一種改制后的處理盒的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種改制后的處理盒，該處理盒包括清潔單元和凸臺，凸臺用于放置所述清潔單元；清潔單元和凸臺之間還設有一墊片，墊片具有一傾斜面，傾斜面使清潔單元相對于凸臺傾斜設置。通過上述的墊片設置在清潔單元和凸臺之間，使處理盒中損耗后或達不到預設功能要求的清潔元件能實現其預設的清潔和密封功能。
【專利說明】
一種改制后的處理盒
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種改制后的處理盒。
【背景技術】
[0002]處理盒是指一種至少內設有顯影劑的一體式組件，并且所述處理盒以可拆卸的方式安裝在電子成像設備中。
[0003]該處理盒安裝至電子成像設備中并與該電子成像設備進行轉印作業，處理盒通過內置的顯影劑在記錄介質(紙張)上形成文字或圖像。因此，顯影劑隨著圖像的形成而被消耗。這樣，當由于顯影劑的消耗而使得處理盒中的顯影劑量減小到處理盒不能形成在質量上令使用者滿意的圖像的水平或低于該水平時，處理盒便失去了其商業價值，其使用壽命結束。
[0004]長期以來，當處理盒內的顯影劑消耗完后，使用者通過向處理盒中重新補充顯影劑即可使處理盒能夠繼續轉印作業，并在記錄介質上形成文字或圖像。這樣，通過簡單的補充顯影劑的方法即可重新回收利用該處理盒，避免浪費。
[0005]但是，由于處理盒的種類不同，某些種類的處理盒中也同樣存在一同與顯影劑作業的易耗件，如用于清潔多余顯影劑的清潔元件，該清潔元件也隨著處理盒中顯影劑的消耗而產生損耗。這樣，只通過簡單的補充顯影劑的方法并不能使這類內部設有清潔元件的處理盒能夠繼續轉印顯影出質量水平可讓使用者接受的文字或圖像。而且，隨著清潔元件的損耗，其清潔元件的清潔功能也將達不到預設的要求，反而還會導致處理盒中的顯影劑的泄漏，進而污染電子成像設備的零件和記錄介質。
[0006]因此，需要對該處理盒中的清潔單元進行改制，使處理盒中損耗后或達不到預設功能要求的清潔元件能實現其預設的清潔和密封功能，避免重新使用處理盒時后續隱患或缺陷的產生。
【實用新型內容】
[0007]本實用新型的目的在于提供一種改制后的處理盒，使處理盒中損耗后或達不到預設功能要求的清潔元件能實現其預設的清潔和密封功能。
[0008]—種改制后的處理盒，包括:清潔單元和用于放置所述清潔單元的凸臺；
[0009]其特征在于，
[0010]所述清潔單元和凸臺之間還設有墊片，所述墊片具有傾斜面，所述傾斜面使所述清潔單元相對于所述凸臺傾斜設置。
[0011 ]優選地，所述墊片包括上表面和下底面，所述傾斜面為上表面，所述上表面與下底面之間的傾斜角度為1°至8°。
[0012]優選地，所述墊片還設有一凹口，所述凸臺設有一凸起，所述凹口與凸起配合使所述墊片在凸臺上定位。
[0013]優選地，所述墊片還設有一通孔，所述通孔貫穿所述墊片。[00M]優選地，所述清潔單元與所述凸臺的傾斜角度為1°至8°。
[0015]優選地，所述墊片為一對，該墊片各設置在清潔單元的長度方向的兩端。
[0016]優選地，所述墊片為一對，該墊片之間還設有一連接該墊片的連接條。
[0017]優選地，所述處理盒還包括一背板，所述背板鄰接所述凸臺設置，所述清潔單元還包括一設有加強板的基部，所述背板與所述加強板之間密封設置。
[0018]優選地，所述背板與所述加強板之間的密封為加塞密封海綿條或注射液體密封膠。
[0019]優選地，還包括:感光單元，所述感光單元可旋轉地設置在處理盒中。
[0020]通過上述的具有傾斜面的墊片設置在清潔單元和凸臺之間，使處理盒中損耗后或達不到預設功能要求的清潔元件能實現其預設的清潔和密封功能。
[0021]本實用新型的以上和其他目的、特征、及優點通過根據附圖對本實用新型的優選實施方式進行的說明而變得更加明確。
【附圖說明】
[0022]圖1是本實例一中的處理盒的立體示意圖；
[0023]圖2是本實例一中的處理盒的剖面示意圖；
[0024]圖3是本實例一中的處理盒的清潔單元處于預設狀態時的示意圖；
[0025]圖4是本實例一中的處理盒的清潔單元處于損耗后的示意圖；
[0026]圖5是本實例一中的處理盒的感光部分與顯影部分分離的示意圖；
[0027]圖6是本實例一中的處理盒的清潔單元從感光框架中拆卸的示意圖；
[0028]圖7是本實例一中的墊片與凸臺和清潔單元配合時的示意圖；
[0029]圖8是本實例一中的墊片的側面示意圖；
[0030]圖9是本實例一中的墊片的結構示意圖；
[0031]圖10是本實例一中的墊片與凸臺和清潔單元配合時的示意圖；
[0032]圖11是本實例一中的墊片與凸臺和損耗的清潔單元配合后的示意圖；
[0033]圖12是本實例一中的墊片與凸臺和新的清潔單元配合后的示意圖；
[0034]圖13是本實例一中的新的清潔單元的缺陷示意圖。
【具體實施方式】
[0035]實施例一
[0036](處理盒)
[0037]如圖1和圖2所示，圖1是處理盒C的立體視圖，圖2是處理盒C的側面剖視圖，處理盒C包括感光部分A以及顯影部分B，其中感光部分A包括感光單元10、充電單元20、清潔單元30以及用于上上述各單元收容一體的感光框架100;而顯影部分B包括顯影單元50、控粉單元40、供粉單元60、顯影劑70以及用于將上述各單元收容一體的顯影框架200。感光部分A和顯影部分B通過插銷或感光框架100的凹孔與顯影框架200的凸柱相互連接配合。
[0038]在將處理盒C裝入電子成像設備(未出示)后，電子成像設備中的旋轉驅動裝置驅動感光單元10或顯影單元50—端的驅動力接收頭使其旋轉，隨后旋轉的感光單元10或顯影單元50將該旋轉的驅動力傳遞至處理盒C中的各部件，使處理盒C整體參與與電子成像設備的顯影轉印作業。
[0039]在處理盒C參與與電子成像設備的顯影工作時，處理盒C內的顯影劑70也隨著顯影轉印在打印介質(如紙張)上而逐漸消耗，而用于清潔感光單元10表面的多余顯影劑的清潔單元30也將隨著處理盒C的顯影工作而產生損耗。
[0040]如圖2和圖3所示，清潔單元30包括前端的清潔部31和與清潔部31連接的基部32，清潔單元的清潔部31與感光單元10的表面接觸以在感光單元10旋轉(沿逆時針方向R)時清潔感光單元10表面多余的顯影劑，清潔單元30的基部32放置在感光框架100內的凸臺面111上，清潔單元30與感光單元10的相對位置通過凸臺面111以及凸臺面111上的凸起112定位。
[0041]清潔單元30的清潔部31為具有一定彈性回復力的膠條制成，其清潔部31與感光元件10表面接觸并清潔的區域為清潔區31al，清潔區31al由于被感光單元10的下壓而產生相對于感光單元10表面的反向壓力Pl，如上述得知，隨著處理盒C顯影工作的不斷進行，清潔單元10的損耗主要為該清潔區31al的損耗，在清潔部31的預設的工作壽命后期，清潔區31al長期受到感光元件10的下壓以及旋轉的感光元件10的表面的摩擦力，具有一定彈性回復力的清潔部31已較難回復至初始狀態，與預設狀態相比，清潔部31將產生一定的彎曲形變，如圖4所示，清潔部31與感光元件10表面接觸的清潔區31a2已小于初始狀態的清潔區31al，而清潔區31a2與感光元件10之間的反向壓力P2也低于預設的反向壓力P1。因此，隨著反向壓力P2的降低和清潔區31a2的減小，在清潔單元30的預設工作壽命結束時，清潔單元30已較難實現其預設的清潔和密封功能，即清潔感光元件10表面的殘余顯影劑以及防止殘余顯影劑感光框架100中泄漏。
[0042](對清潔單元的改制)
[0043]如上述所知，在處理盒C內的顯影劑70消耗完后，為延長處理盒C的使用工作壽命至少需對處理盒C重新補充顯影劑，但是，由于清潔單元30也同樣存在損耗而達不到預設的功能要求，因此需對清潔單元30進行改制作業:
[0044]由于清潔單元30設置在感光部分A的感光框架100內，需將處理盒C的感光部分A和顯影部分B進行分離，如圖5所示。如圖6所示，為便于將清潔單元30取出，首先通過拆卸感光框架100—端的支承架14將感光單元10從感光框架100中取下，然后將充電單元20從感光框架100中取下，最后通過拆卸用于將清潔單元30固定在感光框架100內的凸臺110、120上的螺釘99a即可將清潔單元30從感光框架100中取下。在將上述的單元取下后，可將上述各單元進行清潔以及對感光框架100的殘余顯影劑進行清除，便于后續的操作。
[0045]如圖7所示，增加墊片300a、300b放置在感光框架100的左右兩側的凸臺110、120上，墊片300a、300b包括一與凸臺110、120的凸起112、122匹配對應的凹口302&、30213以及與凸臺110、120的螺釘孔匹配對應并讓螺釘99&穿過的通孔301&、30113，墊片30(^、30013與凸臺110、120的凸臺面111、121接觸的下底面為304a、304b，與清潔單元30的基部32接觸的上表面為303a、303b，且上表面303a、303b相對于下底面304a、304b具有一定的傾斜角度A，優選地，該傾斜角度A為1°至8°，如圖8所示。
[0046]用于放置在清潔單元30與凸臺110、120之間的墊片300a、300b可為分體的(即如圖7所示位于清潔單元30的長度方向兩側各有一個)；也可以為一體式的，如圖9所示，墊片300中間還設有一連接條310以連接兩側的墊片300a、300b，便于使用者在改制過程中進行操作。[0047 ]如圖7和圖1O所示，為墊片安裝時的側向剖視圖，從感光框架100的長度方向觀察，先將墊片300a放置在凸臺110上，其下底面304a與凸臺110的凸臺面111抵接，其凹口 302a與凸起112配合使墊片300a在凸臺110上定位，避免墊片300a產生位移，再將清潔單元30放置在墊片300a上，其上表面303a與清潔單元30的基部32抵接，最后通過螺釘99a穿過清潔單元30的螺釘孔以及墊片300a的通孔301a將清潔單元30與墊片300a配合固定在感光框架100上。
[0048]在將上述的感光元件10安裝后，如圖11所示，通過墊片300a的增加，清潔單元30的清潔部31與感光元件10的表面接觸的清潔區31a3大于未增加墊片300a時的清潔區31a2，且增加墊片300a后的清潔單元30的反向壓力P3也大于反向壓力P2。因此，通過墊片300a的增加即可使清潔單元30在經過長期的下壓和損耗后重新具備初始狀態時應有的功能。
[0049]另外，倘若清潔單元30的清潔部31表面已被嚴重損耗或嚴重彎曲無法通過，可更換一新的清潔單元30，如圖12所示，該新的清潔單元30的清潔區31a4以及反向壓力P4也同樣由于墊片300a的增加而大于損耗后的清潔區31a2以及反向壓力P2;這里，需要注意的是，若未增加墊片300a，由于更換新的清潔單元30，而新的清潔單元30因從未受到感光單元10的下壓，因此替換后在感光單元10旋轉(沿逆時針方向R)時，新的清潔單元30的清潔部31x極易發生翻轉現象，如圖13所示，那么新的清潔單元30將不能實現清潔感光元件10的功能，而處理盒C整體也無法使用。根據上述的新的清潔部31x易發生翻轉的隱患，通過墊片300a的增加即可將新的清潔部31x與感光元件10的表面的接觸面增加，同時降低其新的清潔部31X對感光元件1的表面的反向壓力，即具備了更換前的清潔單元30的初始狀態的清潔和密封功能，也避免由于替換了新的清潔單元而由此產生的隱患。
[0050]墊片300b以及墊片300的安裝參考上述墊片300a的安裝配合即可，這里不再復述。[0051 ]由于清潔單元30與凸臺110、120之間設置了具有傾斜面303a、303b的墊片300a、300b，該清潔單元300整體即可相對于感光框架100的凸臺110、120傾斜設置，其清潔單元30的基部32相對于凸臺110、120傾斜的傾斜角為為1°至8°。
[0052]另外，其基部32還有一與基部32呈基本垂直設置的加強板，該加強板由于墊片300a、300b的設置亦與感光框架100內的凸臺110鄰接的背板130產生間隙G，如圖11和圖12所示，為避免殘余的顯影劑從間隙G中泄漏，可在加強板與背板130之間加塞密封海綿條或注射液體密封膠等。
[0053]盡管參考在此公開的結構描述了本實用新型，但是并不將其局限于所描述的細節中，并且本申請意圖覆蓋可能落入所附權利要求的改進目的或范圍內的修改或變化。
【主權項】
1.一種改制后的處理盒，包括:清潔單元和用于放置所述清潔單元的凸臺； 其特征在于， 所述清潔單元和凸臺之間還設有墊片，所述墊片具有傾斜面，所述傾斜面使所述清潔單元相對于所述凸臺傾斜設置。2.如權利要求1所述的改制后的處理盒，其特征在于，所述墊片包括上表面和下底面，所述傾斜面為上表面，所述上表面與下底面之間的傾斜角度為1°至8°。3.如權利要求1或2所述的改制后的處理盒，其特征在于，所述墊片還設有凹口，所述凸臺設有凸起，所述凹口與凸起配合使所述墊片在凸臺上定位。4.如權利要求1或2所述的改制后的處理盒，其特征在于，所述墊片還設有通孔，所述通孔貫穿所述墊片。5.如權利要求1所述的改制后的處理盒，其特征在于，所述清潔單元與所述凸臺的傾斜角度為1°至8°。6.如權利要求1或2或5所述的改制后的處理盒，其特征在于，所述墊片為一對，該墊片各設置在清潔單元的長度方向的兩端。7.如權利要求1或2或5所述的改制后的處理盒，其特征在于，所述墊片為一對，該墊片之間還設有連接該墊片的連接條。8.如權利要求1或2或5所述的改制后的處理盒，其特征在于，所述處理盒還包括背板，所述背板鄰接所述凸臺設置，所述清潔單元還包括設有加強板的基部，所述背板與所述加強板之間密封設置。9.如權利要求8所述的改制后的處理盒，其特征在于，所述背板與所述加強板之間的密封為加塞密封海綿條或注射液體密封膠。10.如權利要求1或2所述的改制后的處理盒，其特征在于，還包括:感光單元，所述感光單元可旋轉地設置在處理盒中。
【文檔編號】G03G21/18GK205563088SQ201620203653
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年3月16日
【發明人】丁戈明
【申請人】珠海艾派克科技股份有限公司