掩膜版管理系統以及掩膜版使用方法
【專利摘要】一種掩膜版管理系統以及掩膜版使用方法。該掩膜版管理系統包括：掩膜版投入模塊，其被配置來提供至少一個掩膜版組，每個所述掩膜版組包括一個卡匣和放置在所述卡匣內的多個掩膜版；掩膜版檢測和處理模塊，其被配置來檢測所述掩膜版組中的多個掩膜版，并根據檢測結果對需要處理的掩膜版進行對應的掩膜版處理；掩膜版分類模塊，其被配置來將經過處理并合格的掩膜版重新調整到所述掩膜版所屬的掩膜版組的卡匣中。該掩膜版管理系統以及掩膜版使用方法可進行精細化的管控，有利于提高生產效率。
【專利說明】
掩膜版管理系統以及掩膜版使用方法
技術領域
[0001 ]本公開至少一實施例涉及一種掩膜版管理系統以及掩膜版使用方法。
【背景技術】
[0002]在有機發光二極管(Organic light-emitting d1de，0LED)顯示面板的制作過程中，需要用到掩膜版。在通常的掩膜版使用過程中，采用單片掩膜版管控的方式，該方法比較繁瑣，并存在掩膜版被錯用的風險，不利于生產效率的提高。
【發明內容】
[0003]本公開的至少一實施例涉及一種掩膜版管理系統以及掩膜版使用方法，以進行精細化的管控，有利于提高生產效率。
[0004]本公開的至少一實施例提供一種掩膜版管理系統，包括:
[0005]掩膜版投入模塊，其被配置來提供至少一個掩膜版組，每個所述掩膜版組包括一個卡匣和放置在所述卡匣內的多個掩膜版；
[0006]掩膜版檢測和處理模塊，其被配置來檢測所述掩膜版組中的多個掩膜版，并根據檢測結果對需要處理的掩膜版進行對應的掩膜版處理；
[0007]掩膜版分類模塊，其被配置來將經過處理并合格的掩膜版重新調整到所述掩膜版所屬的掩膜版組的卡匣中。
[0008]本公開的至少一實施例提供一種掩膜版使用方法，包括:
[0009]提供至少一個掩膜版組，每個所述掩膜版組包括一個卡匣和放置在所述卡匣內的多個掩膜版；
[0010]檢測所述掩膜版組中的掩膜版，并根據檢測結果對需要處理的掩膜版進行對應的掩膜版處理；
[0011]將經過所述掩膜版處理工序處理并合格的掩膜版重新調整到所述掩膜版所屬的掩膜版組。
【附圖說明】
[0012]為了更清楚地說明本公開實施例的技術方案，下面將對實施例的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本公開的一些實施例，而非對本公開的限制。
[0013]圖1為本公開一實施例提供的一種掩膜版管理系統示意圖；
[0014]圖2為本公開一實施例提供的掩膜版組示意圖；
[0015]圖3為本公開一實施例提供的一種掩膜版管理系統中的一種掩膜版檢測和處理模塊不意圖；
[0016]圖4為本公開一實施例提供的一種掩膜版管理系統中的另一種掩膜版檢測和處理豐旲塊不意圖；
[0017]圖5為本公開一實施例提供的一種掩膜版管理系統中的掩膜版的示意圖；
[0018]圖6為本公開一實施例提供的一種掩膜版管理系統中的另一種掩膜版檢測和處理豐旲塊不意圖；
[0019]圖7為本公開一實施例提供的一種掩膜版管理系統中的掩膜版使用管理示意圖；
[0020]圖8為本公開一實施例提供的一種掩膜版管理系統中卡匣與掩膜版綁定成掩膜版組的示意圖；
[0021]圖9為本公開一實施例提供的掩膜版管理系統應用于OLED顯示面板制作的示意圖；
[0022]圖10為本公開一實施例提供的掩膜版管理方法的示意圖；
[0023]圖11為本公開一實施例提供一種掩膜版管理方法中的在缺陷檢測單元中被判NG的不意圖；
[0024]圖12為本公開一實施例提供一種掩膜版管理方法中的在圖形檢測單元中被判NG的不意圖；
[0025]圖13為本公開一實施例提供一種掩膜版管理方法中的一種掩膜版檢測和處理的示意圖；
[0026]圖14為本公開一實施例提供一種包括暫存掩膜版組的掩膜版管理方法中的示意圖；
[0027]圖15為本公開一實施例提供一種掩膜版使用方法中掩膜版分類示意圖；
[0028]圖16為本公開一實施例提供一種掩膜版使用方法示意圖。
[0029]附圖標記:
[0030]I:掩膜版管理系統；11:掩膜版投入模塊；12:掩膜版檢測和處理模塊；13:掩膜版分類模塊；14:掩膜版存儲模塊;20:蒸鍍設備;200:蒸鍍腔室;201:第一蒸鍍單元;202:第二蒸鍍單元；203:第三蒸鍍單元；2011-2014:蒸鍍腔室；2021-2024:蒸鍍腔室；2031:蒸鍍腔室；100:掩膜版組；1001:第一掩膜版組；1002:第二掩膜版組；1003:第三掩膜版組；101:卡匣；102:掩膜版；1021:金屬絲；121:缺陷檢測單元；122:掩膜版清洗單元；123:掩膜版制作/維修單元；124:圖形檢測單元；125:報廢單元;001:綁定掩膜版組；128:卡匣投入模塊；129:卡匣清洗單元。
【具體實施方式】
[0031]為使本公開實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本公開實施例的附圖，對本公開實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本公開的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于所描述的本公開的實施例，本領域普通技術人員在無需創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本公開保護的范圍。
[0032]除非另外定義，本公開使用的技術術語或者科學術語應當為本公開所屬領域內具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數量或者重要性，而只是用來區分不同的組成部分。同樣，“一個”、“一”或者“該”等類似詞語也不表示數量限制，而是表示存在至少一個。“包括”或者“包含”等類似的詞語意指出現該詞前面的元件或者物件涵蓋出現在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。
[0033]如圖1所不，本公開一實施例提供一種掩膜版管理系統I，包括:掩膜版投入模塊11，掩膜版檢測和處理模塊12和掩膜版分類模塊13。
[0034]掩膜版投入模塊11被配置來提供至少一個掩膜版組，如圖2所示，每個掩膜版組100包括一個卡匣101和放置在卡匣101內的多個掩膜版102。需要說明的是，圖2的卡匣101中示出了6個掩膜版102，但本公開的實施例的卡匣101中掩膜版102的數量不以此為限，亦可為其他數量。
[0035]掩膜版檢測和處理模塊12被配置來檢測掩膜版組中的多個掩膜版，并根據檢測結果對需要處理的掩膜版進行對應的掩膜版處理。
[0036]掩膜版分類模塊13被配置來將經過處理并合格的掩膜版重新(再次)調整到掩膜版所屬的掩膜版組的卡匣中。
[0037]掩膜版組管理方式即可以保證生產的高效進行，也可保證使用前后掩膜版信息的完整統一。既保證了掩膜版投入的準確性，同時減少了掩膜版的更換時間，也避免了單片掩膜版管控的繁瑣和風險。
[0038]經過掩膜版檢測和處理模塊的掩膜版，存在判不合格(nogood，NG)情況，會出現同一個組的掩膜版分裝在不同卡匣里的情況，而掩膜版的分類管理可以使其再形成一個完整的掩膜版組，以便該掩膜版組投入使用。即在掩膜版(組)投入使用前，將多個掩膜版和一個卡匣綁定形成一個掩膜版組，以利后續投入使用。
[0039]例如，掩膜版組100可用于有機發光二極管(OLED)顯示面板的制作。以下以掩膜版組100用于有機發光二極管(OLED)顯示面板為例進行說明。有機發光二極管(OLED)顯示面板通常在蒸鍍設備中進行所需膜層的蒸鍍。例如，有機發光二極管(OLED)顯示面板包括gate層(柵極和柵線)、柵極絕緣層、有源層、data層(數據線和源漏極)、像素電極層、空穴傳輸層、空穴注入層、發光層、電子注入層、電子傳輸層、公共電極層。發光層例如包括可發出紅、綠、藍三種顏色的圖形，從而可使得顯示面板顯示彩色。發光層亦可發出其他顏色的光，本公開的實施例對此不作限定。例如，空穴傳輸層、空穴注入層、發光層、電子注入層、電子傳輸層、公共電極層可在蒸鍍設備中蒸鍍形成。在蒸鍍設備中，可在每一膜層的蒸鍍中均利用一張掩膜版，但不限于此。例如，在發光層的蒸鍍中，可以使用三張掩膜版分別形成紅色子像素、綠色子像素、藍色子像素的圖形以發出紅、綠、藍三種顏色，但不限于此。需要說明的是，有機發光二極管(OLED)顯示面板的層結構不限于上述例舉的情形。
[0040]如圖3所示，一些示例中，掩膜版檢測和處理模塊12包括:
[0041]缺陷檢測單元121，其被配置來檢測被檢測的掩膜版上是否存在異物；
[0042]掩膜版清洗單元122，其被配置來對經檢測存在缺陷的掩膜版或使用后的掩膜版進行清洗；
[0043]掩膜版制作/維修單元123，其被配置來對經檢測存在缺陷的掩膜版進行維修或者重做。
[0044]掩膜版使用后需要進行缺陷檢測。缺陷檢測主要檢測掩膜版上的異物例如顆粒物(Particle)數量，如檢測結果為NG，需要再次進行清洗。
[0045]例如，掩膜版制作/維修單元123制作/維修掩膜版后，進入掩膜版清洗單元122進行清洗，清洗后進入缺陷檢測單元121進行缺陷檢測。
[0046]—些示例中，當被檢測的掩膜版被缺陷檢測單元121第I次被判定不合格，則被送入掩膜版清洗單元122以進行清洗，當被檢測的掩膜版連續2次被判定不合格，則被送入掩膜版制作/維修單元123以進行維修或重做。
[0047]一個示例中，清洗完成的掩膜版第一次在缺陷檢測中被判NG后，需要再次進行清洗，上位系統會記錄掩膜版的NG次數為I。再次清洗完畢后，掩膜版需要再次進行缺陷檢測，如果檢測結果仍為NG，上位系統會記錄NG次數為2，對應的掩膜版會返回到掩膜版制作/維修單元進行檢查和維修處理。清洗次數過多會導致掩膜版的損壞和清洗材料的浪費。當缺陷檢測結果OK時，上位系統會將對應掩膜版的NG次數清零。
[0048]如圖4所示，一些示例中，掩膜版檢測和處理模塊12還包括:圖形檢測單元124，其被配置來檢測被檢測的掩膜版的圖形是否完好。例如，當被檢測的掩膜版被圖形檢測單元124判定為不合格，則被送入掩膜版制作/維修單元123以進行維修或重做。
[0049]如圖5所示，金屬絲1021橫縱交錯構成掩膜版102的圖形。掩膜版的圖形檢測時可檢測金屬絲1021是否完好。例如，掩膜版制作時，可將網狀的金屬絲一條一條的經張緊工序固定在金屬框上。例如，可在張緊設備上將三條網狀金屬絲固定在金屬框上構成圖5所示的掩膜版。需要說明的是，圖5只是示意性的例舉一種掩膜版，本公開的實施例中的掩膜版不限于圖中所示。
[0050]圖形(Pattern)檢測主要檢測掩膜版的金屬絲(電鍍絲)1021是否完好，如果檢測結果為NG，需要進行維修工藝。
[0051]例如，一個示例中，掩膜版第一次在圖形檢測時，如果檢測值為NG，掩膜版會返回到掩膜版制作/維修單元進行檢查和維修處理，上位系統也會記錄對應掩膜版的NG次數為
I。當圖形檢測結果OK時，上位系統會將對應掩膜版的NG次數清零。
[0052]例如，經過掩膜版檢測和處理模塊處理的掩膜版中，若在缺陷檢測和圖形檢測中被判定為不合格，則會分裝在不同卡匣里。
[0053]如圖6所示，一些示例中，掩膜版檢測和處理模塊12還包括:報廢單元125，其被配置來將不能維修的掩膜版進行報廢處理。例如，報廢處理后，可在掩膜版制作/維修單元進行重做。重做的掩膜版再經清洗、缺陷檢測和圖形檢測等后續步驟并形成掩膜版組投入使用。
[0054]如圖7所示，一些示例提供的管理系統還包括:掩膜版存儲模塊14，其被配置來暫存檢測合格后的掩膜版組100。若掩膜版組100為一個完整的掩膜版組，則可以暫存在掩膜版存儲模塊14中備用。
[0055]例如，一個示例中，掩膜版投入后，在使用前首先要到清洗單元進行清洗，清洗單元要對掩膜版的清洗次數進行管控，防止掩膜版的使用壽命超過限定值。清洗完畢后，進行缺陷檢測，如果顆粒物數量在限定范圍內，再進行圖形檢測。檢測OK后，會將掩膜版組暫存到掩膜版存儲模塊內。當需要使用掩膜版時，從掩膜版存儲模塊內調出掩膜版組，投入使用設備進行使用。使用過的掩膜版組需要回到清洗單元進行掩膜版和卡匣的清洗。循環往復。
[0056]如圖7所示，一些示例中，掩膜版組100可用于有機發光二極管(OLED)顯示面板的制作。例如掩膜版組100可用于蒸鍍設備20中。蒸鍍設備20例如為蒸鍍機。例如，掩膜版組100所包括的多個掩膜版102屬于同一類型，或者，掩膜版組100所包括的多個掩膜版102包括至少兩個不同類型的掩膜版以用于蒸鍍設備的不同蒸鍍腔室。
[0057]掩膜版組管理方式即可以保證OLED顯示面板生產的高效進行，也可保證蒸鍍前后掩膜版信息的完整統一。蒸鍍設備的每一個蒸鍍單元(蒸鍍群，evaporat1n cluster)中都有多個腔室，而不同的腔室所需的掩膜版類型不同，當掩膜版投入時需要對掩膜版類型進行管理，將掩膜版以組為單位進行管理最合適。這樣既保證了掩膜版投入的準確性，同時減少了掩膜版的更換時間，也避免了單片掩膜版管控的繁瑣和風險。
[0058]如圖8所示，卡匣投入模塊128被配置來提供卡匣，卡匣經卡匣清洗單元129清洗，再與掩膜版綁定成掩膜版組，所得掩膜版組可置于掩膜版存儲模塊14中存儲。
[0059]如圖9所示，蒸鍍設備20中有多個蒸鍍單元，每個蒸鍍單元有多個腔室200，例如，每個蒸鍍腔室中蒸鍍一個膜層。同一個蒸鍍單元中可有多個腔室用于蒸鍍同一膜層。圖9中示出了第一至第三共三個蒸鍍單元201-203，但不以此為限。第一蒸鍍單元201包括四個蒸鍍腔室2011-2014，例如，蒸鍍腔室2011和蒸鍍腔室2012可用于蒸鍍第一膜層，蒸鍍腔室2013和蒸鍍腔室2014可用于蒸鍍第二膜層，第一膜層和第二膜層各使用一種類型的掩膜版，第一掩膜版組1001可綁定兩種類型的掩膜版，例如，第一掩膜版組1001中可放置三張用于蒸鍍第一膜層的第一類型的掩膜版以及三張用于蒸鍍第二膜層的第二類型的掩膜版，但不限于此。例如，第一蒸鍍單元201內可用于蒸鍍空穴注入層和空穴傳輸層，但不限于此。第二蒸鍍單元202包括四個蒸鍍腔室2021-2024，例如，可用于蒸鍍發光層中的某一顏色子像素和電子傳輸層，第二掩膜版組1002中綁定可用于第二蒸鍍單元202的多個掩膜版，例如，可放置三張用于蒸鍍某一顏色子像素的掩膜版和三張用于蒸鍍電子傳輸層的掩膜版，但不限于此。需要說明的是，各腔室對應的掩膜版組的卡匣中綁定的掩膜版的數量可依據兩種膜層的蒸鍍時間來定，蒸鍍時間長的膜層對應的掩膜版的數量少，蒸鍍時間短的膜層對應的掩膜版的數量多，蒸鍍時間相差不多則可放置同等數量的掩膜版。例如，第三蒸鍍單元203包含一個蒸鍍腔室2031，第三掩膜版組1003中可放置多個掩膜版用于該蒸鍍腔室中膜層的蒸鍍。例如，蒸鍍腔室2031可用于蒸鍍陰極，但不以此為限。需要說明的是，本示例僅為示意性的說明，并不限于此。
[0060]一些示例中，掩膜版組的卡匣內的多個掩膜版的類型和數量，在掩膜版組被投入使用前保持不變。從而，一個掩膜版組的卡匣和與該卡匣綁定的掩膜版可以循環利用。與卡匣綁定的每個掩膜版的位置固定，從而可避免掩膜版的錯用。當蒸鍍設備需要掩膜版進行OLED面板生產時，可從掩膜版存儲模塊內調出掩膜版組，投入蒸鍍設備使用。蒸鍍使用過的掩膜版組需要回到清洗單元進行掩膜版和卡匣的清洗。循環往復。
[0061]在一個示例中，在OLED顯示面板生產用掩膜版管理系統中，掩膜版制作/維修單元123被配置來對經檢測存在缺陷的掩膜版進行制作或維修，掩膜版清洗單元122被配置來對使用后的掩膜版或經檢測存在缺陷的掩膜版進行清洗，缺陷檢測單元121被配置來進行掩膜版的缺陷檢測，掩膜版在缺陷檢測單元中被判I次NG后，返回到掩膜版清洗單元122再次清洗，掩膜版在缺陷檢測工序被判2次NG后，返回到掩膜版制作/維修單元123重新檢修，圖形檢測單元124被配置來檢測被檢測的掩膜版的圖形是否完好，掩膜版在圖形檢測單元被判NG后，返回到掩膜版制作/維修單元123重新檢修，掩膜版存儲模塊14被配置來存儲經檢測合格的掩膜版組，掩膜版分類模塊13被配置來對掩膜版進行分類，將不完整的掩膜版組調整為完整的掩膜版組，完整的掩膜版組可投入蒸鍍設備使用，掩膜版在使用完成后回到掩膜版清洗單元進行清洗。循環往復。
[0062]例如，上述掩膜版管理系統中，掩膜版清洗單元或卡匣清洗單元例如為清洗機，缺陷檢測單元例如為缺陷檢測器(顆粒物檢測儀)，圖形檢測單元例如為圖形檢測儀，掩膜版存儲模塊例如為存儲倉，但不限于此。
[0063]本公開一實施例提供一種掩膜版使用方法，如圖10所示，包括:
[0064]提供至少一個掩膜版組，每個掩膜版組包括一個卡匣和放置在卡匣內的多個掩膜版；
[0065]檢測掩膜版組中的掩膜版，并根據檢測結果對需要處理的掩膜版進行對應的掩膜版處理；
[0066]將經過掩膜版處理工序處理并合格的掩膜版重新調整到掩膜版所屬的掩膜版組。
[0067]—些示例提供的掩膜版使用方法中，對掩膜版的檢測包括缺陷檢測，以檢測被檢測的掩膜版上是否存在異物(顆粒物檢測)，然后對經檢測存在缺陷的掩膜版進行清洗，或進行維修或者重做。
[0068]通過對檢測結果的管控，可以對檢測結果不同的掩膜版進行區分，以確保掩膜版按照檢測結果選擇下一步工藝。
[0069]如圖11所示，一些示例提供的掩膜版使用方法中，當被檢測的掩膜版第I次被判定不合格，則重新進行清洗，當被檢測的掩膜版連續2次被判定不合格，則進行維修或重做。
[0070]如圖12所示，一些示例提供的掩膜版使用方法中，對掩膜版的檢測還包括圖形檢測，以檢測被檢測的掩膜版的圖形是否完好。例如，當被檢測的掩膜版被判定為不合格，則進行維修或重做。
[0071]如圖13所示，一些示例提供的掩膜版使用方法中，掩膜版處理還包括將不能維修的掩膜版進行報廢處理。
[0072]如圖14所示，一些示例提供的掩膜版使用方法還包括:暫存檢測合格后的掩膜版組。當需要使用掩膜版組時，可從暫存處(例如掩膜版存儲模塊)取出進行使用。
[0073]如圖15所示，若掩膜版組100不是一個完整的掩膜版組，則可從掩膜版存儲處(例如掩膜版存儲模塊14)調到缺陷檢測處(例如缺陷檢測單元)和/或者圖形檢測處(例如圖形檢測單元)進行分類管理，將不完整的掩膜版組調整為一個完整的掩膜版組。例如，分類時，曾經判NG的掩膜版會重新回到其對應的掩膜版組內，從而形成完整的掩膜版組。分類完成的掩膜版組可存儲待用(例如放到存儲模塊內暫存待使用)。掩膜版的分類管理，保證了掩膜版組的準確性，可防止錯誤的掩膜版投入到蒸鍍設備的腔室內，也可以減少因人員接觸掩膜版造成的破損。
[0074]一些示例提供的掩膜版使用方法中，將掩膜版組用于有機發光二極管顯示面版的制作。
[0075]—些示例提供的掩膜版使用方法中，掩膜版組所包括的多個掩膜版屬于同一類型，或者，掩膜版組所包括至少兩個不同類型的掩膜版以用于蒸鍍設備的不同蒸鍍腔室中。
[0076]—些示例提供的掩膜版使用方法還包括維持各掩膜版組的卡匣內的掩膜版的類型和數量不變。
[0077]如圖16所示，在一個示例中，在OLED顯示面板生產用掩膜版管理方法中，掩膜版制作/維修后可進行掩膜版的清洗，清洗后進行缺陷，掩膜版在缺陷檢測工序中被判I次NG后，返回到掩膜版清洗工序重新清洗，掩膜版在缺陷檢測工序被判2次NG后，返回到掩膜版制作/維修工序重新檢修，缺陷檢測合格后進行圖形檢測，掩膜版被判NG后，返回到掩膜版制作/維修工序重新檢修，圖形檢測合格后可將掩膜版組進行存儲，不完整的掩膜版可進行掩膜版的分類，將不完整的掩膜版組調整為完整的掩膜版組，完整的掩膜版組可投入蒸鍍設備使用，掩膜版在使用完成后可放入另一卡匣內(避免污染其所在的掩膜版組中的未用的掩膜版)回到掩膜版清洗工序進行清洗。循環往復。
[0078]本公開的實施例中，放置在卡匣101內的多個掩膜版102經過不同單元或工序后還要回到原來的位置上。即，一個卡匣101綁定多個掩膜版102，多個掩膜版102在卡匣內的位置固定不變，掩膜版被報廢的情況下可重做后替換被報廢的掩膜版。
[0079]本公開實施例提供的掩膜版管理方法的效果可對應參考本公開實施例提供的掩膜版管理系統，在此不再贅述。其他處亦可相互參見。
[0080]本領域技術人員應明白，本公開的實施例可提供為方法、裝置(設備)、或計算機程序產品。因此，本公開的實施例可采用完全硬件實施例、完全軟件實施例、或結合軟件和硬件方面的實施例的形式。而且，本公開的實施例可采用在一個或多個其中包含有計算機可用程序代碼的計算機可用存儲介質(包括但不限于磁盤存儲器、CD-ROM、光學存儲器等)上實施的計算機程序產品的形式。
[0081]本公開的實施例是參照根據本公開實施例的方法、裝置(設備)和計算機程序產品的流程圖和/或方框圖來描述的。應理解可由計算機程序指令實現流程圖和/或方框圖中的每一流程和/或方框、以及流程圖和/或方框圖中的流程和/或方框的結合。可提供這些計算機程序指令到通用計算機、專用計算機、嵌入式處理機或其他可編程數據處理設備的處理器以產生一個機器，使得通過計算機或其他可編程數據處理設備的處理器執行的指令產生用于實現在流程圖一個流程或多個流程和/或方框圖一個方框或多個方框中指定的功能的
目.ο
[0082]這些計算機程序指令也可存儲在能引導計算機或其他可編程數據處理設備以特定方式工作的計算機可讀存儲器中，使得存儲在該計算機可讀存儲器中的指令產生包括指令裝置的制造品，該指令裝置實現在流程圖一個流程或多個流程和/或方框圖一個方框或多個方框中指定的功能。
[0083]這些計算機程序指令也可裝載到計算機或其他可編程數據處理設備上，使得在計算機或其他可編程設備上執行一系列操作步驟以產生計算機實現的處理，從而在計算機或其他可編程設備上執行的指令提供用于實現在流程圖一個流程或多個流程和/或方框圖一個方框或多個方框中指定的功能的步驟。
[0084]例如，本公開的實施例中，掩膜版管理系統可以包括處理器、存儲器、和存儲在存儲器中的計算機程序指令;計算機程序指令被處理器運行時可實現例如掩膜版投入模塊11，掩膜版檢測和處理模塊12和掩膜版分類模塊13中至少一個指定的功能，進一步例如可實現上述掩膜版投入模塊11，掩膜版檢測和處理模塊12和掩膜版分類模塊13、掩膜版存儲模塊14、缺陷檢測單元121;掩膜版清洗單元122、掩膜版制作/維修單元123、圖形檢測單元124、報廢單元125、卡匣投入模塊128、卡匣清洗單元129中的至少一個指定的全部或部分功能。
[0085]例如，本公開的一個實施例提供一種掩膜版管理系統，包括:處理器、存儲器和存儲在存儲器中的計算機程序指令，在計算機程序指令被處理器運行時執行以下步驟:提供至少一個掩膜版組，每個所述掩膜版組包括一個卡匣和放置在所述卡匣內的多個掩膜版；檢測所述掩膜版組中的多個掩膜版，并根據檢測結果對需要處理的掩膜版進行對應的掩膜版處理;將經過處理并合格的掩膜版重新調整到所述掩膜版所屬的掩膜版組的卡匣中。
[0086]有以下幾點需要說明:
[0087](I)本公開實施例附圖中，只涉及到與本公開實施例涉及到的結構，其他結構可參考通常設計。
[0088](2)在不沖突的情況下，本公開的實施例及實施例中的特征可以相互組合。
[0089]以上所述，僅為本公開的【具體實施方式】，但本公開的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本公開揭露的技術范圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本公開的保護范圍之內。因此，本公開的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。
【主權項】
1.一種掩膜版管理系統，包括: 掩膜版投入模塊，其被配置來提供至少一個掩膜版組，每個所述掩膜版組包括一個卡匣和放置在所述卡匣內的多個掩膜版； 掩膜版檢測和處理模塊，其被配置來檢測所述掩膜版組中的多個掩膜版，并根據檢測結果對需要處理的掩膜版進行對應的掩膜版處理； 掩膜版分類模塊，其被配置來將經過處理并合格的掩膜版重新調整到所述掩膜版所屬的掩膜版組的卡匣中。2.根據權利要求1所述的管理系統，其中，所述掩膜版檢測和處理模塊包括: 缺陷檢測單元，其被配置來檢測被檢測的掩膜版上是否存在異物； 掩膜版清洗單元，其被配置來對經檢測存在缺陷的掩膜版或使用后的掩膜版進行清洗； 掩膜版制作/維修單元，其被配置來對經檢測存在缺陷的掩膜版進行維修或者重做。3.根據權利要求2所述的管理系統，其中，當所述被檢測的掩膜版被所述缺陷檢測單元第I次被判定不合格，則被送入所述掩膜版清洗單元以進行清洗，當所述被檢測的掩膜版連續2次被判定不合格，則被送入所述掩膜版制作/維修單元以進行維修或重做。4.根據權利要求2所述的管理系統，其中，所述掩膜版檢測和處理模塊還包括: 圖形檢測單元，其被配置來檢測所述被檢測的掩膜版的圖形是否完好。5.根據權利要求4所述的管理系統，其中，當所述被檢測的掩膜版被所述圖形檢測單元判定為不合格，則被送入所述掩膜版制作/維修單元以進行維修或重做。6.根據權利要求2-5任一所述的管理系統，其中，所述掩膜版檢測和處理模塊還包括: 報廢單元，其被配置來將不能維修的掩膜版進行報廢處理。7.根據權利要求1-5任一所述的管理系統，還包括: 存儲模塊，其被配置來暫存檢測合格后的所述掩膜版組。8.根據權利要求7所述的管理系統，其中，所述掩膜版組用于有機發光二極管顯示面板的制作。9.根據權利要求1所述的管理系統，其中，所述掩膜版組所包括的多個掩膜版屬于同一類型，或者，所述掩膜版組所包括的多個掩膜版包括至少兩個不同類型的掩膜版以用于蒸鍍設備的不同蒸鍍腔室。10.根據權利要求9所述的管理系統，其中，所述掩膜版組的卡匣內的所述多個掩膜版的類型和數量，在所述掩膜版組被投入使用前保持不變。11.一種掩膜版使用方法，包括: 提供至少一個掩膜版組，每個所述掩膜版組包括一個卡匣和放置在所述卡匣內的多個掩膜版； 檢測所述掩膜版組中的掩膜版，并根據檢測結果對需要處理的掩膜版進行對應的掩膜版處理； 將經過所述掩膜版處理工序處理并合格的掩膜版重新調整到所述掩膜版所屬的掩膜版組。12.根據權利要求11所述的使用方法，其中，對所述掩膜版的檢測包括缺陷檢測，以檢測被檢測的掩膜版上是否存在異物，然后對經檢測存在缺陷的掩膜版進行清洗，或進行維修或者重做。13.根據權利要求12所述的使用方法，其中，當所述被檢測的掩膜版第I次被判定不合格，則再次進行清洗，當所述被檢測的掩膜版連續2次被判定不合格，則進行維修或重做。14.根據權利要求12所述的使用方法，其中，對所述掩膜版的檢測還包括圖形檢測，以檢測所述被檢測的掩膜版的圖形是否完好。15.根據權利要求14所述的使用方法，其中，當所述被檢測的掩膜版被判定為不合格，則進行維修或重做。16.根據權利要求11-15任一所述的使用方法，其中，所述掩膜版處理還包括將不能維修的掩膜版進行報廢處理。17.根據權利要求11-15任一所述的使用方法，還包括:暫存檢測合格后的所述掩膜版組。18.根據權利要求11-15任一所述的使用方法，其中，將所述掩膜版組用于有機發光二極管顯示面版的制作。19.根據權利要求11-15任一所述的使用方法，其中，所述掩膜版組所包括的多個掩膜版屬于同一類型，或者，所述掩膜版組所包括至少兩個不同類型的掩膜版以用于蒸鍍設備的不同蒸鍍腔室中。20.根據權利要求19所述的使用方法，還包括維持各所述掩膜版組的所述卡匣內的所述掩膜版的類型和數量不變。
【文檔編號】G03F1/66GK105974729SQ201610354130
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年5月25日
【發明人】張小華, 劉少華, 劉振宇, 閆冬, 崔富毅
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司