抗電磁鏡片的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及鏡片領域，尤其涉及具有抗電磁鍍層的鏡片。
【背景技術】
[0002]隨著科技的進步和通訊事業的日趨發展，電腦、電視、微波爐及手機的應用日益普及，電器的電磁波對人體的影響越來越嚴重。過量的電磁波進入人體，使體內分子運動加劇，產生一定的熱量，使人體水分蒸發、破壞細胞正常的新陳代謝，導致細胞發生病變、甚至壞死等情況。長期處于較強電磁波輻射環境中工作、生活的人往往容易導致發生眼部疾病。因此，基于這種情形下，抗電磁鏡片被應用來對眼部進行保護。CN201589905 U、CN203950047U、CN201359642Y均提出了抗電磁鏡片，均是在鏡片上通過鍍膜形成能夠導電且透光的抗電磁鍍膜層。其中，CN201589905 U、CN203950047U是采用的鍍膜層的光穿透率不高。CN201359642Y采用的鍍膜層雖透光性較好，但其導電性還有待提高(電阻率在百Ω/cm2級別)。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型提出一種具有更低電阻率且透光性較佳的抗電磁鏡片。
[0004]本實用新型采用如下技術方案實現:
[0005]—種抗電磁鏡片，包括一鏡片及鍍于該鏡片表面的一復合鍍膜層，其中:該復合鍍膜層由內至外依次包括一二氧化鋯層、一金屬銅層、一金屬鉻層、一二氧化硅層。
[0006]進一步的，二氧化鋯層的厚度范圍是80至150埃米，金屬銅層的厚度范圍是80至150埃米，金屬鉻層的厚度范圍是15至50埃米，二氧化硅層的厚度范圍是30至100埃米。優選的，二氧化鋯層的厚度是100埃米，金屬銅層的厚度是100埃米，金屬鉻層的厚度是20埃米，二氧化硅層的厚度是40埃米。
[0007]進一步的，在二氧化硅層上還鍍一防水保護層。
[0008]本實用新型的抗電磁鏡片是一種具有更低電阻率且透光性較佳的抗電磁鏡片，從而使本實用新型的抗電磁鏡片不僅可以在日常場合使用，也可以在一些特定應用場合下使用，例如佩戴以隔離電腦、傳真機、手機、微波爐等電子元器件的輻射等。
【附圖說明】
[0009]圖1是本實用新型的剖面結構示意圖。
[0010]圖2是本實用新型一實施例的抗電磁鏡片的透射頻譜測試結果圖。
[0011]圖3是本實用新型一實施例的抗電磁鏡片的接收顏色限制區域測試結果圖。
[0012]圖4是本實用新型一實施例的抗電磁鏡片的頻譜數據測試結果表格。
【具體實施方式】
[0013]為進一步說明各實施例，本實用新型提供有附圖。這些附圖為本實用新型揭露內容的一部分，其主要用以說明實施例，并可配合說明書的相關描述來解釋實施例的運作原理。配合參考這些內容，本領域普通技術人員應能理解其他可能的實施方式以及本實用新型的優點。圖中的組件并未按比例繪制，而類似的組件符號通常用來表示類似的組件。
[0014]現結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型進一步說明。
[0015]參閱圖1所示，本實用新型提出一種抗電磁鏡片，包括一鏡片10及鍍于該鏡片表面的一復合鍍膜層20，其中:該復合鍍膜層20由內至外依次包括一二氧化鋯(ZrO2)層201、一金屬銅(Cu)層202、一金屬鉻(Cr)層203、一二氧化硅(S12)層204。鏡片10可以選用樹脂鏡片或玻璃鏡片。
[0016]其中，該復合鍍膜層20中各膜層的厚度如下:二氧化鋯層的厚度范圍是80至150埃米(A)，金屬銅層的厚度范圍是80至150埃米，金屬鉻層的厚度范圍是15至50埃米，二氧化硅層的厚度范圍是30至100埃米。優選的，二氧化鋯層的厚度是100埃米，金屬銅層的厚度是100埃米，金屬鉻層的厚度是20埃米，二氧化硅層的厚度是40埃米。
[0017]本實用新型的抗電磁鏡片在鏡片的表面由內至外依次由真空蒸鍍上合適厚度的二氧化錯(ZrO2)層、金屬銅(Cu)層、金屬絡(Cr )層、二氧化娃(S12)層，從而使該抗電磁鏡片具有更低電阻率和較佳的透光性。
[0018]優選的，為了更好地保護抗電磁的鍍膜層而不輕易脫落，還在該二氧化硅層204上鍍一防水保護層30，可鍍約25埃米(A)的厚度膜厚。
[0019]本實用新型的抗電磁鏡片經過導電率測試，其鍍膜層的電阻率可以低于30 Ω/cm2,甚至達到20 Ω /cm2以下。同時，本實用新型一實施例的抗電磁鏡片進行光學測試，參閱圖2至圖4所示，結果表明其鍍膜層的透光率可達50%左右，具有較佳的透光性。本實用新型的抗電磁鏡片的鍍膜層厚度(包括防水保護層)也較薄，在230至475埃米(A)之間的厚度，不足50納米(nm)，顯然是低于CN203950047 U中的45_90nm的電磁波屏蔽層厚度，從而具有更好的應用前景。本實用新型的抗電磁鏡片的膜層厚度越小越不影響基材本身的功能，且清晰度高，不影響產品外觀。
[0020]盡管結合優選實施方案具體展示和介紹了本實用新型，但所屬領域的技術人員應該明白，在不脫離所附權利要求書所限定的本實用新型的精神和范圍內，在形式上和細節上可以對本實用新型做出各種變化，均為本實用新型的保護范圍。
【主權項】
1.一種抗電磁鏡片，包括一鏡片及鍍于該鏡片表面的一復合鍍膜層，其特征在于:該復合鍍膜層由內至外依次包括一二氧化鋯層、一金屬銅層、一金屬鉻層、一二氧化硅層。2.根據權利要求1所述的抗電磁鏡片，其特征在于:二氧化鋯層的厚度范圍是80至150埃米，金屬銅層的厚度范圍是80至150埃米，金屬鉻層的厚度范圍是15至50埃米，二氧化硅層的厚度范圍是30至100埃米。3.根據權利要求2所述的抗電磁鏡片，其特征在于:二氧化鋯層的厚度是100埃米，金屬銅層的厚度是100埃米，金屬鉻層的厚度是20埃米，二氧化硅層的厚度是40埃米。4.根據權利要求1或2或3所述的抗電磁鏡片，其特征在于:在二氧化硅層上還鍍一防水保護層。
【專利摘要】本實用新型涉及鏡片領域。本實用新型提出一種抗電磁鏡片，包括一鏡片及鍍于該鏡片表面的一復合鍍膜層，其中：該復合鍍膜層由內至外依次包括一二氧化鋯層、一金屬銅層、一金屬鉻層、一二氧化硅層。本實用新型的抗電磁鏡片具有更低電阻率且透光性較佳。
【IPC分類】G02B1/10, G02C7/10
【公開號】CN205210433
【申請號】CN201520851116
【發明人】楊敏男
【申請人】廈門美瀾光電科技有限公司
【公開日】2016年5月4日
【申請日】2015年10月30日