一種光刻機光源的制作方法
【技術領域】
[0001 ]本實用新型涉及硅片曝光技術領域，特別是涉及一種光刻機光源。
【背景技術】
[0002]曝光機在對硅片進行曝光時需要紫外線，現有紫外線光源均采用高壓汞燈通過鏡面折射法和直接照射法對硅片進行曝光，曝光后線條容易發虛，硅片與光刻版粘在一起，產生斷片，造成不必要的浪費和生產效率的降低，主要原因就是現有的光源光強弱、曝光時間長、熱量高，因此易粘片且光源壽命短，此外汞燈產生的臭氧較多，對人體傷害大，汞燈損壞后有劇毒，不環保且不利于工作人員的身體健康，因此如何提高光照強度，降低熱量，提高光源壽命，降低功率，更加環保以及減少粘片及斷片現象是本實用新型需要解決的問題。
【發明內容】
[0003]本實用新型的目的就是針對上述存在的缺陷而提供一種光刻機光源。本實用新型的光刻機光源光強度高、熱量小、壽命長、功率小僅有現有技術的10%、環保無污染、使用壽命長、報廢少，提尚效率200%，曝光時間短，曝光后線條整齊，能夠有效減少熱源解決粘片現象。
[0004]本實用新型的一種光刻機光源技術方案為，包括10顆以上的紫外線燈珠均勻分布在光源板正面，紫外線燈珠通過導線連接到發生器上，發生器調節光源強度。
[0005]紫外線燈珠直徑為0.l-10mm。
[0006]光源板背面沿紫外線燈珠分布方向設置有循環水管，循環水管連接冷水循環栗，冷水循環栗安裝于發生器內。冷水經過發光源后循環回冷水循環栗，經制冷后繼續循環使用。
[0007]光源板為邊長I 1mm的正方形板，50顆直徑為3mm的紫外線燈珠呈4個同心圓均勾分布在光源板正面，相鄰兩個同心圓之間的半徑差為50-60mm。
[0008]每個紫外線燈珠的功率為2w，共100w。
[0009]使用所述的光刻機光源進行硅片曝光的方法，將硅片放置在版架之間，開啟開關，紫外光照射在硅片上面，距離硅片80mm，紫外線強度12-20uW/cm2，曝光時間為5-8秒，達到曝光要求后自動停止光源，版架升起取下硅片。
[0010]本實用新型的一種光刻機光源有益效果為:本實用新型的光刻機光源光強度高、熱量小、壽命長、功率小僅有現有技術的10%、環保無污染、使用壽命長、報廢少，提高效率200%，曝光時間短(原來曝光時間為15秒-20秒，現在時間為5-8秒)，曝光后線條整齊，能夠有效減少熱源解決粘片現象。
[0011]【附圖說明】:
[0012]圖1所示為本實用新型光刻機光源結構；
[0013]圖2所示為現有光刻機光源結構。
[0014]其中，1-紫外線燈珠，2-光源板，3-冷水循環栗，4-發生器，5-高壓汞燈，6_鏡面。
[0015]【具體實施方式】:
[0016]為了更好地理解本實用新型，下面用具體實例來詳細說明本實用新型的技術方案，但是本實用新型并不局限于此。
[0017]實施例1
[0018]現有技術中，用于硅片曝光的光刻機光源，采用高壓汞燈5通過鏡面6折射或直接照射對硅片進行曝光，高壓汞燈5長度150mm，功率1000?，距離硅片高度140mm，紫外線強度約3_5uw/cm 2o
[0019]本實用新型光源板2為邊長IlOmm的正方形板，50顆直徑為3mm的紫外線燈珠I呈4個同心圓均勻分布在光源板2正面，紫外線燈珠I通過導線連接到發生器4上，發生器4調節光源強度，相鄰兩個同心圓之間的半徑差為50-60mm。
[0020]光源板2背面沿紫外線燈珠I分布方向設置有循環水管，循環水管連接冷水循環栗3，冷水循環栗3安裝于發生器4內。冷水經過發光源后循環回冷水循環栗3，經制冷后繼續循環使用。
[0021]每個紫外線燈珠I的功率為2w，共100w。
[0022]使用本實用新型所述的光刻機光源進行硅片曝光的方法，將硅片放置在版架之間，開啟開關，紫外光照射在硅片上面，距離硅片80mm，紫外線強度12-20uW/cm2，曝光時間為5-8秒，達到曝光要求后自動停止光源，版架升起取下硅片。
[0023]本實用新型的光刻機光源光強度高、熱量小、壽命長、功率小僅有現有技術的10%、環保無污染、使用壽命長、報廢少，提高效率200%，曝光時間短(原來曝光時間為15秒-20秒，現在時間為5-8秒)，曝光后線條整齊，能夠有效減少熱源解決粘片現象。
【主權項】
1.一種光刻機光源，其特征在于，包括10顆以上的紫外線燈珠均勻分布在光源板正面，紫外線燈珠通過導線連接到發生器上，發生器調節光源強度。2.根據權利要求1所述的一種光刻機光源，其特征在于，紫外線燈珠直徑為0.l-10mm。3.根據權利要求1所述的一種光刻機光源，其特征在于，光源板背面沿紫外線燈珠分布方向設置有循環水管，循環水管連接冷水循環栗，冷水循環栗安裝于發生器內。4.根據權利要求3所述的一種光刻機光源，其特征在于，光源板為邊長IlOmm的正方形板，50顆直徑為3mm的紫外線燈珠呈4個同心圓均勻分布在光源板正面，相鄰兩個同心圓之間的半徑差為50_60mm。5.根據權利要求4所述的一種光刻機光源，其特征在于，每個紫外線燈珠的功率為2w，共 10w06.根據權利要求4所述的一種光刻機光源，其特征在于，所述光刻機光源，距離硅片80mm，紫外線強度12-20uw/cm2，曝光時間為5-8秒。
【專利摘要】本實用新型公開了一種光刻機光源，該光刻機光源包括10顆以上的紫外線燈珠均勻分布在光源板正面，紫外線燈珠通過導線連接到發生器上，發生器調節光源強度。本實用新型的光刻機光源光強度高、熱量小、壽命長、功率小僅有現有技術的10%、環保無污染、使用壽命長、報廢少，提高效率200%，曝光時間短，曝光后線條整齊，能夠有效減少熱源解決粘片現象。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號】CN205210510
【申請號】CN201520880906
【發明人】孫者利, 張運
【申請人】濟南卓微電子有限公司
【公開日】2016年5月4日
【申請日】2015年11月9日