灌注裝置、方法和系統的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種灌注裝置、方法和系統，屬于灌注技術領域。所述灌注裝置包括：第一腔室、第二腔室、移動組件和氣壓控制組件；第二腔室設置在第一腔室中，第一腔室用于放置待灌注裝置，第二腔室用于放置灌注槽；第二腔室上設置有開口，及扣置在開口上的活動擋板和擋板槽，活動擋板與擋板槽動密封；第一腔室和第二腔室均與氣壓控制組件連接；移動組件設置在第一腔室或第二腔室中，用于移動所述待灌注裝置或所述灌注槽。本發明通過移動活動擋板來實現第一腔室和第二腔室在不同氣壓下的密封，解決了相關技術中對待灌注材料產生破壞的問題，達到了能夠在不破壞待灌注材料的前提下對待灌注裝置進行脫氣處理的效果。
【專利說明】
灌注裝置、方法和系統
技術領域
[0001 ]本發明涉及灌注技術領域，特別涉及一種灌注裝置、方法和系統。
【背景技術】
[0002]目前，一些流動性的待灌注材料(如液晶)在直接注入待灌注裝置(如顯示面板)時，通常難以完全充滿待灌注裝置的內部，這就需要使用灌注裝置來將待灌注材料注入待灌注裝置的內部。
[0003]相關技術中有一種灌注裝置，該灌注裝置包括真空腔室、灌注槽和氣壓控制組件，灌注槽設置在真空腔室中且其中存儲有待灌注材料，氣壓控制組件用于控制真空腔室中的氣壓(例如對真空腔室抽真空)，在需要將待灌注材料注入待灌注裝置時，可以進行以下步驟:1、將待灌注裝置放置在真空腔室中，待灌注裝置上設置有灌注口，該灌注口將待灌注裝置的內部與外部連通;2、對待灌注材料進行脫泡處理;3、通過氣壓控制組件降低真空腔室的氣壓至預設氣壓并保持一段時間以對待灌注裝置進行脫氣處理;3、將待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料;4、將真空腔室與外部大氣連通，外部大氣壓作用在灌注槽中的待灌注材料表面，將待灌注材料壓入待灌注裝置的內部，完成待灌注材料的灌注。
[0004]在實現本發明的過程中，發明人發現現有技術至少存在以下問題:若待灌注材料為易揮發的材料，在降低真空腔室的氣壓以對待灌注裝置進行脫氣處理時，會在很大程度上加速待灌注材料的揮發(通常氣壓越低越容易揮發)，導致待灌注材料的成分發生了變化，對待灌注材料產生破壞。
【發明內容】
[0005]為了解決現有技術中若待灌注材料為易揮發的材料，在降低真空腔室的氣壓以對待灌注裝置進行脫氣處理時，會在很大程度上加速待灌注材料的揮發，導致待灌注材料的成分發生了變化，對待灌注材料產生破壞的問題，本發明實施例提供了一種灌注裝置、方法和系統。所述技術方案如下:
[0006]根據本發明的第一方面，提供了一種灌注裝置，所述灌注裝置包括:
[0007]第一腔室、第二腔室、移動組件和氣壓控制組件；
[0008]所述第二腔室設置在所述第一腔室中，所述第一腔室用于放置待灌注裝置，所述第二腔室用于放置灌注槽；
[0009]所述第二腔室上設置有開口，及扣置在所述開口上的活動擋板和擋板槽，所述活動擋板與所述擋板槽動密封，所述活動擋板能夠在所述擋板槽中沿垂直于所述活動擋板的板面的方向移動，所述活動擋板還能夠沿平行于所述活動擋板的板面的方向移動；
[0010]所述第一腔室和所述第二腔室均與所述氣壓控制組件連接，所述氣壓控制組件用于調整所述第一腔室和所述第二腔室的氣壓；
[0011 ]所述移動組件設置在所述第一腔室中，用于移動所述待灌注裝置，或者，所述移動組件設置在所述第二腔室中，用于移動所述灌注槽。
[0012]可選地，所述活動擋板上設置有液壓組件，所述液壓組件用于控制所述活動擋板沿垂直于所述活動擋板的板面的方向移動。
[0013]可選地，所述液壓組件包括分別設置在所述活動擋板兩側的第一液壓桿和第二液壓桿，所述第一液壓桿和所述第二液壓桿的長度方向均與所述活動擋板的板面垂直，
[0014]所述第一液壓桿和所述第二液壓桿均能夠沿各自的長度方向推動所述活動擋板，使所述活動擋板沿垂直于所述活動擋板的板面的方向移動。
[0015]可選地，所述氣壓控制組件包括充氣子組件和抽氣子組件，
[0016]所述充氣子組件用于對所述第一腔室或所述第二腔室進行充氣；
[0017]所述抽氣子組件用于對所述第一腔室或所述第二腔室進行抽氣。
[0018]可選地，所述活動擋板的板面與水平面平行。
[0019]根據本發明的第二方面，提供一種灌注方法，所述方法包括:
[0020]將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，所述灌注槽中存儲有待灌注材料；
[0021]將活動擋板沿垂直于所述活動擋板的板面且遠離所述第二腔室的方向移動至擋板槽的一端；
[0022]通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預設氣壓；
[0023]對所述待灌注材料進行脫泡處理；
[0024]將所述活動擋板移動至所述擋板槽的另一端；
[0025]通過所述氣壓控制組件降低所述第二腔室中的氣壓至所述第一預設氣壓；
[0026]沿平行于所述活動擋板的板面的方向移動所述活動擋板，使所述第二腔室與所述第一腔室連通；
[0027]通過移動組件使所述待灌注裝置的灌注口浸入所述灌注槽中的所述待灌注材料；
[0028]通過所述氣壓控制組件升高所述第一腔室中的氣壓，使所述灌注材料注入所述待灌注裝置。
[0029]可選地，所述通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預設氣壓，包括:
[0030]通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預設氣壓并封閉所述第一腔室持續第一預設時間段。
[0031]可選地，所述對所述待灌注材料進行脫泡處理，包括:
[0032]通過所述氣壓控制組件升高并降低所述第二腔室中的氣壓預設次數以對所述待灌注材料進行脫泡處理；
[0033]通過所述氣壓控制組件降低所述第二腔室中的氣壓至第二預設氣壓，所述第二預設氣壓大于所述第一預設氣壓。
[0034]可選地，所述第二預設氣壓小于或等于一千帕。
[0035]可選地，所述通過所述氣壓控制組件升高所述第一腔室中的氣壓，包括:
[0036]通過所述氣壓控制組件向所述第一腔室中注入氮氣以升高所述第一腔室中的氣壓。
[0037]可選地，所述將所述活動擋板移動至所述擋板槽的另一端，包括:
[0038]將所述活動擋板移動至所述擋板槽的另一端并封閉所述第二腔室持續第二預設時間段。
[0039]可選地，所述將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，包括:
[0040]將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，且將所述待灌注裝置的灌注口與所述灌注槽在預設方向上對位。
[0041]根據本發明的第三方面，提供一種灌注系統，所述系統包括灌注裝置、待灌注裝置和灌注槽，所述灌注槽中存儲有待灌注材料，
[0042]所述灌注裝置包括:第一腔室、第二腔室、移動組件和氣壓控制組件;所述第二腔室設置在所述第一腔室中；
[0043]所述待灌注裝置放置在所述第一腔室中，所述灌注槽放置在所述第二腔室中。
[0044]本發明實施例提供的技術方案帶來的有益效果是:
[0045]通過在用于放置待灌注裝置的第一腔室中設置較小的第二腔室來放置灌注槽，并在第二腔室上設置活動擋板和擋板槽，通過移動活動擋板來實現第一腔室和第二腔室在不同氣壓下的密封，解決了相關技術中在降低真空腔室的氣壓以對待灌注裝置進行脫氣處理時，會在很大程度上加速待灌注材料的揮發，導致待灌注材料的成分發生了變化，對待灌注材料產生破壞的問題，達到了能夠在不破壞待灌注材料的前提下對待灌注裝置進行脫氣處理的效果。
【附圖說明】
[0046]為了更清楚地說明本發明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0047]圖1是本發明實施例示出的一種灌注裝置的結構示意圖；
[0048]圖2-1是本發明實施例示出的另一種灌注裝置的結構示意圖；
[0049]圖2-2是圖2-1所示實施例中活動擋板的結構示意圖；
[0050]圖3-1是本發明實施例提供的一種灌注方法的流程圖；
[0051]圖3-2是圖3-1所示的灌注方法中灌注裝置的結構示意圖；
[0052]圖3-3是圖3-1所示的灌注方法中脫泡處理的流程圖；
[0053]圖3-4是圖3-1所示的灌注方法中灌注裝置的結構示意圖。
[0054]上述各個附圖中，附圖標識的含義可以為:11-第一腔室，12-第二腔室，13-移動組件，14-氣壓控制組件，121-活動擋板，122-擋板槽，a-垂直于活動擋板的板面的方向，b-平行于活動擋板的板面的方向，123a-第一液壓桿，123b-第二液壓桿，141-充氣子組件，142-抽氣子組件，20-灌注槽，30-待灌注裝置，31-灌注口。
[0055]通過上述附圖，已示出本發明明確的實施例，后文中將有更詳細的描述。這些附圖和文字描述并不是為了通過任何方式限制本發明構思的范圍，而是通過參考特定實施例為本領域技術人員說明本發明的概念。
【具體實施方式】
[0056]為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖對本發明實施方式作進一步地詳細描述。
[0057]圖1是本發明實施例示出的一種灌注裝置的結構示意圖。該灌注裝置可以包括:
[0058]第一腔室11、第二腔室12、移動組件13和氣壓控制組件14。
[0059]第二腔室12設置在第一腔室11中，第一腔室11用于放置待灌注裝置，第二腔室12用于放置灌注槽。
[0060]第二腔室12上設置有開口，及扣置在開口上的活動擋板121和擋板槽122，活動擋板121與擋板槽122動密封，活動擋板121能夠在擋板槽122中沿垂直于活動擋板121的板面的方向a移動，活動擋板121還能夠沿平行于活動擋板121的板面的方向b移動。
[0061]第一腔室11和第二腔室12均與氣壓控制組件14連接，氣壓控制組件14用于調整第一腔室11和第二腔室12的氣壓。
[0062]移動組件13設置在第一腔室11中，用于移動待灌注裝置，或者，移動組件13設置在第二腔室12中，用于移動灌注槽(圖1示出的是移動組件13設置在第二腔室12中的情況)。具體的，在移動組件13設置在第一腔室11中時，移動組件13可以用于移動待灌注裝置，并將待灌注裝置的灌注口浸入到灌注槽的待灌注材料中；而在移動組件13設置在第二腔室12中時，移動組件13可以用于移動灌注槽，并使灌注槽中待灌注材料與待灌注裝置的灌注口接觸。
[0063]綜上所述，發明實施例提供的灌注裝置，通過在用于放置待灌注裝置的第一腔室中設置較小的第二腔室來放置灌注槽，并在第二腔室上設置活動擋板和擋板槽，通過移動活動擋板來實現第一腔室和第二腔室在不同氣壓下的密封，解決了相關技術中在降低真空腔室的氣壓以對待灌注裝置進行脫氣處理時，會在很大程度上加速待灌注材料的揮發，導致待灌注材料的成分發生了變化，對待灌注材料產生破壞的問題，達到了能夠在不破壞待灌注材料的前提下對待灌注裝置進行脫氣處理的效果。
[0064]進一步的，請參考圖2-1，其示出了本發明實施例提供的另一種灌注裝置的結構示意圖，該灌注裝置在圖1所示的灌注裝置的基礎上增加了更優選的部件，從而使得本發明實施例提供的灌注裝置具有更好的性能。
[0065]可選地，活動擋板121上設置有液壓組件123，液壓組件123用于控制活動擋板121沿垂直于活動擋板121的板面的方向a移動。
[0066]進一步的，液壓組件123可以包括分別設置在活動擋板121兩側的第一液壓桿123a和第二液壓桿123b，第一液壓桿123a和第二液壓桿123b的長度方向均與活動擋板121的板面垂直，第一液壓桿123a和第二液壓桿123b均能夠沿各自的長度方向推動活動擋板121，使活動擋板121沿垂直于活動擋板的板面的方向a移動。即活動擋板121在擋板槽122中移動時，均可以是由對應的液壓桿來驅動的，這樣可以確保活動擋板121移動時的穩定性及活動擋板121與擋板槽122之間的密封性能。其中，如圖2-2所示，活動擋板121可以為矩形擋板，第一液壓桿123a和第二液壓桿123b可以均為兩根，且分別間隔設置在活動擋板121的四個角落，其中，實線圈代表設置在活動擋板121—側的第一液壓桿123a，虛線圈代表設置在活動擋板121另一側的第二液壓桿123b。
[0067]活動擋板121可以設置有移動組件，該移動組件用于在平行于活動擋板121的板面的方向上移動活動擋板121，該移動組件可以是設置在第一腔室中的推桿，該推桿可以由液壓組件提供動力，用于在平行于活動擋板121的板面的方向上推動活動擋板121，擋板槽122的一側可以設置有開口(該開口可以是可以打開或關閉的開口，圖2-1中未示出該開口)，該移動組件可以將活動擋板121從該開口推出，使第一腔室11和第二腔室12連通。
[0068]在圖2-1中，氣壓控制組件14包括充氣子組件141和抽氣子組件142，充氣子組件141用于對第一腔室11或第二腔室12進行充氣。其中第一腔室11和第二腔室12可以共用充氣子組件，示例性的，充氣子組件141可以包括兩個充氣閥和氣體源，該氣體源用于提供沖入第一腔室11和第二腔室12中的氣體，該氣體可以為氮氣，而這兩個充氣閥可以分別設置在第一腔室11和第二腔室12上，設置在第一腔室11和第二腔室12上的充氣閥可以與灌注裝置的外部或其它組件連接。此外，第一腔室11和第二腔室12還可以分別設置有氣體源，本發明實施例不作出限制。
[0069]抽氣子組件142用于對第一腔室11或第二腔室12進行抽氣。其中，抽氣子系統142可以包括分別設置在第一腔室11和第二腔室12上的兩個電磁閥以及真空栗，真空栗用于對第一腔室11和第二腔室12進行抽真空，而設置在第一腔室11和第二腔室12上的電磁閥用于調節真空栗抽真空的速度，此外，真空栗上還可以設置有兩個抽氣閥，這兩個抽氣閥用于作為真空栗對第一腔室11和第二腔室12是否進行抽真空的開關。此外，第一腔室11和第二腔室12還可以分別設置有真空栗，即第一腔室11和第二腔室12可以由各自的真空栗、抽氣閥和電磁閥所組成的抽氣子組件來進行抽氣。
[0070]需要說明的是，對于第二腔室12，充氣子組件141和抽氣子組件142可以配合對第二腔室12進行充氣與抽氣，以完成對第二腔室12中的待灌注材料的脫泡處理(除去待灌注材料中的氣泡)，該待灌注材料可以為具有流動性的材料，例如液晶或電致變色電解液，灌注槽中可以設置有海綿條，用于方便液晶的灌注。而對于第一腔室11，抽氣子組件142可以直接將第一腔室11的氣壓降低至一個較低的水平，比如第一預設氣壓(在待灌注材料為液晶時，第一預設氣壓可以為I帕，在待灌注材料為電致變色電解液時，第一預設氣壓可以為40帕)，并保持住，以對第一腔室11中的待灌注裝置進行脫氣處理(去除待灌注裝置內部的氣體)，其中，待灌注裝置可以為未灌注液晶的液晶面板。因為第一腔室11中未設置有灌注槽，因而可以將第一腔室11中的氣壓降低到一個較低的水平(低于相關技術中進行脫氣處理時的氣壓)，以提高脫氣速率與效果。
[0071]此外，由于第一腔室11和第二腔室12為兩個可以進行獨立密封的腔室，因此對待灌注材料的脫泡處理和對待灌注裝置的脫氣處理可以同時進行，這樣可以加速對待灌注裝置的灌注，提高了灌注效率。而相關技術中的灌注裝置中，待灌注裝置和待灌注材料處于同一個真空腔室中，因而首先要通過對真空腔室進行數次的抽氣和放氣以對待灌注材料進行脫泡處理，之后再將真空腔室抽至氣壓降低至一個較低的水平并維持一段時間，以對待灌注裝置進行脫氣處理，由于該真空腔室需要容納待灌注裝置，因而通常較大，若待灌注材料的飽和蒸氣壓(在密閉條件中，在一定溫度下，與液體處于相平衡的蒸氣所具有的壓強稱為飽和蒸氣壓)較高，真空腔室中的氣壓越低，待灌注材料越容易揮發，因而降低真空腔室的氣壓的難度較高，即使通過增強真空栗的性能強行降低真空腔室的氣壓，也會由于待灌注材料的大量揮發而對待灌注材料造成破壞，揮發的待灌注材料也會對真空栗造成污染。但若為了避免待灌注材料的揮發而縮小低氣壓的維持時間，待灌注裝置中的氣體殘留又會較多，導致后續待灌注裝置無法灌滿待灌注材料。
[0072]可選地，活動擋板121的板面與水平面平行。這樣活動擋板121就可以在豎直方向上移動，在活動擋板121向朝向第二腔室12內部的方向移動到擋板槽122的一端時，活動擋板121的重力能夠進一步的提高活動擋板121與擋板槽122之間的密封性能。可選的，活動擋板121可以由金屬來構成，以提高活動擋板的重量以及堅固程度，使得活動擋板121與擋板槽122之間的密封性能能夠達到較高的水平。
[0073]綜上所述，發明實施例提供的灌注裝置，通過在用于放置待灌注裝置的第一腔室中設置較小的第二腔室來放置灌注槽，并在第二腔室上設置活動擋板和擋板槽，通過移動活動擋板來實現第一腔室和第二腔室在不同氣壓下的密封，解決了相關技術中在降低真空腔室的氣壓以對待灌注裝置進行脫氣處理時，會在很大程度上加速待灌注材料的揮發，導致待灌注材料的成分發生了變化，對待灌注材料產生破壞的問題，達到了能夠在不破壞待灌注材料的前提下對待灌注裝置進行脫氣處理的效果。
[0074]圖3-1是本發明實施例提供的一種灌注方法的流程圖，該灌注方法能夠用于將待灌注材料灌注到待灌注裝置中。該灌注方法可以包括下面幾個步驟:
[0075]步驟301，將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，灌注槽中存儲有待灌注材料。
[0076]在使用本發明實施例提供的灌注方法時，首先可以將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，灌注槽中存儲有待灌注材料。示例性的，待灌注裝置可以為未灌注液晶的液晶面板，待灌注材料可以為液晶，灌注槽中可以設置有海綿條。
[0077]可選的，本步驟在放置待灌注裝置以及灌注槽時，可以將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，且將待灌注裝置的灌注口與灌注槽在預設方向上對位，這樣可以方便后續將待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料內。
[0078]本發明實施例提供的灌注方法可以應用于圖1或圖2-1所示的灌注裝置。
[0079]以圖2-1所示的灌注裝置為例，本步驟結束時，灌注裝置中的結構可以如圖3-2所示，其中30為待灌注裝置，31為灌注口，20為灌注槽。圖3-2中其他標識的含義可以參考圖2-1，在此不再贅述。
[0080]步驟302，將活動擋板沿垂直于活動擋板的板面且遠離第二腔室的方向移動至擋板槽的一端。
[0081]在要將第一腔室的氣壓降低至第一預設氣壓時，首先可以將活動擋板沿垂直于活動擋板的板面且遠離第二腔室的方向移動至擋板槽的一端，以提高活動擋板和擋板槽之間的密封性能。
[0082]以圖2-1示出的灌注裝置為例，可以通過活動擋板上設置在靠近第二腔室內部的一側的液壓桿來推動活動擋板，以將活動擋板沿垂直于活動擋板的板面且遠離第二腔室的方向移動至擋板槽的一端。
[0083]步驟303，通過氣壓控制組件降低第一腔室中的氣壓至第一預設氣壓。
[0084]在將活動擋板沿垂直于活動擋板的板面且遠離第二腔室的方向移動至擋板槽的一端后，可以通過氣壓控制組件降低第一腔室中的氣壓至第一預設氣壓。由于此時活動擋板位于擋板槽的一端，在降低第一腔室中的氣壓時，活動擋板會緊緊的壓在該擋板槽的一端上，提高了活動擋板與擋板槽之間的密封性能。
[0085]可選的，通過氣壓控制組件降低第一腔室中的氣壓至第一預設氣壓并封閉第一腔室持續第一預設時間段。持續第一預設時間段可以使待灌注裝置內部的氣體較為完全的排出到第一腔室中，且由于待灌裝置內部的容積相對與第一腔室非常小，因而待灌注裝置內部的氣體對第一腔室的氣壓造成的影響可以忽略。
[0086]步驟302和步驟303為對待灌注裝置進行脫氣處理的步驟。
[0087]步驟304，對待灌注材料進行脫泡處理。
[0088]在將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中后，可以對待灌注材料進行脫泡處理，即步驟304可以在步驟301之后執行，步驟304可以與步驟302S卩303同時執行，以提高本發明實施例提供的灌注方法的灌注速度。
[0089]具體的，如圖3-3所示，脫泡處理的過程可以包括下面兩個子步驟:
[0090]子步驟3041，通過氣壓控制組件升高并降低第二腔室中的氣壓預設次數以對待灌注材料進行脫泡處理。
[0091]在進行脫泡處理時，首先可以通過氣壓控制組件升高并降低第二腔室中的氣壓預設次數以對待灌注材料進行脫泡處理。以圖2-1示出的灌注裝置為例，可以通過切換電磁閥和充氣閥來升高并降低第二腔室中的氣壓預設次數以對待灌注材料進行脫泡處理。
[0092]子步驟3042，通過氣壓控制組件降低第二腔室中的氣壓至第二預設氣壓，第二預設氣壓大于第一預設氣壓。
[0093]在對待灌注材料進行脫泡處理之后，可以通過氣壓控制組件降低第二腔室中的氣壓至第二預設氣壓，第二預設氣壓大于第一預設氣壓。第二預設氣壓大于第一預設氣壓且第二預設氣壓小于或等于一千帕，這樣能夠避免待灌注材料長期處于一個較低的氣壓而快速揮發。
[0094]步驟305，將活動擋板移動至擋板槽的另一端。
[0095]在完成對待灌注材料的脫泡處理后，可以將活動擋板移動至擋板槽的另一端。以準備繼續降低第二腔室的氣壓。其中擋板槽的另一端是指擋板槽靠近第二腔室的一端，由于此時第二腔室中的氣壓為第二預設氣壓，雖然第二預設氣壓大于第一預設氣壓，但第二預設氣壓與第一預設氣壓相差不是很大，將活動擋板移動至擋板槽的另一端不會對活動擋板和擋板槽之間的密封性能造成較大的影響。以圖2-1示出的灌注裝置為例，可以通過活動擋板上設置在遠離第二腔室內部的一側的液壓桿來推動活動擋板，以將活動擋板沿垂直于活動擋板的板面且靠近第二腔室的方向移動至擋板槽的另一端。
[0096]可選的，將活動擋板移動至擋板槽的另一端并封閉第二腔室持續第二預設時間段。這樣能夠使第二腔室中的氣壓達到平衡的狀態，為后續進一步降低氣壓做準備。
[0097]步驟306，通過氣壓控制組件降低第二腔室中的氣壓至第一預設氣壓。
[0098]在將活動擋板移動至擋板槽的另一端后，可以快速的通過氣壓控制組件降低第二腔室中的氣壓至第一預設氣壓。由于第二腔室用于放置灌注槽，第二腔室可以較小，因而降低第二腔室的氣壓至第一預設氣壓較為容易。
[0099]步驟307，沿平行于活動擋板的板面的方向移動活動擋板，使第二腔室與第一腔室連通。
[0100]在降低第二腔室中的氣壓至第一預設氣壓后，可以沿平行于活動擋板的板面的方向移動活動擋板，使第二腔室與第一腔室連通。以圖2-1示出的灌注裝置為例，可以使壓住活動擋板的液壓桿松開，之后沿平行于活動擋板的板面的方向將活動擋板抽出，使第二腔室與第一腔室連通。
[0101]步驟308，通過移動組件使待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料。
[0102]在第一腔室和第二腔室連通后，可以通過移動組件使待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料。移動組件可以設置在第一腔室或第二腔室中，用于使待灌注裝置的灌注口浸入到灌注槽的待灌注材料中。具體的，在移動組件設置在第一腔室中時，移動組件可以用于移動待灌注裝置，并將待灌注裝置的灌注口浸入到灌注槽的待灌注材料中；而在移動組件設置在第二腔室中時，移動組件可以用于移動灌注槽，并使灌注槽中待灌注材料與待灌注裝置的灌注口接觸。
[0103]待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料后，灌注槽中的待灌注材料會由于毛細現象而慢慢的從灌注口流入待灌注裝置。
[0104]以圖2-1所示的灌注裝置為例，本步驟結束時，灌注裝置中的結構可以如圖3-4所示，其中30為待灌注裝置，31為灌注口，20為灌注槽，灌注口 31浸入帶灌注槽20中的待灌注材料。圖3-4中其他標識的含義可以參考圖2-1，在此不再贅述。
[0105]步驟309，通過氣壓控制組件升高第一腔室中的氣壓，使灌注材料注入待灌注裝置。
[0106]在將待灌注裝置的灌注口浸入灌注槽中的待灌注材料后，可以通過氣壓控制組件升高第一腔室中的氣壓，使待灌注材料注入待灌注裝置。可選的，可以緩慢的升高第一腔室中的氣壓，避免第一腔室中的氣壓變化速度過快。第一腔室中的氣壓升高后，第一腔室中的氣壓就會大于待灌注裝置內部的氣壓，這樣第一腔室中的氣壓會作用在灌注槽中的待灌注材料表面，將待灌注材料壓入待灌注裝置。可選的，可以通過氣壓控制組件向第一腔室中注入氮氣以升高第一腔室中的氣壓。氮氣是一種常見的化學性質不活潑的氣體，用于提高第一腔室中的氣壓能夠起到保護待灌注材料的效果。此外，在本步驟執行之前，可以將灌注裝置靜置一段時間，使第一腔室中氣壓趨于穩定。
[0107]在完成了待灌注裝置的灌注后，可以打開第一腔室將待灌注裝置取出。
[0108]綜上所述，發明實施例提供的灌注方法，通過在用于放置待灌注裝置的第一腔室中設置較小的第二腔室來放置灌注槽，并在第二腔室上設置活動擋板和擋板槽，通過移動活動擋板來實現第一腔室和第二腔室在不同氣壓下的密封，解決了相關技術中在降低真空腔室的氣壓以對待灌注裝置進行脫氣處理時，會在很大程度上加速待灌注材料的揮發，導致待灌注材料的成分發生了變化，對待灌注材料產生破壞的問題，達到了能夠在不破壞待灌注材料的前提下對待灌注裝置進行脫氣處理的效果。
[0109]本發明實施例還提供一種灌注系統，該系統可以包括灌注裝置、待灌注裝置和灌注槽，灌注槽中存儲有待灌注材料。
[0110]灌注裝置包括:第一腔室、第二腔室、移動組件和氣壓控制組件;第二腔室設置在第一腔室中。該灌注裝置可以為圖1或圖2-1示出的灌注裝置。
[0111]待灌注裝置放置在第一腔室中，灌注槽放置在第二腔室中。
[0112]本領域普通技術人員可以理解實現上述實施例的全部或部分步驟可以通過硬件來完成，也可以通過程序來指令相關的硬件完成，所述的程序可以存儲于一種計算機可讀存儲介質中，上述提到的存儲介質可以是只讀存儲器，磁盤或光盤等。
[0113]以上所述僅為本發明的較佳實施例，并不用以限制本發明，凡在本發明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種灌注裝置，其特征在于，所述灌注裝置包括: 第一腔室、第二腔室、移動組件和氣壓控制組件； 所述第二腔室設置在所述第一腔室中，所述第一腔室用于放置待灌注裝置，所述第二腔室用于放置灌注槽； 所述第二腔室上設置有開口，及扣置在所述開口上的活動擋板和擋板槽，所述活動擋板與所述擋板槽動密封，所述活動擋板能夠在所述擋板槽中沿垂直于所述活動擋板的板面的方向移動，所述活動擋板還能夠沿平行于所述活動擋板的板面的方向移動； 所述第一腔室和所述第二腔室均與所述氣壓控制組件連接，所述氣壓控制組件用于調整所述第一腔室和所述第二腔室的氣壓； 所述移動組件設置在所述第一腔室中，用于移動所述待灌注裝置，或者，所述移動組件設置在所述第二腔室中，用于移動所述灌注槽。2.根據權利要求1所述的灌注裝置，其特征在于，所述活動擋板上設置有液壓組件，所述液壓組件用于控制所述活動擋板沿垂直于所述活動擋板的板面的方向移動。3.根據權利要求2所述的灌注裝置，其特征在于，所述液壓組件包括分別設置在所述活動擋板兩側的第一液壓桿和第二液壓桿，所述第一液壓桿和所述第二液壓桿的長度方向均與所述活動擋板的板面垂直， 所述第一液壓桿和所述第二液壓桿均能夠沿各自的長度方向推動所述活動擋板，使所述活動擋板沿垂直于所述活動擋板的板面的方向移動。4.根據權利要求1所述的灌注裝置，其特征在于，所述氣壓控制組件包括充氣子組件和抽氣子組件， 所述充氣子組件用于對所述第一腔室或所述第二腔室進行充氣； 所述抽氣子組件用于對所述第一腔室或所述第二腔室進行抽氣。5.根據權利要求1至4任一所述的灌注裝置，其特征在于，所述活動擋板的板面與水平面平行。6.一種灌注方法，其特征在于，所述方法包括: 將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，所述灌注槽中存儲有待灌注材料； 將活動擋板沿垂直于所述活動擋板的板面且遠離所述第二腔室的方向移動至擋板槽的一端； 通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預設氣壓； 對所述待灌注材料進行脫泡處理； 將所述活動擋板移動至所述擋板槽的另一端； 通過所述氣壓控制組件降低所述第二腔室中的氣壓至所述第一預設氣壓； 沿平行于所述活動擋板的板面的方向移動所述活動擋板，使所述第二腔室與所述第一腔室連通； 通過移動組件使所述待灌注裝置的灌注口浸入所述灌注槽中的所述待灌注材料； 通過所述氣壓控制組件升高所述第一腔室中的氣壓，使所述灌注材料注入所述待灌注目.ο7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預設氣壓，包括: 通過氣壓控制組件降低所述第一腔室中的氣壓至第一預設氣壓并封閉所述第一腔室持續第一預設時間段。8.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述對所述待灌注材料進行脫泡處理，包括: 通過所述氣壓控制組件升高并降低所述第二腔室中的氣壓預設次數以對所述待灌注材料進行脫泡處理； 通過所述氣壓控制組件降低所述第二腔室中的氣壓至第二預設氣壓，所述第二預設氣壓大于所述第一預設氣壓。9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述第二預設氣壓小于或等于一千帕。10.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述通過所述氣壓控制組件升高所述第一腔室中的氣壓，包括: 通過所述氣壓控制組件向所述第一腔室中注入氮氣以升高所述第一腔室中的氣壓。11.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述將所述活動擋板移動至所述擋板槽的另一端，包括: 將所述活動擋板移動至所述擋板槽的另一端并封閉所述第二腔室持續第二預設時間段。12.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，包括: 將待灌注裝置放置在第一腔室中，將灌注槽放置在第二腔室中，且將所述待灌注裝置的灌注口與所述灌注槽在預設方向上對位。13.一種灌注系統，其特征在于，所述系統包括灌注裝置、待灌注裝置和灌注槽，所述灌注槽中存儲有待灌注材料， 所述灌注裝置包括:第一腔室、第二腔室、移動組件和氣壓控制組件;所述第二腔室設置在所述第一腔室中； 所述待灌注裝置放置在所述第一腔室中，所述灌注槽放置在所述第二腔室中。
【文檔編號】G02F1/1341GK105929609SQ201610245254
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年4月19日
【發明人】朱小研, 康昭, 田彪, 楊添
【申請人】京東方科技集團股份有限公司