陣列基板及其制作方法、顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發明涉及顯示技術領域，公開了一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置。所述陣列基板包括絕緣層和位于非顯示區域的導電結構，所述絕緣層包括至少一個位于非顯示區域的開口，所述開口與所述導電結構的位置一一對應，所述導電結構位于所述開口內，使得所述導電結構的表面低于所述絕緣層的表面，從而在取向膜的摩擦取向過程中，摩擦布不與導電材料接觸，與摩擦布接觸的均為絕緣材料，高速摩擦產生的靜電不存在差異，進而對摩擦布的布毛的影響不存在差異，保證摩擦取向質量，提高畫面品質。
【專利說明】
陣列基板及其制作方法、顯示裝置
技術領域
[0001]本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置。
【背景技術】
[0002]目前，薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-1XD)已成為主流的顯示產品，其顯示品質隨制造工藝技術的進步而不斷優化，隨著對產品品質要求的不斷提高，繼而對制作工藝的要求也越來越高。
[0003]TFT-LCD的主體結構為液晶顯示面板，液晶顯示面板包括對盒的陣列基板和彩膜基板，以及填充在陣列基板和彩膜基板之間的液晶。陣列基板的非顯示區域包括端子區域，所述端子區域包括多個端子，每一端子包括裸露在外的透明導電層，用于與驅動芯片的引腳連接，為顯示區域提供顯示所需的信號。
[0004]為了使液晶分子能夠正確地取向，會在陣列基板和彩膜基板顯示區域的內側表面涂上一層取向膜，并通過摩擦取向工藝在取向膜上形成取向溝槽，為液晶分子提供一定的預傾角。
[0005]陣列基板除了顯示區域裸露在外取向膜外，還包括非顯示區域的保護層10'和端子I\結合圖1和圖2所示，保護層1(T是絕緣材料，而端子I'是導電材料，因此在高速摩擦時產生的靜電有所差異，因此，對摩擦布的布毛的影響存在差異，將會導致布毛紊亂，造成保護層10'和端子I'相接處的布毛方向不一致，直接造成摩擦不良，影響畫面品質。
【發明內容】
[0006]本發明提供一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置，用以解決因靜電差異導致的取向膜摩擦取向不良問題。
[0007]為解決上述技術問題，本發明實施例中提供一種陣列基板，包括顯示區域和位于顯示區域外圍的非顯示區域，所述陣列基板包括絕緣層，所述絕緣層包括至少一個位于所述非顯示區域的開口，所述非顯示區域包括至少一個導電結構，所述開口與所述導電結構的位置一一對應，所述導電結構位于所述開口內。
[0008]如上所述的陣列基板，優選的是，所述導電結構由透明導電材料制得。
[0009]如上所述的陣列基板，優選的是，所述陣列基板還包括柵線和數據線，用于限定多個像素區域；
[0010]所述陣列基板的非顯示區域還包括與所述柵線同層的第一金屬線和與所述數據線同層的第二金屬線，所述第一金屬線和所述第二金屬線一一對應且電性連接；
[0011]所述第一金屬線和第二金屬線與所述導電結構一一對應且電性連接。
[0012]如上所述的陣列基板，優選的是，所述陣列基板還包括柵線和數據線，用于限定多個像素區域；
[0013]所述陣列基板的非顯示區域還包括與所述柵線同層的第一金屬線，所述第一金屬線與所述導電結構一一對應且電性連接。
[0014]如上所述的陣列基板，優選的是，所述陣列基板還包括柵線和數據線，用于限定多個像素區域；
[0015]所述陣列基板的非顯示區域還包括與所述數據線同層的第二金屬線，所述第二金屬線與所述導電結構一一對應且電性連接。
[0016]本發明實施例中還提供一種顯示裝置，包括如上所述的陣列基板。
[0017]本發明實施例中還提供如上所述的陣列基板的制作方法，所述陣列基板包括顯示區域和位于顯示區域外圍的非顯示區域，所述制作方法包括:
[0018]形成絕緣層；
[0019]在所述絕緣層中形成至少一個位于所述非顯示區域的開口；
[0020]在所述非顯示區域形成至少一個導電結構，所述開口與所述導電結構的位置一一對應，所述導電結構位于所述開口內。
[0021]如上所述的制作方法，優選的是，所述制作方法具體包括:
[0022]形成所述絕緣層；
[0023]在所述絕緣層中形成所述開口；
[0024]在所述開口內形成所述導電結構。
[0025]如上所述的制作方法，優選的是，所述制作方法具體包括:
[0026]形成所述導電結構；
[0027]在所述導電結構上形成所述絕緣層；
[0028]在所述絕緣層中形成所述開口。
[0029]如上所述的制作方法，優選的是，利用透明導電材料形成所述導電結構。
[0030]本發明的上述技術方案的有益效果如下:
[0031]上述技術方案中，所述陣列基板包括絕緣層和位于非顯示區域的導電結構，所述絕緣層包括至少一個位于非顯示區域的開口，所述開口與所述導電結構的位置一一對應，所述導電結構位于所述開口內，使得所述導電結構的表面低于所述絕緣層的表面，從而在取向膜的摩擦取向過程中，摩擦布不與導電材料接觸，與摩擦布接觸的均為絕緣材料，高速摩擦產生的靜電不存在差異，進而對摩擦布的布毛的影響不存在差異，保證摩擦取向質量，提尚畫面品質。
【附圖說明】
[0032]為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0033]圖1表示現有技術中陣列基板的端子區域的局部剖視圖；
[0034]圖2表示現有技術中陣列基板的端子區域的局部俯視圖；
[0035]圖3表示本發明實施例中陣列基板的局部剖視圖一；
[0036]圖4表示本發明實施例中陣列基板的局部剖視圖二；
[0037]圖5表示本發明實施例中陣列基板的局部剖視圖三；
[0038]圖6表示本發明實施例中陣列基板的局部剖視圖四；
[0039]圖7表示現有技術中陣列基板的端子區域的局部俯視圖。
【具體實施方式】
[0040]下面將結合附圖和實施例，對本發明的【具體實施方式】作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本發明，但不用來限制本發明的范圍。
[0041 ] 實施例一
[0042]結合圖3-圖6所示，本實施例中提供一種陣列基板，包括顯示區域和位于顯示區域外圍的非顯示區域，所述非顯示區域包括設置在基底100上的至少一個導電結構I，所述導電結構通常由透明導電材料制得，因為相對于金屬材料，透明導電材料不易被氧化。其中，導電結構I可以與像素電極或公共電極同層制作，以簡化制作工藝，降低成本。
[0043]所述陣列基板還包括設置在基底100上的絕緣層11，絕緣層11包括至少一個位于非顯示區域的開口 12，開口 12與導電結構I的位置一一對應，導電結構I位于開口 12內，使得導電結構I遠離基底100的表面相對于絕緣層11遠離基底100的表面更靠近基底100。
[0044]上述陣列基板，導電結構I位于開口12內，使得導電結構I遠離基底100的表面相對于絕緣層11遠離基底100的表面更靠近基底100，即，導電結構I的表面低于絕緣層11的表面，從而在取向膜的摩擦取向過程中，摩擦布不與導電材料接觸，與摩擦布接觸的均為絕緣材料，高速摩擦產生的靜電不存在差異，進而對摩擦布的布毛的影響不存在差異，保證摩擦取向質量，提尚畫面品質。
[0045]所述陣列基板還包括位于顯示區域的各顯示膜層結構，如:柵線、數據線、像素電極等。其中，所述柵線和數據線用于限定多個像素區域，每一像素區域包括所述像素電極，所述像素電極與公共電極之間形成驅動液晶分子偏轉的電場。所述取向膜用于對液晶分子進行取向，使液晶分子規則排列。所述公共電極可以設置在陣列基板上，也可以設置在彩膜基板上。當所述公共電極設置在陣列基板上時，導電結構I可以與所述公共電極同層制作；當所述公共電極設置在彩膜基板上時，導電結構I可以與所述像素電極同層制作，以簡化制作工藝。另外，導電結構I由透明導電材料制得，暴露在外，不易被氧化。
[0046]為了降低傳輸電阻，本實施例中，所述陣列基板的非顯示區域還包括與所述柵線同層的第一金屬線2和/或與所述數據線同層的第二金屬線3，用于傳輸信號。圖3和圖5中示意的陣列基板，所述陣列基板的非顯示區域包括第一金屬線2和第二金屬線3，第一金屬線2和第二金屬線3的位置一一對應且電性連接，第一金屬線2與第二金屬線3之間具有絕緣層10，第一金屬線2和第二金屬線3具體通過絕緣層10中的過孔電性連接。導電結構I與第一金屬線2和第二金屬線3—一對應且電性連接。圖4和圖6中示意的陣列基板，所述陣列基板的非顯示區域僅包括第一金屬線2，所述陣列基板的非顯示區域也可以僅包括第二金屬線，導電結構與第二金屬線一一對應且電性連接，與圖4和圖6類似，不再示意。由于柵線和數據線由金屬材料制得，如:Cu，Al，Ag，Mo，Cr，Nd，Ni，Mn，Ti，Ta，W等金屬以及這些金屬的合金，具有較小的傳輸電阻，降低功耗。
[0047]本發明的技術方案通過設置絕緣層11，導電結構I位于開口12內，以克服靜電差異導致的摩擦取向不良問題。具體的實現結構可以為:在絕緣層11中形成開口 12后，在開口 12內形成透明導電材料，由所述透明導電材料形成導電結構I，即，導電結構I填充在開口 12內，且導電結構I的表面低于絕緣層11的表面，參見圖3和圖4所示。也可以在形成導電結構I后，再形成覆蓋導電結構I的絕緣層11，然后在絕緣層11上開設開口 12，露出導電結構1，即，絕緣層11設置在導電結構I上，參見圖5和圖6所示。
[0048]需要說明的是，本發明的技術方案適用于非顯示區域的所有需要暴露在外的導電結構，例如:與集成芯片、柔性電路板連接的導電結構，導電結構I與集成芯片或柔性電路板的引腳位置一一對應。由于導電結構I位于絕緣層11的開口 12內，為了方便集成芯片和柔性電路板的安裝，可以在絕緣層11上形成凹槽20，如圖7所示，凹槽20與集成芯片和柔性電路板的形狀配合，凹槽20與多個開口 12位于同側的一端連通，將集成芯片和柔性電路板放置在凹槽20內時，其引腳插入對應的開口 12內，與導電結構I貼合，實現集成芯片和柔性電路板的安裝。
[0049]本實施例中還提供一種顯示裝置，包括上述的陣列基板，以提高取向膜的摩擦取向質量，提尚顯不品質。
[0050]所述顯示裝置具體可以為:液晶顯示面板、電子紙、手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數碼相框、導航儀等任何具有顯示功能的產品或部件。
[0051 ] 實施例二
[0052]本實施例中提供一種實施例一中的陣列基板的制作方法，所述陣列基板包括顯示區域和位于顯示區域外圍的非顯示區域，所述制作方法包括:
[0053]形成絕緣層；
[0054]在所述絕緣層中形成至少一個位于非顯示區域的開口，所述開口與所述導電結構的位置一一對應，所述導電結構位于所述開口內。
[0055]通過上述步驟形成的陣列基板，其導電結構位于絕緣層的開口內，從而在取向膜的摩擦取向過程中，摩擦布不與導電材料接觸，與摩擦布接觸的均為絕緣材料，高速摩擦產生的靜電不存在差異，進而對摩擦布的布毛的影響不存在差異，保證摩擦取向質量，提高畫面品質。
[0056]為了實現上述目的，在對取向膜進行摩擦取向之前形成所述絕緣層。具體可以在對取向膜進行摩擦之前形成所述開口，或在對取向膜進行摩擦之后形成所述開口。
[0057]可選的，利用透明導電材料(如:銦鋅氧化物、銦錫氧化物)形成所述導電結構，以提高導電結構的抗氧化性。進一步地，當公共電極設置在陣列基板上時，通過對同一透明導電層的構圖工藝形成所述導電結構和所述公共電極；當所述公共電極設置在彩膜基板上時，通過對同一透明導電層的構圖工藝形成所述導電結構和所述像素電極，以簡化制作工
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[0058]在一個具體的實施方式中，結合圖3和圖4所示，所述陣列基板的制作方法具體包括:
[0059]形成絕緣層11;
[0060]在絕緣層11中形成開口 12;
[0061 ] 在開口 12內形成導電結構I。
[0062]上述步驟首先形成絕緣層，并在絕緣層中形成開口，然后在所述開口中填充導電材料，形成所述導電結構，并保證所述導電結構遠離基底100的表面相對于絕緣層11遠離基底100的表面更靠近基底100，即，導電結構I的表面低于絕緣層11的表面，從而在對取向膜進行摩擦取向時，摩擦布不與所述導電結構接觸，克服了靜電差異造成的摩擦不良問題。
[0063]在另一個具體的實施方式中，結合圖5和圖6所示，所述陣列基板的制作方法具體包括:
[0064]形成導電結構I;
[0065]在導電結構I上形成絕緣層11;
[0066]在絕緣層11中形成開口 12，開口 12與導電結構I的位置——對應，暴露出對應導電結構I。
[0067]上述步驟首先形成所述導電結構，然后再形成絕緣層，并在所述絕緣層中形成開口，暴露出所述導電結構，由于導電結構的表面低于絕緣層的表面，從而在對取向膜進行摩擦取向時，摩擦布不與所述導電結構接觸，克服了靜電差異造成的摩擦不良問題。
[0068]上面兩個【具體實施方式】形成的導電結構暴露在外，并且由于絕緣層的作用，在對取向膜進行摩擦取向的過程中，摩擦布不與所述導電結構接觸，克服了因靜電差異導致的摩擦取向不良問題。可選的，在對取向膜進行摩擦之前形成所述開口，防止形成所述開口的制作工藝影響取向膜的取向作用。另外，在第一個【具體實施方式】中，形成所述導電結構時，缺省了掩膜板，降低了生產成本。
[0069]應當理解，本說明書所描述的多個實施例僅用于說明和解釋本發明，并不用于限定本發明。并且在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。
[0070]以上所述僅是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明技術原理的前提下，還可以做出若干改進和替換，這些改進和替換也應視為本發明的保護范圍。
【主權項】
1.一種陣列基板，包括顯示區域和位于顯示區域外圍的非顯示區域，其特征在于，所述陣列基板包括絕緣層，所述絕緣層包括至少一個位于所述非顯示區域的開口，所述非顯示區域包括至少一個導電結構，所述開口與所述導電結構的位置一一對應，所述導電結構位于所述開口內。2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述導電結構為透明導電材料。3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括柵線和數據線，用于限定多個像素區域； 所述陣列基板的非顯示區域還包括與所述柵線同層的第一金屬線和與所述數據線同層的第二金屬線，所述第一金屬線和所述第二金屬線一一對應且電性連接； 所述第一金屬線和所述第二金屬線與所述導電結構一一對應且電性連接。4.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括柵線和數據線，用于限定多個像素區域； 所述陣列基板的非顯示區域還包括與所述柵線同層的第一金屬線，所述第一金屬線與所述導電結構一一對應且電性連接。5.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板還包括柵線和數據線，用于限定多個像素區域； 所述陣列基板的非顯示區域還包括與所述數據線同層的第二金屬線，所述第二金屬線與所述導電結構一一對應且電性連接。6.—種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求1-5任一項所述的陣列基板。7.—種權利要求1-5任一項所述的陣列基板的制作方法，所述陣列基板包括顯示區域和位于顯示區域外圍的非顯示區域，所述制作方法包括: 形成絕緣層； 在所述絕緣層中形成至少一個開口 ； 在所述非顯示區域形成至少一個導電結構，所述開口與所述導電結構的位置一一對應，所述導電結構的位于所述開口內。8.根據權利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法具體包括: 形成所述絕緣層； 在所述絕緣層中形成所述開口 ； 在所述開口內形成所述導電結構。9.根據權利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法具體包括: 形成所述導電結構； 在所述導電結構上形成所述絕緣層； 在所述絕緣層中形成所述開口。10.根據權利要求7所述的制作方法，其特征在于，利用透明導電材料形成所述導電結構。
【文檔編號】G02F1/1362GK105824162SQ201610382094
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2016年6月1日
【發明人】李東朝, 李京鵬, 李建
【申請人】北京京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司