無掩膜阻焊曝光機的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種無掩膜阻焊曝光機，包括至少一組激光器Ⅰ（11）和激光器Ⅱ（12），以及光束會聚器（2）；所述激光器Ⅰ（11）置于光束會聚器（2）上方，所述激光器Ⅱ（12）置于光束會聚器（2）前方；所述光束會聚器（2）后方依次設有凸透鏡Ⅰ（3）、凸透鏡Ⅱ（4）、反射鏡（5）和可旋轉單像素成像單元（6）；所述可旋轉單像素成像單元（6）正下方設置基板（7）。本無掩膜阻焊曝光機取消了掩膜曝光的方式，取而代之的是掃描式無掩膜曝光。本無掩膜阻焊曝光機在節約成本的同時大幅度提高了曝光效率。
【專利說明】
無掩膜阻焊曝光機
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種曝光機，具體是一種無掩膜阻焊曝光機。
【背景技術】
[0002]在現有技術中，為了在阻焊基板上曝光圖形，一直以來是制作成為圖形底板的菲林，通過使用該菲林的曝光裝置來曝光基板。
[0003]但是，在基板尺寸逐漸增大的同時，基板的設計、制作要求的時間逐漸變短。而且，基板種類多、多品種數量少，制作菲林導致成本提高及交貨延期。
【實用新型內容】
[0004]針對上述現有技術存在的問題，本實用新型提供一種無掩膜阻焊曝光機，取消了掩膜曝光的方式，取而代之的是掃描式無掩膜曝光。本無掩膜阻焊曝光機在節約成本的同時大幅度提尚曝光效率。
[0005]為了實現上述目的，本無掩膜阻焊曝光機包括至少一組激光器I和激光器Π，以及光束會聚器；
[0006]所述激光器I置于光束會聚器上方，所述激光器Π置于光束會聚器前方；
[0007]所述光束會聚器后方依次設有凸透鏡1、凸透鏡Π、反射鏡和可旋轉單像素成像單元；
[0008]所述可旋轉單像素成像單元正下方設置基板。
[0009]進一步，所述激光器I為405nm半導體激光器，所述激光器Π為365nm或低于400nm的半導體激光器。
[0010]與現有技術相比，本無掩膜阻焊曝光機取消了掩膜曝光的方式，取而代之的是掃描式無掩膜曝光。本無掩膜阻焊曝光機在節約成本的同時大幅度提高了曝光效率。
【附圖說明】
[0011]圖1是本實用新型的主體結構示意圖；
[0012]圖中:11、激光器1，12、激光器11，2、光束會聚器，3、凸透鏡1，4、凸透鏡Π，5、反射鏡，6、可旋轉單像素成像單元，7、基板。
【具體實施方式】
[0013]下面結合附圖對本實用新型做進一步說明。
[0014]如圖1所示，本無掩膜阻焊曝光機包括至少一組激光器Ill和激光器Π 12，以及光束會聚器2;
[0015]所述激光器111置于光束會聚器2上方，所述激光器Π 12置于光束會聚器2前方；
[0016]所述光束會聚器2后方依次設有凸透鏡13、凸透鏡Π4、反射鏡5和可旋轉單像素成像單元6 ；
[0017]所述可旋轉單像素成像單元6正下方設置基板7。
[0018]光束會聚器2可以把不同波長的激光會聚到一起并以平行光的方式出射。
[0019]凸透鏡13和凸透鏡Π4可以把混合的激光光束以10um甚至更細的光束直徑出射，且出射光為平行光。
[0020]反射鏡5對紫外光全反，且能夠把直徑10um的光束反射到可旋轉單像素成像單元6上。
[0021]可旋轉單像素成像單元6由軟件控制其翻轉，將直徑為10um的光束以掃描的方式在基板7上曝光。
[0022]進一步，所述激光器Ill為405nm高功率半導體激光器，所述激光器Π 12為365nm或低于400nm的高功率半導體激光器。
[0023]本無掩膜阻焊曝光機的工作原理如下:
[0024]將405nm半導體激光器Ill和365nm半導體激光器Π 12經光束會聚器2會聚，并以平行光的方式出射，通過凸透鏡13和凸透鏡Π4的作用，將光束整形為直徑僅為10um甚至更細的光束，由反射鏡5反射至可旋轉單像素成像單元6上，通過軟件控制其翻轉，以掃描的方式在基板7上曝光，以紫外固化的方式，形成所需圖形。
[0025]綜上所述，本無掩膜阻焊曝光機取消了掩膜曝光的方式，取而代之的是掃描式無掩膜曝光。本無掩膜阻焊曝光機在節約成本的同時大幅度提高了曝光效率。
【主權項】
1.一種無掩膜阻焊曝光機，其特征在于， 包括至少一組激光器I (11)和激光器Π (12)，以及光束會聚器(2); 所述激光器I(Il)置于光束會聚器(2)上方，所述激光器Π (12)置于光束會聚器(2)前方； 所述光束會聚器(2)后方依次設有凸透鏡1(3)、凸透鏡Π (4)、反射鏡(5)和可旋轉單像素成像單元(6); 所述可旋轉單像素成像單元(6)正下方設置基板(7)。2.根據權利要求1所述的一種無掩膜阻焊曝光機，其特征在于， 所述激光器I (11)為405nm半導體激光器，所述激光器Π (12)為365nm或低于400nm的半導體激光器。
【文檔編號】G03F7/20GK205539931SQ201620208338
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年3月18日
【發明人】平潔
【申請人】江蘇影速光電技術有限公司