對交叉；覆蓋所述維持電極對的前介電層，其具有沿平行于所述維持電極對的設置方向的方向形成的溝槽，使所述溝槽具有處于自所述后基板到所述前基板的方向的斜面，并且使所述維持電極對的末端位于所述前基板的下表面上處于所述斜面的投影范圍內的位置上；覆蓋所述尋址電極的后介電層；涂覆于所述放電單元內的磷光體層；以及填充于所述放電單元內的放電氣體。
2.根據權利要求1所述的等離子體顯示屏板，其中，所述溝槽分別形成于所述維持電極對之間。
3.根據權利要求1所述的等離子體顯示屏板，其中，將所述溝槽形成為暴露所述前基板。
4.根據權利要求1所述的等離子體顯示屏板，其中，所述溝槽跨越所述放電單元延伸。
5.根據權利要求1所述的等離子體顯示屏板，其中，所述溝槽對應于所述放電單元以不連續的方式形成。
6.根據權利要求1所述的等離子體顯示屏板，還包括覆蓋所述前介電層和所述溝槽的保護層。
7.一種等離子體顯示屏板，包括相互面對的前基板和后基板；設置于面對所述后基板的所述前基板的表面上的維持電極對，其沿一方向延伸并相互隔開；以及覆蓋所述維持電極對的介電層，其具有沿平行于所述維持電極對的設置方向的方向形成的溝槽，使所述溝槽具有處于自所述后基板到所述前基板的方向的斜面，并且使所述維持電極對的末端位于所述前基板的下表面上處于所述斜面的投影范圍內的位置上。
8.根據權利要求7所述的等離子體顯示屏板，其中，所述溝槽分別形成于所述維持電極對之間。
9.根據權利要求7所述的等離子體顯示屏板，其中，將所述溝槽形成為暴露所述前基板。
10.根據權利要求7所述的等離子體顯示屏板，其中，所述溝槽跨越所述放電單元延伸。
11.根據權利要求7所述的等離子體顯示屏板，其中，所述溝槽對應于所述放電單元以不連續的方式形成。
12.根據權利要求7所述的等離子體顯示屏板，還包括覆蓋所述前介電層和所述溝槽的保護層。
全文摘要
提供了一種等離子體顯示屏板，包括后基板；相對的前基板；阻擋肋，設置兩基板之間并界定多個放電單元；設置于面對后基板的前基板表面上的維持電極對；設置于面對前基板的后基板表面上的尋址電極，其與維持電極對交叉；覆蓋維持電極對的前介電層，其具有沿平行于維持電極對的淀積方向的方向形成的溝槽，使溝槽具有處于自后基板到前基板的方向的斜面，并且使維持電極對的末端位于前基板的下表面上處于斜面的投影范圍內的位置上；覆蓋尋址電極的后介電層；涂覆于放電單元內的磷光體層；以及填充于放電單元內的放電氣體。等離子體顯示屏板通過提高屏板前面的黑色部分的比率降低了從屏板前面觀察的反射亮度，由此能夠提高亮室對比度。
文檔編號H01J11/34GK1992132SQ20061017234
公開日2007年7月4日 申請日期2006年12月30日 優先權日2005年12月30日
發明者金鉉, 姜景斗, 金世宗, 金允熙, 蘇賢, 韓鎮元 申請人:三星Sdi株式會社