專利名稱：陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布及其制作方法
技術領域：
本發明涉及一種用于陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，特別涉及一種抗電磁輻射特性，表面硬度高，抗指紋性，量產性佳的多層涂布及其制作方法。
一般顯示器的陰極射線管多在其玻璃面板表面以化學(旋轉或噴霧)涂布的方法形成一層或復數層涂布層，以滿足消費大眾對顯示器影像品質的需求。而陰極射線管的業者也莫不均朝著以設計更高品質的陰極射線管為目標，因此，陰極射線管的表面光學特性及其表面電磁特性是否滿足國際性的電器使用安全規范要求，成為評鑒品質高低的標準。不過若繼續以前述的化學涂布制作過程實施，則品質將較難達到未來市場更高標準的要求。
另外，在傳統的陰極射線管的玻璃面板表面以化學(旋轉或噴霧)涂布的方法形成一層或復數層涂布層，其玻璃面板表面的功能特性仍有不足之處，之一，幕面電阻系數目前仍難以小于單位面積103歐姆，因此難具備抗電磁輻射的特性；之二，玻璃面板表面光穿透率，仍為控制要件；之三，反射率頻寬較窄。
并且，在傳統的陰極射線管的玻璃面板表面也可以貼膜方式(貼PETFilm，如TOYO公司提出)，目前雖在光學特性，及低電阻性方面可滿足要求，但是，該貼膜硬度差，鉛筆硬度量度僅3～4H，易磨損，仍無法符合市場需求。
同時，在陰極射線管的玻璃面板表面若全賴以濺鍍法產生涂布層，雖在現階段能滿足大部分產品規格需求，不過其仍有抗臟污性及抗指紋性不佳的問題，此外制作過程較長，成本過高，無法滿足生產過程產量方面的要求，這些均仍為待克服的問題。
有鑒于前述傳統顯示器的陰極射線管的玻璃面板表面單層或多層涂布層是以化學涂布方式產生，玻璃面板表面導電性難以滿足抗電磁輻射特性，反射率頻寬較窄，光穿透率控制不易掌握等諸多問題，同時目前若僅以濺鍍法在表面涂布的實施又無抗指紋性，另外，整個制作過程時間長，無法滿足產量上的要求等不足之處，本發明的目的在于提供一種陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布及其制作方法，其借由該種涂布于陰極射線管的玻璃面板表面先以濺鍍制作技術產生濺鍍層，在該濺鍍層表面在進行噴霧涂布以產生抗眩光層，以達到抗電磁輻射及抗眩光的效果。
本發明的上述目的是這樣實現的一種陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，此陰極射線管具有一玻璃面板，此多層涂布包含在該玻璃面板的外表面以濺鍍涂布方式涂布的復數層抗電磁輻射層；一抗眩光層，是以噴霧涂布方式均勻涂布于該濺鍍層的外表面。
上述復數層抗電磁輻射層包含一附著層，該附著層是涂布于該陰極射線管的玻璃面板外側表面上；一光吸收層，該光吸收層是涂布于該附著層的外側表面上；一導電層，該導電層是涂布于該光吸收層的外側表面上；以及一保護層，該保護層是涂布于該導電層的外側表面上。
該附著層的結構成分以含有二氧化硅為佳，該附著層的厚度可以控制在10～20nm(10-9m)之間。
該光吸收層的成分以含有鉻或其金屬氧化物為佳，該光吸收層的厚度可以控制在10～20nm(10-9m)之間。
該導電層的材料以含有錫銦氧化物(ITO)成分為佳，該導電層的厚度可以控制在20～40nm(10-9m)之間。
該保護層的結構成分以含有二氧化硅為佳，該保護層的厚度可以控制在20～30nm(10-9m)之間。
上述導電層最好通過一導體連接至接地端。
本發明所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，其中該抗眩光層的涂布材料為一種水解聚合物，可以包括一個硅氧化合物，重量百分比為5～15％；一酸類，重量百分比為0.05～0.1％；一醇類，重量百分比為5～50％；一2-丁酮，重量百分比為3～8％；一表面活性劑，重量百分比為0.1～0.5％。
該水解聚合物的重量平均分子量最好為1500～4000/mole，該硅氧化合物可以為Si(OEt)4其中Et最好為乙基，該酸類可以為硫酸、硝酸或鹽酸，該醇類可以為異丙醇、甲醇或乙醇，而該表面活性劑可以為聚烯烴氧化改性的聚二甲基硅氧烷(POP；Polyalklene Oxide-modifiedPolydimethylsiloxanes)。
上述抗眩光層厚度可以控制在0.001～0.01mg/cm2之間。
本發明的另一目的是這樣實現的一種陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布制作方法，包含下列步驟制備一玻璃面板；在此玻璃面板上濺鍍一附著層；在此附著層上濺鍍一吸收層；在此吸收層上濺鍍一導電層；在此導電層上濺鍍一保護層；以噴霧制作方式在保護層上涂布抗眩光材料。
本發明具有如下特點1、利用濺鍍涂布產生的濺鍍層，結構致密，可提高導電度，另外該表面結構平整性較佳，利于進行抗眩光層的噴霧涂布的實施。
2、以濺鍍涂布及噴霧涂布的結合方法制作的玻璃面板表面特性，硬度高、抗磨損且產生良好的抗指紋效果，另外，玻璃面板表面導電度較高，低電阻(單位面積小于102歐姆)可具優良的抗電磁輻射性，滿足目前市場上要求降低交流電場(AEF)的電器使用者安全規范的條件，同時借助濺鍍層與該抗眩光層鄰接的保護層的搭配，使該整個涂布層，除具抗眩光特性外，還具較寬頻寬(wide-band)的抗反射特性。
3、可以調整玻璃面板的光穿透率。
4、以此結合方法制作可以降低對制作環境的要求，另外其制作過程簡化，產品優良率較高，等有利于制作過程的優點。
下面結合實施例所示附圖，對本發明作進一步詳細說明。
圖1為根據本發明的較佳具體實施例陰極射線管的縱剖面示意圖；圖2為根據本發明的陰極射線管的玻璃面板上具濺鍍層及抗眩光層的涂布層的局部剖面示意圖；圖3為根據本發明的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布的流程圖；圖4為根據本發明的抗反射率分析圖。
參照圖1，其為本發明的一個較佳具體實施例，依據本發明所形成的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布可應用在一陰極射線管21上，此陰極射線管21主要包括一密封玻璃管體22，該管體22連接有一玻璃面板23，一管頸部24及一中間漏斗部25，該玻璃面板23的內側表面涂布有熒光層26，該熒光層26包括復數個各別可發散熒光的熒光像點，當彩色電子束聚焦于該玻璃面板23內側表面上的熒光像點，這些像點將發出有色光，在該玻璃面板23上顯示視訊影像，該陰極射線管21的密封玻璃管22的管頸部24中，則設有復數個呈線性排列的電子槍27，以產生復數個聚焦于該玻璃面板23的熒光層26上的電子束28，這些電子束28經磁偏向軛29后，將沿水平及垂直方向偏折，并聚焦于該熒光層26上，由于上述諸單元為公知技術，因此在此不在贅述。
參照圖2，本發明的特征為該陰極射線管21的玻璃面板23的外側表面設有一濺鍍層及抗眩光層的涂布層31，該涂布層31主要包括濺鍍層32，及抗眩光層33等，其中濺鍍層包含附著層34，光吸收層35，導電層36，和保護層37，該復數層均以濺鍍制作產生，其中，附著層34主要成分為二氧化硅等，增加后續濺鍍材料的附著力，避免脫膜，該層厚度約10～20nm(10-9m)，另外，該光吸收層35，主要成分為鉻或鋅或其金屬氧化物，用以控制光的穿透率，該層厚度約10～20nm(10-9m)，并且，該導電層36主要成分為含錫銦氧化物(ITO)等導電性材料，由于其通過濺鍍方式形成，使產生的導電層36較緊密與平整，而電阻值可達每單位面積100歐姆，該層厚度約20～40nm(10-9m)，并使該導電層36與一外保護鋼帶相接，因此該導電層形成接地的狀態，可使陰極射線管21的玻璃表面23具有效的抗電磁輻射功能，并且，該保護層37主要成分為二氧化硅等，可以保護內層的導電層36，避免之后在抗眩光噴霧制作過程時，酸性的抗眩光原料與導電層36材料反應，造成電阻增加，該層厚度約20～30nm(10-9m)。該濺鍍層32總厚度約可控制在80～110nm(10-9m)。
在本發明中，當濺鍍制作過程實施濺鍍層32形成后，將玻璃面板23預熱至30～100℃，將抗眩光材料以噴霧制作方式涂布于保護層37上，然后，該玻璃面板23及其上所涂布的材料在以150～180℃的溫度烘烤約20～40分鐘，最后再將該玻璃面板冷卻至室溫，即在保護層37上形成一抗眩光層33。該抗眩光層33單位面積膜厚為0.001～0.01mg/cm2。
該抗眩光材料的聚合重量平均分子量在1500～4000g/mole，是以水為溶液的水解聚合物，成分包含5～15％的硅氧化合物(化學式可為Si(OEt)4；Et為乙基)、0.05～0.1％的硝酸、30～40％的乙醇、5～10％的異丙醇、5～10％的甲醇、3～8％的2-丁酮、另添加0.1～0.5％表面活性劑——聚烯烴氧化改性的聚二甲基硅氧烷(POP；Polyalklene Oxide-modified Polydimethylsiloxanes)。
本發明的濺鍍及抗眩光涂布經應用至陰極射線管21的玻璃面板23外表面上后，該玻璃面板23的幕面電阻經測試，單位面積為80～100歐姆，鉛筆硬度測試大于9H，表面值(gloss value)約為40～70％，具抗指紋特性。
圖3為根據本發明的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布的流程圖。參照此圖，依據本發明的制作過程包含下列步驟。
步驟100制備一玻璃面板；步驟200在此玻璃面板上濺鍍一附著層；步驟202在此附著層上濺鍍一吸收層；步驟204在此吸收層上濺鍍一導電層；步驟206在此導電層上濺鍍一保護層；步驟300以噴霧制作方式在保護層上涂布抗眩光材料。
其中在步驟300之前可以預熱此玻璃面板至30～100℃，再將抗眩光材料以噴霧制作方式涂布于保護層。
而在抗反射特性上，參照圖4所示，其為根據本發明所制作的玻璃面板23抗反射涂布所制作的玻璃面板的反射率數值分析圖，其中根據本發明的涂布所制作出的產品，在頻譜400～700nm(10-9m)范圍能有效降低反射光，具有寬頻的抗反射效果。
以上所述，僅為本發明的較佳實施例，但是，本發明所主張的權利要求保護范圍，并不局限于此，凡熟悉本技術的普通專業人員，依據本發明所公開的技術內容，可輕易思及的等效變化，均應屬不脫離本發明的保護范疇。
權利要求
1.一種陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，此陰極射線管具有一玻璃面板，此多層涂布包含在該玻璃面板的外表面以濺鍍涂布方式涂布的復數層抗電磁輻射層；一抗眩光層，是以噴霧涂布方式均勻涂布于該濺鍍層的外表面。
2.如權利要求1所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，其中該復數層抗電磁輻射層包含一附著層，該附著層是涂布于該陰極射線管的玻璃面板外側表面上；一光吸收層，該光吸收層是涂布于該附著層的外側表面上；一導電層，該導電層是涂布于該光吸收層的外側表面上；一保護層，該保護層是涂布于該導電層的外側表面上。
3.如權利要求2所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，其中該附著層的結構成分中含有二氧化硅，該附著層的厚度為10～20nm(10-9m)。
4.如權利要求2所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，其中該光吸收層的成分中含有鉻或其金屬氧化物，該光吸收層的厚度為10～20nm(10-9m)。
5.如權利要求2所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，其中該導電層的材料中含有錫銦氧化物(ITO)成分，該導電層的厚度為20～40nm(10-9m)。
6.如權利要求2所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，其中該保護層的結構成分中含有二氧化硅，該保護層的厚度為20～30nm(10-9m)。
7.如權利要求2所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，其中該導電層通過一導體連接至接地端。
8.如權利要求1所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，其中該抗眩光層的涂布材料為一種水解聚合物，包括一個硅氧化合物，重量百分比為5～15％；一酸類，重量百分比為0.05～0.1％；一醇類，重量百分比為5～50％；一2-丁酮，重量百分比為3～8％；一表面活性劑，重量百分比為0.1～0.5％。
9.如權利要求8所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，其中該水解聚合物的重量平均分子量為1500～4000/mole，該硅氧化合物為Si(OEt)4其中Et為乙基，該酸類為硫酸、硝酸或鹽酸，該醇類為異丙醇、甲醇或乙醇，而該表面活性劑為聚烯烴氧化改性的聚二甲基硅氧烷。
10.如權利要求1所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，其中該抗眩光層厚度為0.001～0.01mg/cm2。
11.一種陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布制作方法，包含下列步驟制備一玻璃面板；在此玻璃面板上濺鍍一附著層；在此附著層上濺鍍一吸收層；在此吸收層上濺鍍一導電層；在此導電層上濺鍍一保護層；以噴霧制作方式在保護層上涂布抗眩光材料。
12.如權利要求11所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布制作方法，其中該附著層的結構成分中含有二氧化硅，該附著層的厚度為10～20nm(10-9m)。
13.如權利要求11所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布制作方法，其中該光吸收層的成分中含有鉻或其金屬氧化物，該光吸收層的厚度為10～20nm(10-9m)。
14.如權利要求11所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布制作方法，其中該導電層的材料中含有錫銦氧化物(ITO)成分，該導電層的厚度為20～40nm(10-9m)。
15.如權利要求11所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布制作方法，其中該保護層的結構成分中含有二氧化硅，該保護層的厚度為20～30nm(10-9m)。
16.如權利要求11所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布制作方法，其中該導電層通過一導體連接至接地端。
17.如權利要求11所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布制作方法，其中該抗眩光層的涂布材料為一種水解聚合物，包括一個硅氧化合物，重量百分比為5～15％；一酸類，重量百分比為0.05～0.1％；一醇類，重量百分比為5～50％；一2-丁酮，重量百分比為3～8％；一表面活性劑，重量百分比為0.1～0.5％。
18.如權利要求17所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布制作方法，其中該水解聚合物的重量平均分子量為1500～4000g/mole，該硅氧化合物為Si(OEt)4其中Et為乙基，該酸類為硫酸、硝酸或鹽酸，該醇類為異丙醇、甲醇或乙醇，而該表面活性劑為聚烯烴氧化改性的聚二甲基硅氧烷。
19.如權利要求11所述的陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布，其中該抗眩光層厚度為0.001～0.01mg/cm2。
全文摘要
一種陰極射線管的抗電磁輻射及抗眩光多層涂布及其制作方法,陰極射線管的玻璃面板外表面先以濺鍍處理形成復數層濺鍍層,再于濺鍍層表面以噴霧涂布處理形成抗眩光層。由于濺鍍原料含有錫銦氧化物等導電材料,通過濺鍍涂布方式的處理,使濺鍍層結構致密,導電度高,另外,通過濺鍍層與抗眩光層鄰接的保護層的搭配使整個涂布層,除具抗眩光特性外,還具較寬頻寬的抗反射特性。
文檔編號H01J9/20GK1369898SQ01101899
公開日2002年9月18日 申請日期2001年2月13日 優先權日2001年2月13日
發明者游源祥, 游麗莎 申請人:東元資訊股份有限公司