包括阻隔肋的等離子體顯示板及制造阻隔肋的方法

專利名稱：包括阻隔肋的等離子體顯示板及制造阻隔肋的方法
技術領域：
本申請以2002年6月28日提交的韓國專利申請No.2002-0036932為基礎，該申請的全部內容為本發明的參考。
本發明涉及一種制造阻隔肋(barrier ribs)的方法及一種等離子體顯示板，更具體地說，涉及一種等離子體顯示板，其中基本上所有的紅、綠和藍象素基本上被多個阻隔肋的至少一部分包圍。
背景技術：
等離子體顯示板(PDP)通常是一種由氣體放電產生的紫外線激發磷而獲得預定圖像的顯示器。由于PDP具有高清晰度，PDP很可能成為下一代平板顯示結構的主流之一。
在公知的PDP中，如圖13中示出的PDP，在后基板1上沿Y軸方向形成尋址電極3，和在后基板1的表面上形成介電層5以覆蓋尋址電極3。同樣，在介電層5上且在相應于尋址電極3之間位置的位置處以線形圖形形成阻隔肋7。在阻隔肋7之間形成紅、綠和藍色含磷層9。
通過一對透明電極13和一對總線電極(bus electrodes)15獲得的放電維持電極17形成在與后基板1相對的前基板11上。即，構成每一放電維持電極17的透明電極對13和總線電極對15在前基板11上沿X軸方向形成。透明介電層19和MgO保護層21形成在前基板11的表面上，用以覆蓋放電維持電極17。屏幕的象素形成在尋址電極3和放電維持電極17的交叉處。
以這種方式構造的PDP按下述操作。隨著在尋址電極3和一個相應于特定象素的放電維持電極17之間施加地址電壓Va來進行定址放電，維持電壓Vs施加在相應于該象素的兩個放電維持電極17之間。結果，在維持放電期間產生的紫外光激發相應象素的含磷層9而發出可見光。
然而，在包括呈線形圖形的阻隔肋7的PDP結構中，由于象素的放電單元在阻隔肋7設置的方向上(即沿著圖13中所示的PDP的Y軸方向)互連，很可能在象素之間發生錯放電(mis-discharge)。一種防止錯放電的方法是增加相鄰象素的放電維持電極17之間的距離，使之至少到預定的長度。然而這種結構的缺點是PDP的孔徑比(aperture ratio)低。
另一種防止相鄰象素之間錯放電的方法是設置多個垂直的阻隔肋作為完全包圍所有R、G和B象素的垂直壁，以便形成完全分離的放電單元。即，通過將一些垂直阻隔肋沿平行于尋址電極的方向設置、而將一些垂直阻隔肋沿平行于放電維持電極的方向設置在象素之間形成阻隔肋。這將導致每一象素在垂直方向上通過沿上述兩個方向放置的阻隔肋的組合而被完全包圍。日本特許公開專利1998-149771號公開了這種結構。
另一種公知的PDP結構是，除了R、G和B象素被垂直阻隔肋包圍外，還將R、G和B象素組設置成三角形結構，亦被稱作Δ結構。美國專利5,182,489號公開了這種PDP。
然而，在設計用于分離象素放電單元的阻隔肋時沒有過多考慮對圖像對比度的影響。且在常規結構中，由于所有R、G和B象素被垂直阻隔肋完全包圍，在制造期間，不能以有效的方式排氣，這將降低板的總質量。

發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種等離子體顯示板，該板用阻隔肋來改善屏幕對比度；提供對于紅、綠和藍象素的優良排氣效率；便于制造且成本低。本發明的諸方法另外提供了一種制造阻隔肋的方法。
在本發明的一種示例性實施方式中，等離子體顯示板包括基本上平行且之間具有預定間隙的一第一基板和一第二基板；形成在與第二基板相對的第一基板表面上的多個尋址電極，上述尋址電極以線形圖形設置且彼此基本上平行；形成在第一基板表面上覆蓋尋址電極的一介電層；以格子圖形形成在上述介電層上的一些阻隔肋，上述阻隔肋限定出多個放電單元；形成在與第一基板相對的第二基板的表面上的多個放電維持電極，以線形圖形在基本垂直于尋址電極的方向中形成放電維持電極；和形成在第二基板表面上的覆蓋放電維持電極的一透明介電層以及一保護層。上述阻隔肋包括沿與尋址電極相同的方向形成的第一阻隔肋構件和沿與放電維持電極相同的方向形成的第二阻隔肋構件，其中第一阻隔肋構件或第二阻隔肋構件或兩者由不透明材料制成。
在本發明的多個實施方式中，不透明材料為例如從由氧化鉻、氧化銅、PbO和Al2O3組成的組中選取的黑色顏料(black pigment)。
在本發明的各種實施方式中，第一阻隔肋構件和第二阻隔肋構件的高度不同，以便象素放電單元可以在較短的阻隔肋構件的上端形成的間隙之間連通。
本發明還提供了制造用于等離子體顯示板的阻隔肋的方法，該方法包括準備第一基板，在該基板上形成尋址電極和介電層；在介電層表面上印制第一絕緣膠且形成具有第一預定高度的下阻隔肋構件；在呈線形圖形的下阻隔肋構件上印制第二絕緣膠且形成離介電層表面有第二預定高度的上阻隔肋構件；在第一基板表面上涂覆干膜抗蝕劑以覆蓋下阻隔肋構件和上阻隔肋構件；定位光掩模，該光掩模具有覆蓋干膜抗蝕劑表面的格子形狀的光通路圖案；然后通過光通路圖案進行曝光以構圖干膜抗蝕劑，以便上述干膜抗蝕劑能覆蓋全部上阻隔肋構件和部分下阻隔肋構件；及在第一基板表面上高速噴沙以便在去除殘留在第一基板上的干膜抗蝕劑之后除去下阻隔肋構件的曝光部分。
在本發明的多個實施方式中，第一或第二絕緣層膠或二者由不透明材料構成。


下面根據本發明的系統和方法的多種示例性實施方式的詳細說明對本發明的這些和其它特征及優點進行描述。
加入并組成說明書一部分的附圖示出了本發明的多種實施方式，它們和說明書一起用來闡述本發明的原理。附圖中圖1是根據本發明第一示例性實施方式的等離子體顯示板的局部分解透視圖；圖2是處于被裝配狀態的圖1的等離子體顯示板沿X軸方向剖切的剖面圖；圖3、4和5是根據本發明的多個示例性實施方式的阻隔肋的不同結構的示意圖；圖6是圖1的等離子體顯示板的后基板的局部放大透視圖；圖7是根據本發明的第二示例性實施方式的等離子體顯示板的局部分解透視圖；圖8、9、10、11和12是制造用于圖1所示的等離子體顯示板的阻隔肋的順序步驟示意圖；和圖13是常規等離子體顯示板的局部分解透視圖。
具體實施例方式
下面將參照附圖詳細描述本發明的示例性實施方式。
圖1是根據本發明第一示例性實施方式的等離子體顯示板(PDP)的局部分解透視圖，圖2是圖1的處于裝配狀態的PDP沿X軸方向的剖面圖。
如圖中所示，阻隔肋2的相應部分以“壁樣”方式呈四邊形包圍多個R、G和B象素，例如，用來限定放電單元。相應于每一象素，在后基板4上設置尋址電極6且在前基板8上設置放電維持電極10。在這種結構中，象素的照度和照度強度可以獨立控制。
更為詳細地說，在后基板4上沿Y軸方向以線形圖形形成多個尋址電極6。在后基板4的表面上形成介電層12以覆蓋尋址電極6。在介電層12上以預定高度形成包括第一阻隔肋構件2A和第二阻隔肋構件2B的阻隔肋2。
在前基板8上沿X軸方向以線形圖形形成放電維持電極10。每一放電維持電極10通過一對透明電極14和一對總線電極16而獲得。在后基板4的尋址電極6和前基板8的放電維持電極10交叉的區域形成象素。此外，在前基板8的表面上形成透明介電層18和MgO保護層20以覆蓋放電維持電極10。
在尋址電極6之間的部位在后基板4的介電層12上形成基本上平行于尋址電極的第一阻隔肋構件2A。在每個放電維持電極10之間的部位，在后基板4的介電層12上形成基本上平行于放電維持電極的第二阻隔肋構件2B。另外，R、G和B含磷層22設置于由第一和第二阻隔肋構件2A和2B包圍的象素區域中。
隨著在尋址電極6和相應于特定象素的一個放電維持電極10之間施加地址電壓Va來進行定址放電，在相應于該象素的兩個放電維持電極10之間施加維持電壓Vs。結果，在維持放電期間產生的真空紫外光激發相應象素的含磷層22，從而發出可見光。
在本發明的第一示例性實施方式中，第一阻隔肋構件2A或第二阻隔肋構件2B(或二者)是不透明的，即為黑色構件以改善圖像的對比度。同樣，第一阻隔肋構件2A和第二阻隔肋構件2B形成不同的高度，以便象素的放電單元通過較低高度的阻隔肋構件連通。這樣，將提高制造PDP期間的排氣效率。
參考圖3，根據本發明一個示例性實施方式，使阻隔肋2的第一阻隔肋構件2A不透明，以改善沿X軸方向設置的象素之間的對比度。如圖4所示，根據本發明另一示例性實施方式，使上述阻隔肋具有不透明的第二阻隔肋構件2B，以改善沿Y軸方向設置的象素之間的對比度。
此外，參考圖5，在本發明的又一示例性實施方式中，第一阻隔肋構件2A和第二阻隔肋構件2B兩者都不透明，以便改善所有象素之間的對比度。
圖3的第一阻隔肋構件2A、圖4的第二阻隔肋構件2B和圖5的第一及第二阻隔肋構件2A和2B是用黑色顏料和玻璃膠一起涂覆在介電層12上制成的黑色狀，從而形成阻隔肋2，上述黑色顏料通過金屬氧化物如氧化鉻、氧化銅、PbO或Al2O3而獲得。
圖6是后基板4的局部放大透視圖。如上所述，第一阻隔肋構件2A和第二阻隔肋2B形成不同的高度。例如，第一阻隔肋構件2A的高度為H1，第二阻隔肋構件2B具有小于H1高度的H2高度。因此，如果將前后基板8和4裝配在一起，則在第二阻隔肋構件2B上方形成間隙。第二阻隔肋構件2B上方的間隙將沿Y軸方向與相鄰的象素連通，以便可以使這些象素順暢地排氣。
也可以使第一阻隔肋構件2A的高度低于第二阻隔肋構件2B的高度，從而在第一阻隔肋構件2A上方形成間隙。如果H2大于H1，則第一阻隔肋構件2A上方的間隙連通X軸方向上的相鄰象素。
因此，在根據本發明第一示例性實施方式的PDP中，阻隔肋2以“壁樣”方式且呈四邊形包圍每一象素以防止象素之間錯放電，第一和第二格子壁構件2A和2B的至少一種被制成黑色以改善圖像對比度，第一和第二格子壁構件2A和2B形成不同的高度以使PDP排氣通暢。
圖7是根據本發明第二實施方式的等離子體顯示板的局部分解透視圖。結構中與本發明第一實施方式描述中相同的元件使用相同的標號。
阻隔肋2′包括以條紋圖形在后基板4的介電層12上形成的垂直于尋址電極6的方向(即X軸方向)的多個第一阻隔肋構件2A′和多個形成在介電層12上兩個相鄰第一阻隔肋構件2A′之間的間隙內的第二阻隔肋構件2B′。阻隔肋構件2A′、2B′限定沿與尋址電極6相同的方向(即Y軸方向)呈Z字形排列的放電單元。在該實施方式中，在與尋址電極6相同的方向中形成第二阻隔肋構件2B′。
為使放電單元呈Z字形排列，在每隔一尋址電極6上形成第二阻隔肋構件2B′，且在由兩個相鄰的第一阻隔肋構件2A′限定的間隙中形成放電單元的第二阻隔肋構件2B′與在由第一阻隔肋構件2A′限定的相鄰間隙中形成放電單元的第二阻隔肋構件2B′不在一條直線上。因此，如圖7中所示，移動第二阻隔肋構件2B′，以使第二阻隔肋2B′位于由相鄰的兩個第一阻隔肋構件2A′形成的間隙中的不同尋址電極上。因此，每一組R、G和B象素基本上設置為三角形(即Δ)形狀。
例如，為使放電單元呈Z字形排列，可以在每隔一個尋址電極的第一組上形成第一組阻隔肋構件2B′，而在第二組尋址電極上形成第二組阻隔肋構件2B′，該第二組尋址電極至少包括一些在其上沒有設置第一組阻隔肋構件的尋址電極。
在本發明第二示例性實施方式中，第一阻隔肋構件2A′和第二阻隔肋構件2B′之一或兩者皆不透明，以改善圖像對比度。同樣，第一阻隔肋構件2A′的高度大于第二阻隔肋構件2B′的高度，以便前后基板8和4安裝在一起之后在第二阻隔肋構件2B′上方形成間隙。
用這種第二阻隔肋構件2B′結構，沿X軸方向的相鄰放電單元是連通的以使PDP排氣良好。也可以使第一阻隔肋構件2A′的高度小于第二阻隔肋構件2B′的高度，以便在第一阻隔肋構件2A′上方形成間隙。
此外，在將阻隔肋2′設置成每一組R、G和B象素呈三角形形狀的情況中，優選形成在前基板8上的放電維持電極10′通過以線形圖形在相應于第一阻隔肋構件2A′的位置形成的總線電極16′和從總線電極16′兩邊完整延伸的透明電極14′來獲得，以便在裝配基板4和8時它們位于相應于每一象素的區域內。
參考圖8至12，對本發明第一示例性實施方式的阻隔肋2的制造方法進行描述。所描述的制造方法的例子中，第一阻隔肋構件2A不透明(見圖3)，且第一阻隔肋構件2A的高度大于第二阻隔肋構件2B的高度(見圖2)。
首先，參考圖8，準備后基板4，其上形成有介電層12和尋址電極(未示出)，然后在介電層12的表面上印制白色絕緣膠之后，進行燒結以形成具有高度H2的下阻隔肋構件24。
接著，參考圖9，在尋址電極之間和下阻隔肋構件24上以線形圖形印制黑色絕緣膠，隨后進行燒結以便形成上阻隔肋構件26。上阻隔肋構件26離介電層12的上表面具有高度H1。
例如，一般由不含黑色顏料的阻隔肋材料(即玻璃膠)制成白色絕緣膠，而黑色絕緣膠由玻璃膠和黑色顏料的混合物構成，其中氧化鉻、氧化銅、PbO或Al2O3可以用作黑色顏料。
再參考圖10，在介電層12的表面上涂覆干膜抗蝕劑(DFR)28，以覆蓋上阻隔肋構件26和下阻隔肋構件24。參考圖11，在形成在后基板4上的最上端的元件上放置具有格子形光通路圖案30的光掩模32，之后進行曝光。
因此，如圖12所示，在上阻隔肋構件26和下阻隔肋構件24上余留的干膜抗蝕劑28呈光通路圖案30的形式。即，干膜抗蝕劑28直接形成在上阻隔肋構件26的上表面上且呈條紋圖形交叉形成在上阻隔肋構件26上的這些部分上。
隨后，將后基板4安裝在噴沙裝置(未示出)上，使沙子通過噴嘴34高速噴射到后基板4的最上端元件上。通過該工藝除去部分下阻隔肋構件24。此時，干膜抗蝕劑28用作保護所有的上阻隔肋構件26和隨后通過噴射沙子使之成為第二阻隔肋構件的部分下阻隔肋構件24。
最后，除去余留在后基板4上的干膜抗蝕劑28。參考圖6，從這些工藝中得到在介電層12上沿Y軸方向形成具有H1高度的黑色第一阻隔肋構件2A，和在介電層12上沿X軸方向上形成具有H2高度的白色第二阻隔肋構件2B。
因此，根據本發明示例性實施方式的制造阻隔肋2的方法，由于未使用價高的感光材料作為阻隔肋材料而降低了整體成本。同樣，由于僅進行一次干膜抗蝕劑28的印制和曝光工藝，可以通過單獨的噴沙工藝簡單構圖上和下阻隔肋構件24和26，從而使制造簡單。
雖然本文中已詳細描述了本發明的示例性實施方式，不難理解，對本文中所講述的基本發明內容進行改變和/或修改對本領域普通技術人員而言是顯而易見的，如權利要求書所限定的那樣，它們仍然落入本發明的構思和保護范圍之內。
權利要求
1.一種等離子體顯示板，包括一第一基板和一第二基板，它們基本平行且在二者之間具有預定間隙；形成在與第二基板相對的第一基板表面上的多個尋址電極，上述尋址電極呈線形圖形設置且彼此基本上平行；一形成在第一基板表面上以覆蓋尋址電極的介電層；以格子圖形形成在介電層上的阻隔肋，上述阻隔肋限定放電單元；形成在與第一基板相對的第二基板的表面上的多個放電維持電極，上述放電維持電極以線形圖形形成在基本上垂直于尋址電極的方向上；和形成在第二基板表面上覆蓋放電維持電極的透明介電層和保護層，其中，上述阻隔肋包括沿與尋址電極相同的方向形成的第一阻隔肋構件，和沿與放電維持電極相同的方向形成的第二阻隔肋構件，且至少第一阻隔肋構件和第二阻隔肋構件之一由不透明材料制成。
2.如權利要求1所述的等離子體顯示板，其中上述不透明材料是從由氧化鉻、氧化銅、PbO和Al2O3組成的組中選取的黑色顏料。
3.如權利要求1所述的等離子體顯示板，其中上述第一阻隔肋構件和第二阻隔肋構件具有不同的高度。
4.如權利要求3所述的等離子體顯示板，其中上述第一阻隔肋構件的高度大于第二阻隔肋構件的高度，以便至少相鄰的放電單元可以通過第二阻隔肋的一端的間隙連通。
5.如權利要求3所述的等離子體顯示板，其中上述第一阻隔肋構件的高度小于第二阻隔肋構件的高度，以便至少相鄰的放電單元可以通過第一阻隔肋構件的一端的間隙連通。
6.如權利要求3所述的等離子體顯示板，其中上述第一阻隔肋構件設置成基本平行于尋址電極且位于尋址電極之間，第二阻隔肋構件設置成基本平行于放電維持電極且位于放電維持電極之間。
7.如權利要求1所述的等離子體顯示板，其中上述第一阻隔肋構件和第二阻隔肋構件由不透明材料制成。
8.一種等離子體顯示板，包括一第一基板和一第二基板，它們基本平行且在二者之間具有預定間隙；形成在與第二基板相對的第一基板表面上的多個尋址電極，上述尋址電極以線形圖形設置且基本上彼此平行；形成在第一基板表面上以覆蓋尋址電極的介電層；以格子圖形形成在介電層上的阻隔肋，上述阻隔肋限定放電單元；形成在與第一基板相對的第二基板表面上的多個放電維持電極，上述放電維持電極以線形圖形形成在基本上垂直于尋址電極的方向上；和形成在第二基板表面上覆蓋放電維持電極的透明介電層和保護層；其中上述阻隔肋包括以垂直于尋址電極方向的條紋圖形形成的多個第一阻隔肋構件，和形成在兩個相鄰第一阻隔肋構件之間的間隙內的多個第二阻隔肋構件，這些阻隔肋構件將放電單元限定為沿與尋址電極相同的方向呈Z形排列，和至少第一阻隔肋構件和第二阻隔肋構件之一由不透明材料制成。
9.如權利要求8所述的等離子顯示器，其中為使放電單元呈Z字形排列，通過排列在由相鄰的第一對肋構件限定的第一間隙內限定放電單元的第二阻隔肋構件使放電單元呈Z形排列，以便它們與設置在由相鄰的第二對肋構件限定的第二間隙內限定放電單元的第二阻隔肋構件不在一條直線上，其中相鄰的第一對肋構件的一個肋構件也是相鄰第一肋構件的第二對肋構件的一個第一肋構件。
10.如權利要求8所述的等離子顯示器，其中為使放電單元呈Z字形排列，在第一組尋址電極上形成第一組阻隔肋構件且在第二組尋址電極上形成第二組阻隔肋構件，其中第二組尋址電極至少包括一個不是第一組尋址電極部分的尋址電極。
11.如權利要求8所述的等離子體顯示板，其中上述第一阻隔肋構件和第二阻隔肋構件兩者都由不透明材料制成。
12.如權利要求8所述的等離子體顯示板，其中上述第一阻隔肋構件的高度大于第二阻隔肋構件的高度，以便至少相鄰的放電單元可以通過第二阻隔肋構件一端的間隙連通。
13.如權利要求8所述的等離子體顯示板，其中上述第一阻隔肋構件的高度小于第二阻隔肋構件的高度，以便至少相鄰的放電單元可以通過第一阻隔肋構件一端的間隙連通。
14.一種制造用于等離子體顯示板的阻隔肋的方法，包括準備第一基板，該第一基板具有形成于其上的尋址電極和介電層，在該介電層的表面上印制第一絕緣膠并形成具有第一預定高度的下阻隔肋構件；在下阻隔肋構件上以線形圖形印制第二絕緣膠，并形成具有離介電層表面的第二預定高度的上阻隔肋構件；在第一基板表面上涂敷干膜抗蝕劑，以全部覆蓋下阻隔肋構件和上阻隔肋構件；定位光掩模，該光掩模在干膜抗蝕劑的整個表面上具有格子形的光通路圖案，然后通過光通路圖案進行曝光來對干膜抗蝕劑構圖，以便干膜抗蝕劑覆蓋所有上阻隔肋構件和部分下阻隔肋構件；和在第一基板的表面上高速噴沙以便除去下阻隔肋構件的曝光部分，之后，除去余留在第一基板上的干膜抗蝕劑，其中第一絕緣層膠和第二絕緣層膠之一或二者由不透明材料制成。
15.如權利要求14所述的方法，其中上述不透明材料為玻璃膠和從由氧化鉻、氧化銅、PbO和Al2O3組成的組中選取的黑色顏料的混合物。
16.如權利要求14所述的方法，其中上述第一絕緣層膠和第二絕緣層膠兩者都由不透明材料制成。
全文摘要
本發明公開了一種等離子體顯示板和制造用于該等離子體顯示板的阻隔肋的方法。該等離子體顯示板包括之間具有預定間隙的第一和第二基板。在第一基板上形成多個平行的尋址電極。在第一基板上形成介電層以覆蓋尋址電極且在介電層上以格子圖形形成阻隔肋。在第二基板上形成垂直于尋址電極的放電維持電極，且在第二基板上形成透明介電層和保護層以覆蓋放電維持電極。阻隔肋例如為分別在與尋址電極和放電維持電極相同的方向中形成的第一和第二阻隔肋構件。第一阻隔肋構件或第二阻隔肋構件或二者由不透明材料制成。
文檔編號H01J11/36GK1482647SQ0314384
公開日2004年3月17日 申請日期2003年6月28日 優先權日2002年6月28日
發明者文喆熙, 文 熙 申請人:三星Sdi株式會社