一種液晶面板防電磁干擾新工法
【專利摘要】本發明公開一種液晶面板防電磁干擾新工法，通過采用涂布設備方法，將導電高分子納米等級的分子大小及溶于水的膠態均勻涂布于玻璃基板上面形成一個薄的導電層。本發明液晶面板防電磁干擾新工法具有以下優點：1、操作更簡單，2、成本低，3、可以根據客戶規格要求制定阻抗值4、低反射率以獲取更佳的色彩表現。
【專利說明】
一種液晶面板防電磁干擾新工法
技術領域
[0001]本實用型涉及一種液晶面板干擾消除的方法。具體是一種液晶面板防電磁干擾新工法。
【背景技術】
[0002]目前如廣視角(IPS)等液晶面板(IXD)及觸摸屏(TouchPanel)在電磁干擾(EMI)屏敝(Shielding)的解決方案主要是運用派鍍機(Sputter)在玻璃基材上面鍍上一層氧化銦錫(ITO； Indium tin oxid)導電膜，來移除電磁干擾，這項工法帶來幾項問題，首先，派鍍機(Sputter)是相當昂貴的精密設備必須搭配使用含貴重稀有金屬的氧化銦錫靶材(ΙΤ0Target)，進行多次精密的調校才能達到預期的效果。現今液晶電視及顯示屏甚至于高階智能手機(如:Apple手機)，都逐漸強調廣視角與像素色彩表現的要求，進而，電磁干擾成為產品性能表現的阻礙.傳統作法使用高成本且繁鎖濺鍍制程在玻璃基板上面形成導電膜以去除靜電，達到電磁干擾的遮敝效用。
【發明內容】
[0003]本發明的目的在于提供一種液晶面板防電磁干擾新工法，以解決上述【背景技術】中提出的問題。
[0004]為實現上述目的，本發明提供如下技術方案:
[0005]—種液晶面板防電磁干擾新工法，通過采用涂布設備方法，將導電高分子納米等級的分子大小及溶于水的膠態均勻涂布于玻璃基板上面形成一個薄的導電層。
[0006]作為本發明的優選方案:所述涂布設備方法包括浸涂型、夾縫式擠壓型涂布、刮刀法、噴涂、旋涂、噴墨打印、凹版印刷和絲網印刷。
[0007]作為本發明的優選方案:在涂布的過程還要接受硬度測試檢驗，以防止刮傷脫膜。
[0008]與現有技術相比，本發明的有益效果是:本發明液晶面板防電磁干擾新工法具有以下優點:1、操作更簡單，2、成本低，3、可以根據客戶規格要求制定阻抗值4、低反射率以獲取更佳的色彩表現。
【附圖說明】
[0009]圖1為導電高分子反射率的實驗效果對比圖。
【具體實施方式】
[0010]下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。
[0011]請參閱圖1，一種液晶面板防電磁干擾新工法，通過采用涂布設備方法，將導電高分子納米等級的分子大小及溶于水的膠態均勻涂布于玻璃基板上面形成一個薄的導電層。
[0012]涂布設備方法包括浸涂型、夾縫式擠壓型涂布、刮刀法、噴涂、旋涂、噴墨打印、凹版印刷和絲網印刷。
[0013]在涂布的過程還要接受硬度測試檢驗，以防止刮傷脫膜。
[0014]本發明的工作原理是:本制作工法可采用多種涂布方式將導電高分子(PEDOT)液態涂布在玻璃基板上面，除工序簡單亦可以得到下列優點:
[0015](I).采用相對金屬濺鍍更簡單的涂布導電高分子(PEDOT)制作工法(如:縫型模Slit-Die涂布導電高分子制作工法或旋轉Spin涂布導電高分子(PEDOT)制作工法).
[0016](2).成本降低與效益提升方面優于金屬濺鍍方式，縫型模Slit-Die涂布導電高分子(PEDOT)制作工法成本可以較金屬濺鍍方式節省生產成本三成至四成；生產量也能大幅提升;更重要的是導電高分子(PH)OT)是可以溶于水的，只要在烘烤固化前重工(Rework)質量都是沒問題的.
[0017](3).可以根據客戶規格要求制定阻抗值(Resistance),范圍在500ohm/sq至10~9ohm/sq.
[0018](4).低反射率以獲取更佳的色彩表現。
【主權項】
1.一種液晶面板防電磁干擾新工法，其特征在于，通過采用涂布設備方法，將導電高分子納米等級的分子大小及溶于水的膠態均勻涂布于玻璃基板上面形成一個薄的導電層。2.據權利要求1所述的一種液晶面板防電磁干擾新工法，其特征在于，所述涂布設備方法包括浸涂型、夾縫式擠壓型涂布、刮刀法、噴涂、旋涂、噴墨打印、凹版印刷和絲網印刷。3.據權利要求1所述的一種液晶面板防電磁干擾新工法，其特征在于，在涂布的過程還要接受硬度測試檢驗，以防止刮傷脫膜。
【文檔編號】G02F1/1333GK105824142SQ201610130875
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2016年3月8日
【發明人】蘇軾欽
【申請人】展群科技（深圳）有限公司