一種適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于曝光機配件領域，具體地說，涉及一種適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺。
【背景技術】
[0002]隨著集成電路行業的飛速發展，元器件的微型化已經非常普遍。那么激光直寫機就是一種專門用于制作微米量級圖形的機子，在業內也常稱為曝光機。它可以曝出各種各樣的微圖形。在實際的器件制備過程中常常會用到多層曝光。而多層曝光對儀器的操作要求是非常高的，每次放片的位置角度相差不能大于5mrad，否則多層曝光的圖形就無法完全對準，所以多層曝光時必須要用到定位釘，以保證多次放片的位置差別在允許的范圍內，這樣才能完美的實現樣品圖形的套刻。
[0003]然而激光直寫機的平臺參數是固定的，套刻時由于要用到定位釘，定位釘有一定的高度，一般在500 μ m左右，所以要進行套刻的樣品厚度一般要求在1000 μ m左右，才能保證操作過程中不會損壞儀器。
[0004]實際的科研工作中做磁性材料研究和器件制備也常要用到硅片，硅片厚度一般在250 μ m-500 μ m的厚度范圍，那么像這類科研中常要用到的較薄片子，激光直寫機就無法很好的加工制備。
[0005]對于薄片來說，如果要想套刻，只能是把樣品放上，用定位釘定好位置，然后再把定位釘取下來，接著進行下面的曝光程序，但是取定位釘的時候很容易使樣品發生輕微移動，這樣樣品位置就會發生變化，造成兩次放樣角度差別太大，從而無法進行套刻；或者單純的靠肉眼來辨別每次放樣的位置；如果角度偏差大于5mrad，此時往往需要把激光直寫平臺退出來，重新放置樣品。有時為了套刻一個圖形，甚至需要放十幾次樣品，才能使再次放樣與第一次放樣的角度差在儀器允許的范圍之內，之后才能完成一次完美的套刻，否則無法使需要套刻的圖形套刻在一起。這兩種方式顯然都是非常行不通的。
【實用新型內容】
[0006]為了克服現有技術中存在的缺陷，本實用新型提供一種操作方便，精度高，效率高的適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺。其技術方案如下:
[0007]—種適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺，包括樣品臺主體1，以及樣品臺主體I上的真空吸附孔2，和定位線5，樣品臺主體I的背面設有導通環3，定位線5位于樣品臺主體I上面的邊緣處，樣品臺主體I的下面設有定位釘4。
[0008]優選地，所述樣品臺主體I的尺寸為長70mm、寬70mm，厚度為1mm。
[0009]優選地，所述吸附孔2的孔徑1mm，孔深1mm。
[0010]優選地，所述導通環3的內半徑為19mm，夕卜半徑為22mm，深度為0.4mm。
[0011]優選地，所述定位線5寬度為0.2mm，深度為0.2mm，定位線之間的間距為1mm。
[0012]本實用新型樣品臺的使用方法非常簡單，只要將樣品放置到樣品臺上，并將樣品的右側對準定位線，然后再將樣品臺的右側對準定位釘即可。
[0013]本實用新型的目的在于解決薄片套刻的難題，將薄片放置到樣品臺上，從而增加了樣品相對于激光直寫平臺的高度，從而防止曝光過程中鏡頭被撞壞。
[0014]本實用新型提供了一種簡單易操作的較薄樣品套刻方法，由于本設計巧妙地引入了定位線，從而實現精準地放樣，保證多次放樣的角度差在允許的范圍內。從而避免了放十幾次樣品才能完成一次套刻的難題。
[0015]通過以上發明裝置，可以對較薄片子輕而易舉地進行套刻工藝，從而解決了目前薄片套刻的一大難題。
[0016]本實用新型的有益效果:
[0017]主要有三個方面:(一)玻璃片子有一定的厚度，用于抬高樣品的總高度，從而防止了曝光時鏡頭撞倒定位釘；(二)玻璃片上鏤空的小孔，用于緊固樣品臺上的樣品，防止曝光時樣品滑動；(三)定位線可以精準的定位樣品，從而實現每次放樣角度差別在儀器允許的范圍之內了，輕松便捷準確地放置樣品，無須多次放樣，從而大大提高了曝光套刻精度和效率。
【附圖說明】
[0018]圖1是適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺的結構示意圖；
[0019]圖2是適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺的俯視圖。
具體實施方案
[0020]下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型的技術方案作進一步詳細地說明。
[0021]—種適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺對于較大且較薄的片子，其樣品臺如圖1和圖2所示，其中圖1是三維結構圖，圖2是俯視圖。圖1中樣品臺主體I是一個方形的玻璃片子，其尺寸為70_ 70_，厚度為1mm，用以抬高樣品，防止薄片曝光時鏡頭撞到定位釘。真空吸附孔2的孔徑1_，孔深1_，最中間的孔與激光直寫平臺的真空吸附孔是對應的，以中間孔為圓心半徑為20mm的圓圈上的孔是與樣品臺背面的導通環3是相通的，導通環內半徑為19_，外半徑為22_，深度為0.4_，導通環這樣設計就可以把激光直寫大平臺上的真空吸附孔完全覆蓋，然后再在導通環上做一些真空吸附孔，這樣將樣品放置到樣品臺上，且將真空吸附孔完全覆蓋，就可以達到緊固樣品的作用。定位線5的寬度為0.2mm，深度為0.2mm，定位線之間的間距為1mm，定位線刻在玻璃片上面的邊緣處，用以定位樣品，將樣品放置到樣品臺上，并將樣品的一端對準定位線，然后再將整個樣品臺對準定位釘，這樣就可以開始曝光了，如需多次曝光，只需將樣品再對準定位線，整個樣品臺對準定位釘，就可以很容易的滿足兩次放樣角度差不大于5mrad，滿足套刻要求。
[0022]以上樣品臺的設計，只是針對DWL66FS這個型號的激光直寫儀設計的。本實用新型在具體應用過程中，樣品臺上導通環的尺寸以及真空吸附孔的分布尺寸可根據不同型號的儀器設備和實驗需求而做相應的修改，定位線的疏密程度也可根據實際需要做調整。
[0023]以上所述，僅為本實用新型較佳的【具體實施方式】，本實用新型的保護范圍不限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型披露的技術范圍內，可顯而易見地得到的技術方案的簡單變化或等效替換均落入本實用新型的保護范圍內。
【主權項】
1.一種適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺，其特征在于:包括樣品臺主體(1)，以及樣品臺主體(I)上的真空吸附孔(2)，和定位線(5)，樣品臺主體(I)的背面設有導通環(3)，定位線(5)位于樣品臺主體(I)上面的邊緣處，樣品臺主體(I)的下面設有定位釘⑷。2.根據權利要求1所述的適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺，其特征在于:所述樣品臺主體(I)的尺寸為長70mm、寬70mm，厚度為Imm03.根據權利要求1所述的適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺，其特征在于:所述吸附孔(2)的孔徑1_，孔深Imm04.根據權利要求1所述的適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺，其特征在于:所述導通環(3)的內半徑為19mm，夕卜半徑為22mm，深度為0.4mm。5.根據權利要求1所述的適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺，其特征在于:所述定位線(5)寬度為0.2mm，深度為0.2mm，定位線之間的間距為1mm。
【專利摘要】本實用新型專利公開了一種適用于激光直寫機薄片套刻的樣品臺，包括樣品臺主體，以及樣品臺主體上的真空吸附孔，和定位線，樣品臺主體的背面設有導通環，定位線位于樣品臺主體上面的邊緣處，樣品臺主體的下面設有定位釘。本實用新型輕松便捷準確地放置樣品，無須多次放樣，從而大大提高了曝光套刻精度和效率。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號】CN204945615
【申請號】CN201520417767
【發明人】李喜玲, 隋文波, 李華
【申請人】蘭州大學
【公開日】2016年1月6日
【申請日】2015年6月15日