專利名稱：遮蔽屏、遮蔽屏原板及遮蔽屏的制造方法
技術領域：
本發明涉及布勞恩管用遮蔽屏、遮蔽屏原板及遮蔽屏的制造方法，更詳細地說，涉及在將得到的遮蔽屏安裝在布勞恩管上時不會引起異物脫落的遮蔽屏及這種遮蔽屏的制造方法。
通常的遮蔽屏是如下得到的，首先，通過蝕刻加工形成由遮蔽屏和外框部構成的遮蔽屏原板，其中，遮蔽屏形成有貫通的外周線，外框部用多個連結部保持該遮蔽屏，然后，通過彎曲加工或拉伸加工自遮蔽屏原板去除外框部而得到。此時，遮蔽屏的外周線通過蝕刻加工而形成，多個連結部作為非貫通部斷續形成，遮蔽屏由該連結部保持在遮蔽屏原板上。遮蔽屏通過向遮蔽屏原板的連結部施加彎曲應力或拉伸應力等而從外框部上去除。連結部通過彎曲加工等而斷裂。這樣得到的遮蔽屏之后經過各種工序被安裝在布勞恩管內，發揮遮蔽屏的作用。另外，這里所說的外周線不涉及構成遮蔽屏最外周的蝕刻端部的形狀，是指其端部的線。(下同)。
這種將遮蔽屏自遮蔽屏原板上去除而進行制造的方法，公開于特公昭63-888號公報、特開平4-71138號公報、特開平8-31317號公報、特開平11-73876號公報等。在這些現有技術中，或對連結部進行半腐蝕使其容易斷裂、或對自外框部去除的方法進行改進，主要是為了防止遮蔽屏有效部分的變形和使外框部的除去工序高效化。
但是，由這些現有技術得到的遮蔽屏，在遮蔽屏的外周線外側的位置都會留下一部分斷裂的凸形的連結部，有可能會對其后的加工工序產生大的惡劣影響。例如，在將遮蔽屏沖壓加工成裝于布勞恩管上的形狀的工序中，上述凸形部分就有可能與沖壓模接觸而作為異物(金屬片)被剝離，若這種異物附著在遮蔽屏的蝕刻孔上而直接裝在布勞恩管內，則會對完成后的布勞恩管的品質產生很大的影響。
本發明是為了解決上述問題而開發的，其目的在于提供一種遮蔽屏、遮蔽屏原板及遮蔽屏的制造方法，使得在將得到的遮蔽屏安裝在布勞恩管上時，不會出現異物脫落。
首先，本發明第一方面的遮蔽屏是自遮蔽屏和外框部構成的遮蔽屏原板上去除所述外框部而得到的，其中，遮蔽屏通過蝕刻加工形成有外周線，外框部用多個連結部保持該遮蔽屏，去除所述外框部而形成的斷裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周線內側而形成。根據本發明，由于去除外框部而形成的斷裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周線內側而形成，所以在以后的遮蔽屏的加工工序，斷裂部分不會被摩擦而作為異物脫落。
本發明第二方面所述的遮蔽屏，在本發明第一方面所述的遮蔽屏中，所述斷裂部分為被半腐蝕的部分。根據本發明，利用被半腐蝕的斷裂部分選擇性地去除外框部。通過減薄半腐蝕部的金屬殘留厚度，即使在彎曲斷裂的情況下，斷裂部分也不易發生因彎曲而產生的裂縫，不會引起以裂縫為起點的異物脫落。
本發明第三方面所述的遮蔽屏，在本發明第一或第二方面所述的遮蔽屏中，所述斷裂部分的方式是彎曲斷裂、拉伸斷裂及撕裂斷裂中的任一種。根據本發明，無論斷裂部分的方式是彎曲斷裂、拉伸斷裂及撕裂斷裂中的哪一種，其斷裂部分均凹入遮蔽屏的外周線內側而形成，故可增加除去外框部的方法的自由度，可高效率地進行制造。
本發明第四方面所述的遮蔽屏，在本發明第一至第三方面之任一方面所述的遮蔽屏中，所述斷裂部分的端部自所述外周線凹入10～100μm而形成。根據本發明，由于斷裂部分的端部自外周線向內側凹入10～100μm而形成，故斷裂部分不會觸碰，不會產生金屬片的脫落。
本發明第五方面所述的遮蔽屏原板由遮蔽屏和外框部構成，其中，遮蔽屏通過蝕刻加工形成有外周線，外框部用多個連結部保持該遮蔽屏，在所述連結部的遮蔽屏側之所述外周線的內側位置形成有被斷裂部分。根據本發明，在除去外框部時斷裂的被斷裂部分處于連結部的遮蔽屏側之外周線的內側位置，故斷裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周線的內側位置而形成。其結果，在其后的遮蔽屏的加工工序中，斷裂部分不會被碰觸，不會作為異物而脫落。
本發明第六方面所述的遮蔽屏原板，在本發明第五方面所述的遮蔽屏原板中，所述被斷裂部分形成與沿所述遮蔽屏外周線方向的所述連結部的長度相同的長度。根據本發明，由于被斷裂部分形成與沿所述遮蔽屏外周線方向的連結部的長度相同的長度，故除去外框部時產生的斷裂在連結部的緊內側即遮蔽屏內側部分有選擇地產生。其結果，斷裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周線的內側位置而形成。
本發明第七方面所述的遮蔽屏原板，在本發明第五或第六方面所述的遮蔽屏原板中，所述被斷裂部分被半腐蝕過。根據本發明，由于所述被斷裂部分被半腐蝕過，所以外框部在被半腐蝕過的被斷裂部分被有選擇地斷裂去除。
本發明第八方面所述的遮蔽屏原板，在本發明第七方面所述的遮蔽屏原板中，所述被半腐蝕過的部分的中心線在自所述外周線向內側大于25μm小于100μm的范圍內形成。根據本發明，由于被半腐蝕部分的中心線在自外周線向內側大于25μm小于100μm的范圍內形成，故外框部無論是用彎曲、拉伸或撕裂中的哪種方式去除，斷裂部分的外端部均凹入得到的遮蔽屏之外周線的內側位置而形成。
最后，本發明第九方面所述的遮蔽屏的制造方法，是采用本發明第五方面至第八方面中的任一方面所述的遮蔽屏原板制造遮蔽屏的方法，所述遮蔽屏原板的外框部采用彎曲、拉伸及撕裂中的任一方式去除。根據本發明，由于遮蔽屏原板的外框部采用彎曲、拉伸或撕裂中的任一方式去除，故可容易地制造斷裂部分不會被碰觸而作為異物脫落的遮蔽屏。
附圖的簡要說明如下圖1是顯示本發明遮蔽屏原板之一例的平面圖；圖2是顯示圖1的Ⅱ區域的放大平面圖；圖3是顯示圖2的Ⅲ-Ⅲ剖面的放大剖面圖；圖4A、圖4B、圖4C是例示本發明遮蔽屏的制造方法；圖5A、圖5B、圖5C是顯示得到的各斷裂方式的一例的放大剖面圖；圖6是顯示本發明遮蔽屏之一例的平面圖；圖7是顯示圖6的Ⅶ區域的放大平面圖；圖8是顯示圖7的Ⅷ-Ⅷ剖面的放大剖面圖；圖9是現有遮蔽屏原板的連結部(被斷裂部分)的放大平面圖；圖10是現有遮蔽屏的斷裂部分的放大平面圖；圖11是顯示圖10的Ⅺ區域的放大平面圖。
下面根據
本發明的遮蔽屏原板。圖1是顯示本發明遮蔽屏原板1之一例的平面圖；圖2是顯示圖1的Ⅱ區域的放大平面圖；圖3是顯示圖2的Ⅲ-Ⅲ剖面的放大剖面圖。另外，圖中的交叉影線部分表示被斷裂部分11、例如被半腐蝕的部分。
如圖1所示，遮蔽屏原板1是將遮蔽屏用金屬薄板蝕刻加工而得到的，由遮蔽屏2和外框部3構成，其中遮蔽屏2形成有外周線4，外框部3由多個連結部5保持該遮蔽屏2。在遮蔽屏2的內側形成有使電子射線通過的有孔部分6。遮蔽屏2通過去除這種遮蔽屏原板1的外框部3而得到。
首先，說明遮蔽屏原板1的被斷裂部分11。該被斷裂部分11是在自遮蔽屏原板1去除外框部3而得到遮蔽屏2時形成遮蔽屏2的斷裂部分21(參照圖6及圖7)的部分。在本發明中，如圖2所示，被斷裂部分11位于連結部5的遮蔽屏側，且形成于外周線4的內側位置。通過在這種位置形成被斷裂部分11，去除外框部3時斷裂的斷裂部分21凹入遮蔽屏2的外周線4的內側位置而形成。其結果，在其后的遮蔽屏2的加工工序中，不會碰觸斷裂部分21而使其作為異物(金屬片)脫落。
被斷裂部分11可通過半腐蝕方法使板厚變薄、或設置多個各種形狀的細孔而形成。這樣加工成的被斷裂部分11有選擇地降低了強度，故去除外框部3時在該被斷裂部分11有選擇地產生斷裂。尤其是，利用半腐蝕方法形成被斷裂部分是理想的。利用半腐蝕形成的被斷裂部分11如圖3所示，形成其中央部分凹入的形狀。因此，經過半腐蝕的被斷裂部分11在遮蔽屏原板1的通常處理中雖具有適當的強度，但在為了去除外框部3而進行的彎曲加工或拉伸加工中，應力集中，易于有選擇地斷裂。
被斷裂部分11最好在去除外框部3時有選擇地斷裂，故如圖2所示，最好形成與沿遮蔽屏2的外周線4的連結部5的長度L’相同的長度L。這樣，去除外框部3時產生的斷裂就在連結部5的緊內側即遮蔽屏2的內側部分產生，故斷裂部分21就凹入得到的遮蔽屏2的外周線4的內側位置而形成。并且，通過對形成于被斷裂部分11的半腐蝕部的兩端部(圖2中長度L方向的左右兩端部)和連結部5的屏蔽外周線4的端部(圖2中長度L’方向的左右兩端部)進行半腐蝕加工而連接，也可使去除外框部3時產生的斷裂以凹入連結部5的緊內側即遮蔽屏2的外周線4的內側位置的形狀而產生。在被斷裂部分11的長度L小于連結部5的長度L’的情況下，被加工的被斷裂部分11以外的部分也會產生斷裂，故其斷裂部分的端部有時會形成自外周線4向外側凸出的凸形，不能解決所述的問題。另一方面，在被斷裂部分11的長度L大于連結部5的長度L’的情況下，被加工的被斷裂部分11被連結部5拉著，斷裂部分21的端部22有時會形成自外周線4向外側凸出的凸形，不能解決上述問題。
形成于被斷裂部分11的半腐蝕部的中心線Y最好在外周線4的內側隔著大于25μm小于100μm的范圍的距離而形成。被斷裂部分11的有選擇的斷裂還因被斷裂部分11的加工方式而不同，但通常在形成于被斷裂部分11的半腐蝕部的大致中心線Y附近產生。因此，通過將半腐蝕部的中心線Y在外周線4的內側隔著大于25μm小于100μm的范圍的距離而形成，即使在斷裂后的斷裂部分21的端部22產生延伸，也可防止該端部22在外周線4的外側形成凸形。在外周線4和半腐蝕部的中心線Y的距離大幅度超過100μm的情況下，雖然斷裂部分21的端部22不會在外周線4的外側形成凸形，但由于其凹部使得遮蔽屏相互易于拉掛，從而有可能產生損傷或變形。而且，在遮蔽屏的成形工序中，有可能以凹部為起點產生成形皺褶。
在通過拉伸加工使利用半腐蝕而形成的被斷裂部分11斷裂時，由于通過伸展開的方式將斷裂部分21拉伸，故考慮到其延伸量，最好將外周線4和半腐蝕部中心線Y的距離設定在100μm以下的范圍。
在通過彎曲加工使利用半腐蝕而形成的被斷裂部分11斷裂時，最好將形成于被斷裂部分11的半、腐蝕部的最小厚度T2設定為20～40μm。通過將其設定在該范圍，在去除外框部3之前，遮蔽屏2不容易自被斷裂部分11斷裂分離，并且在利用彎曲加工去除外框部3時，不容易在斷裂部分21上產生裂縫。若形成于被斷裂部分11的半腐蝕部的最小厚度T2不足20μm，則在去除外框部3之前，有可能使遮蔽屏2容易地自被斷裂部分11斷裂分離。另一方面，若半腐蝕部的最小厚度T2超過40μm，則在通過彎曲加工去除外框部3時，有可能容易在斷裂部分21產生裂縫。
在通過撕裂加工使利用半腐蝕而形成的被斷裂部分11斷裂時，最好將形成于被斷裂部分11的半腐蝕部的中心線Y附近的最小厚度T2形成為遮蔽屏原板1的非腐蝕部的板厚T1的15～30％。通過將其設定在該范圍，在去除外框部3之前，遮蔽屏2不容易自被斷裂部分11斷裂分離，并且在利用撕裂加工去除外框部3時，可防止外周線4變形。若形成于被斷裂部分11的半腐蝕部的中心線Y附近的最小厚度T2不足非腐蝕部的板厚T1的15％，則在去除外框部3之前，有可能使遮蔽屏2容易地自被斷裂部分11斷裂分離。另一方面，若形成于被斷裂部分11的半腐蝕部的中心線Y附近的最小厚度T2超過非腐蝕部的板厚T1的30％，則在通過撕裂加工去除外框部3時，斷裂強度高，不能容易地撕裂，外周線4有可能產生波形變形。
在通過拉伸加工使利用半腐蝕而形成的被斷裂部分11斷裂時，最好形成于被斷裂部分11的半腐蝕部的總截面積較小，可容易地使被斷裂部分11斷裂并去除外框部3。但是，若該總截面積過小，則在去除外框部3之前，有可能使遮蔽屏2容易地自被斷裂部分11斷裂分離。另一方面，若該總截面積過大，則斷裂強度高，斷裂時有可能使外周線4變形。該總截面積的理想范圍根據材料自身的強度及制造遮蔽屏時輸送基體材料的張力等不同而不同，故要根據不同的情況適當設定最佳范圍。
下面說明遮蔽屏原板1的其他部分。
連結部5是為了使遮蔽屏2在處理遮蔽屏原板1時不容易分離而設置的，橫斷遮蔽屏2的外周線4，以規定的寬度L’斷續設置有多個。因此，其個數及寬度L’等根據得到的遮蔽屏2的產品規格分別設定。現有遮蔽屏原板設置的連結部105如圖9所示，連結部105兼作被斷裂部分，例如通過對被半腐蝕的連結部105進行彎曲加工或撕裂加工等，將外框部103去除而得到遮蔽屏102，但是，在本發明中，是在與連結部5鄰接的被斷裂部分11產生斷裂，去除外框部3而得到遮蔽屏2，這一點與現有技術不同。
外周線4是形成遮蔽屏2的輪廓的最外周的線，其形狀根據要得到的遮蔽屏2的產品規格而分別設定。通常，在設置遮蔽屏2的有孔部分6時，利用蝕刻加工而形成。外周線4的一部分由為了保持遮蔽屏2而設置的連結部5遮蔽，但本發明中，連結部5也作為外周線4延長而得到的假想外周線而設置，被斷裂部分11和外周線4的位置關系由其和該假想外周線的關系而限定。
外框部3為遮蔽屏原板1中要得到的遮蔽屏2以外的部分，承擔保持遮蔽屏2的作用。外框部3上根據去除方法的不同，有時也設有貫通孔構成的針孔或半腐蝕部分。這種外框部3的加工可根據遮蔽屏2的去除方法適當進行，無特別限定。
對于遮蔽屏2也無特別限定，但對在除去外框部3后的遮蔽屏2的加工工序，有可能碰觸斷裂部分21使其作為異物而脫落的情況非常好。
下面對遮蔽屏的制造方法進行說明。圖4A～圖4C例示本發明遮蔽屏2的制造方法。
圖4A顯示從四面拉伸遮蔽屏原板1的外框部3并將其去除而制造遮蔽屏2的方法。在該方法中，對被斷裂部分11施加拉伸應力，通常形成拉伸斷裂特有的斷裂方式。圖4B顯示對遮蔽屏原板1的外框部3上下彎曲加工并將其去除而制造遮蔽屏2的方法。在該方法中，對被斷裂部分11施加彎曲應力，通常形成彎曲斷裂特有的斷裂方式。圖4C顯示對遮蔽屏原板1的外框部3進行撕裂加工并將其去除而制造遮蔽屏2的方法。在該方法中，對被斷裂部分11施加剪切應力，通常形成撕裂(剪切)斷裂特有的斷裂方式。
圖5A～圖5C是顯示要得到的各斷裂方式的一例的放大剖面圖。圖5A顯示通過拉伸加工使被斷裂部分11斷裂時的斷裂方式，圖5B顯示通過彎曲加工使被斷裂部分11斷裂時的斷裂方式，圖5C顯示通過撕裂加工使被斷裂部分11斷裂時的斷裂方式。圖5A的斷裂方式由于進行了拉伸加工，故呈現斷裂前端部伸長的形狀。本發明中，無論這些斷裂方式中的哪種斷裂方式，斷裂部分21均凹入遮蔽屏2的外周線4的內側而形成。
在上述本發明的制造方法中，由于無論哪種方法斷裂部分21均凹入遮蔽屏2的外周線4的內側而形成，故可容易地制造不會碰觸斷裂部分21而使其作為異物脫落的遮蔽屏2。
最后，說明遮蔽屏。圖6是顯示本發明遮蔽屏2之一例的平面圖，圖7是顯示圖6的Ⅶ區域的放大平面圖，圖8是顯示圖7的Ⅷ-Ⅷ剖面的放大剖面圖。本發明的遮蔽屏2是自遮蔽屏原板去除外框部3而得到的，該遮蔽屏原板由遮蔽屏2和外框部3構成，其中，遮蔽屏2利用蝕刻加工形成有外周線4，外框部3用多個連結部5保持遮蔽屏2。遮蔽屏原板利用上述結構的遮蔽屏原板1，去除外框部3的遮蔽屏2的制造方法也可應用上述例示的遮蔽屏的制造方法。
這樣得到的遮蔽屏2，去除外框部3而形成的斷裂部分21凹入得到的遮蔽屏2的外周線4的內側位置而形成。現有的遮蔽屏102的斷裂部分111如圖10所示，由于斷裂部分111的端部112自外周線104向外側位置形成凸形，故在其后的遮蔽屏2的加工工序中，斷裂部分111有可能被碰觸而作為異物脫落，而本發明的遮蔽屏2不會出現這種情況。
該斷裂部分21最好是經過半腐蝕的部分。在現有的通過彎曲加工而進行斷裂加工的遮蔽屏的斷裂部分111上，如圖11所示，產生了微細的裂縫121，故有可能以該裂縫121為起點使異物脫落，但，在本發明的遮蔽屏2中，通過將被斷裂部分11形成的半腐蝕部的中心線Y附近的最小厚度T2設定為適當的值，如圖2所示，斷裂應力集中在進行過半腐蝕而板厚變薄的被斷裂部分11而形成斷裂部分11。其結果，難于在該斷裂部分21產生裂縫，在其后的遮蔽屏2的加工工序中，斷裂部分21也不會被碰觸而作為異物脫落。
此時，為了在其后的遮蔽屏的加工工序中不使金屬模等碰觸斷裂部分21，完全防止異物的產生，斷裂部分21的端部22最好自遮蔽屏2的外周線4向內側方向凹入10μm以上。若這種斷裂部分21的端部22的凹入不足10μm，則在其后的加工工序中金屬模等就有可能碰觸斷裂部分21而產生異物。另一方面，若斷裂部分21的端部22的凹入量超過100μm，則有時會在凹入部分的周圍產生皺褶，故端部22的凹入最好在100μm以下。
在本發明的遮蔽屏中，斷裂部分21具有彎曲斷裂、拉伸斷裂及撕裂斷裂中的某種斷裂方式。這樣的斷裂方式由圖4A～圖4C所示的制造方法帶來，并且，由于其斷裂部分21凹入遮蔽屏2的外周線4的內側位置而形成，故去除外框部的方法的自由度增加，可高效率地制造。其中，特開平4-71138號公報所記載的彎曲斷裂方法雖然由于一次可處理多個遮蔽屏原板，故效率較高，但由于彎曲方式易于在斷裂部產生裂縫，形成因其在遮蔽屏成形工序與金屬模的摩擦等而易于以裂縫為起點而使金屬片脫落的狀態。本發明中，由于斷裂部分21形成凹狀，且通過半腐蝕使金屬殘留厚度變薄，故抑制了裂縫的產生，斷裂部分21不會與金屬模等接觸，可消除金屬片的脫落。因此，可選擇效率最好的特開平4-71138號公報所記載的由彎曲進行的斷裂方法。
下面，通過實施例進一步具體說明本發明。
實施例1首先，使用由厚度120μm的因瓦合金[(法)invar]材料構成的遮蔽屏用金屬薄板制造本發明的遮蔽屏原板1，這里，本發明的遮蔽屏原板1的被斷裂部分周邊的尺寸為連結部5的長度L’=10mm，作為被斷裂部分11的半腐蝕部的長度L=10mm，半腐蝕部的寬度W=125μm，半腐蝕部的最小厚度T2=35μm，遮蔽屏外周的貫通部7的寬度T5=400μm。利用特開平4-71138號公報所記載的彎曲斷裂方法(近似于圖4B的斷裂方法的方法)自該遮蔽屏原板斷裂分離外框部3。得到的本發明的實施品即遮蔽屏2斷裂部分21凹入外周線4的內側而形成。此時，自外周線4至斷裂部分21的端部22的凹入長度D為27μm。
然后，使用由厚度120μm的因瓦合金[(法)invar]材料構成的遮蔽屏用金屬薄板制造現有型的遮蔽屏原板，這里，現有型的遮蔽屏原板的被斷裂部分周邊的尺寸為半腐蝕過的連結部105的長度L’=10mm，半腐蝕過的連結部105的最小厚度T2=80μm，連結部的寬度即遮蔽屏外周的貫通部107的寬度T5=200μm。利用特開平4-71138號公報所記載的彎曲斷裂方法(近似于圖4B的斷裂方法的方法)自該遮蔽屏原板斷裂分離外框部3。得到的現有品的遮蔽屏102的斷裂部分111自外周線104向外側形成凸形。此時，自外周線104至斷裂部分111的端部112的凸出長度d為80μm。
用電子顯微鏡觀察這樣得到的各種遮蔽屏的斷裂部分的端部附近。其結果，確認了本發明的實施品產生裂縫的比例顯著降低。將現有品和本發明的實施品的遮蔽屏分別在鋼制的平板上對接，結果發現現有品在斷裂部分111的外端部112產生了變形。而本發明的實施品看不到任何變形，對接時斷裂部分21不接觸平板。
實施例2首先，使用由厚度120μm的因瓦合金[(法)invar]材料構成的遮蔽屏用金屬薄板制造本發明的遮蔽屏原板1，這里，本發明的遮蔽屏原板1的被斷裂部分周邊的尺寸為連結部5的長度L’=10mm，作為被斷裂部分11的半腐蝕部的長度L=10mm，半腐蝕部的寬度W=115μm，外周線4與半腐蝕部中心線Y的距離T3=30μm，半腐蝕部的最小厚度T2=28μm，遮蔽屏外周的貫通部7的寬度T5=400μm。利用圖4C所示的撕裂斷裂方法自該遮蔽屏原板斷裂分離外框部3。此時，自上方用壓板固定遮蔽屏2，僅將外框部3向斜上方且向遮蔽屏外側拉抬進行撕裂斷裂。得到的本發明的實施品即遮蔽屏2的斷裂部分21凹入外周線4的內側而形成。此時，自外周線4至斷裂部分21的端部22的凹入長度D為28μm。
然后，使用由厚度120μm的因瓦合金[(法)invar]材料構成的遮蔽屏用金屬薄板制造比較用的遮蔽屏原板，這里，比較用的遮蔽屏原板的被斷裂部分周邊的尺寸為連結部5的長度L’=10mm，作為被斷裂部分11的半腐蝕部的長度L=10mm，半腐蝕部的寬度W=100μm，外周線4與半腐蝕部中心線Y的距離T3=30μm，半腐蝕部的最小厚度T2=50μm，遮蔽屏外周的貫通部7的寬度T5=400μm。利用圖4C所示的撕裂斷裂方法自該遮蔽屏原板斷裂分離外框部3。此時，自上方用壓板固定遮蔽屏2，僅將外框部3向斜上方且向遮蔽屏外側拉抬進行撕裂斷裂。得到的比較用的遮蔽屏2斷裂部分21凹入外周線4的內側而形成。此時，自外周線4至斷裂部分21的端部22的凹入長度D為40μm。但是，外周線4產生了波形變形。
實施例3首先，使用由厚度120μm的因瓦合金[(法)invar]材料構成的遮蔽屏用金屬薄板制造本發明的遮蔽屏原板1，這里，本發明的遮蔽屏原板1的被斷裂部分周邊的尺寸為連結部5的長度L’=10mm，作為被斷裂部分11的半腐蝕部的長度L=10mm，半腐蝕部的寬度W=115μm，外周線4與半腐蝕部中心線Y的距離T3=30μm，半腐蝕部的最小厚度T2=28μm，遮蔽屏外周的貫通部7的寬度T5=400μm。利用圖4A所示的拉伸斷裂方法自該遮蔽屏原板斷裂分離外框部3。此時，用固定板夾固遮蔽屏2的兩面，僅將外框部3向遮蔽屏的水平方向拉伸而進行斷裂。
得到的本發明的實施品即遮蔽屏2的斷裂部分21凹入外周線4的內側而形成。此時，自外周線4至斷裂部分21的端部22的凹入長度D為20μm。之所以比實施例1及實施例2的本發明的實施品的凹入長度D小，是因為如圖5A所示，在拉伸斷裂中斷裂前端部被拉長的緣故。
如上所述，根據本發明的遮蔽屏，由于去除外框部而形成的斷裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周線的內側位置而形成，故在其后的遮蔽屏的加工工序中，斷裂部分不會被碰觸而作為異物脫落。
根據本發明的遮蔽屏原板，由于經過半腐蝕的被斷裂部分形成于連結部的遮蔽屏側的外周線的內側位置，故去除外框部時，由半腐蝕過的被斷裂部分斷裂。其結果，得到的遮蔽屏形成的斷裂部分凹入外周線的內側位置而形成，故在其后的遮蔽屏的加工工序中，斷裂部分不會被碰觸而作為異物脫落。
根據本發明的遮蔽屏的制造方法，由于遮蔽屏原板的外框部通過彎曲、拉伸及撕裂中的任一種方法而去除，故可容易地制造斷裂部分不會被碰觸而作為異物脫落的遮蔽屏。
權利要求
1.一種遮蔽屏，是自遮蔽屏和外框部構成的遮蔽屏原板去除所述外框部而得到的，其中，所述遮蔽屏通過蝕刻加工形成有外周線，所述外框部用多個連結部保持該遮蔽屏，其特征在于，去除所述外框部而形成的斷裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周線內側而形成。
2.如權利要求1所述的遮蔽屏，其特征在于，所述斷裂部分為被半腐蝕過的部分。
3.如權利要求1或2所述的遮蔽屏，其特征在于，所述斷裂部分的方式是彎曲斷裂、拉伸斷裂及撕裂斷裂之任一種。
4.如權利要求1至3任一項所述的遮蔽屏，其特征在于，所述斷裂部分的端部自所述外周線向內側凹入10～100μm而形成。
5.一種遮蔽屏原板，由遮蔽屏和外框部構成，其中，所述遮蔽屏通過蝕刻加工形成有外周線，所述外框部用多個連結部保持該遮蔽屏，其特征在于，在所述連結部的遮蔽屏側之所述外周線的內側位置形成有被斷裂部分。
6.如權利要求5所述的遮蔽屏原板，其特征在于，所述被斷裂部分形成與沿所述遮蔽屏外周線方向的所述連結部的長度相同的長度。
7.如權利要求6所述的遮蔽屏原板，其特征在于，所述被斷裂部分被半腐蝕過。
8.如權利要求7所述的遮蔽屏原板，其特征在于，所述被半腐蝕過的部分的中心線在自所述外周線向內側大于25μm小于100μm的范圍內形成。
9.一種遮蔽屏的制造方法，是采用權利要求5至8任一項所述的遮蔽屏原板來制造遮蔽屏的方法，其特征在于，所述遮蔽屏原板的外框部采用彎曲、拉伸及撕裂中的任一方式而去除。
全文摘要
一種安裝在布勞恩管上時不會引起異物脫落的遮蔽屏、遮蔽屏原板及遮蔽層的制造方法。遮蔽屏原板由遮蔽屏和外框部構成,其中,遮蔽屏通過蝕刻加工形成外周線,外框部用多個連結部保持該遮蔽屏,在連結部的遮蔽屏側之外周線內側形成半腐蝕過的被斷裂部分。自該遮蔽屏原板上去除外框部而得到的遮蔽屏上的斷裂部分凹入外周線內側而形成。該遮蔽屏可容易地通過彎曲、拉伸及撕裂中的任一方式去除遮蔽屏原板之外框部而制造。
文檔編號H01J9/14GK1287377SQ0012626
公開日2001年3月14日 申請日期2000年8月30日 優先權日1999年9月6日
發明者小松隆泰, 落合洋光, 牧田明, 秀島啟文, 荻尾卓也, 渡邊俊武 申請人:大日本印刷株式會社