基于反射原理的二維可見光隱裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明主要涉及可見光隱形的材料和儀器領域，特指一種基于反射原理的二維可見光隱裝置。
【背景技術】
[0002]隱形技術已經成為物理學家和材料學家的研究熱點之一，盡管現有已知的材料都無法直接用于實現隱形。隱形技術從電磁波的頻率段而言，可分為微波隱形、可見光隱形、雷達電波隱形等等。現有技術隱形技術無法在可見光頻率階段實現二維隱形，因此設計一種具有一維完全隱形的可見光隱形衣具有重要的價值。
【發明內容】
[0003]本發明需解決的技術問題是:針對現有技術存在的技術問題，本發明提供一種結構簡單、能夠在二維空間中實現可見光隱形的、具有反射可見光功能的二維可見光隱裝置。
[0004]為了解決上述問題，本發明提出的解決方案為:一種基于反射原理的二維可見光隱裝置，包括光導層、位于所述光導層內部的全反射層、裝設于所述全反射層內部的隱形物體;所述光導層為矩形空心柱體，厚度約為1mm;所述光導層包括η個子層，自外向里依次為第一子層、第二子層、以及第η子層，每層厚度約為2-3微米;所述全反射層為折射率為零的材料制作，厚度約為3微米。
[0005]X向入射光線A和X向入射光線B入射到所述光導層中，經過一系列的折射，沿著所述光導層2的形狀傳播，最后平行于原始入射光線離開所述光導層;所述Y向入射光線A和Y向入射光線B也沿著所述光導層2的形狀傳播，離開所述光導層時平行于原始入射光線;所述第一子層、與所述第二子層、以及所述第η子層的折射率不同，分別由所述光導層的形狀決定。
[0006]本發明與現有技術相比，具有如下優點和有益效果:
[0007](I)本發明的基于反射原理的二維可見光隱裝置，設有光導層，光導層又分為η個子層，每個子層具有不同的折射率，能夠使可見光沿著光導層的形狀傳播，類似于電流在導線中的傳播。由此可知，本發明結構簡單、借助光導層實現了可見光任意彎曲傳播，且實現了在二維空間中可見光隱形。
【附圖說明】
[0008]圖1是本發明的基于反射原理的二維可見光隱裝置的結構原理示意圖。
[0009]圖2是本發明的光導層的工作原理示意圖。
[0010]圖中，11—X向入射光線Α;12—X向入射光線B; 13—Y向入射光線Α; 14—Y向入射光線B ； 2一光導層;21—第一子層;22一第二子層;23一第η子層;3一全反射層;4一隱形物體；51 一第一法線;52—第二法線;60—入射光線;61—第一折射光線;62—第二折射光線;63—第η折射光線;64—出射光線。
【具體實施方式】
[0011 ]以下將結合附圖和具體實施例對本發明作進一步詳細說明。
[0012]結合圖1和圖2所示，本發明的基于反射原理的二維可見光隱裝置，包括光導層2、位于光導層2內部的全反射層3、裝設于全反射層3內部的隱形物體4;光導層2為矩形空心柱體，厚度約為1mm;光導層2包括自外向里第一子層21、第二子層22、以及第η子層23，每層厚度約為2-3微米;全反射層3為折射率為零的材料制作，厚度約為3微米。
[0013]參見圖1和圖2所示，X向入射光線All和X向入射光線Β12入射到光導層2中，經過一系列的折射，沿著光導層2的形狀傳播，最后平行于原始入射光線離開光導層2;Υ向入射光線Α13和Y向入射光線Β14也沿著光導層2的形狀傳播，離開光導層2時平行于原始入射光線；第一子層21、與第二子層22、以及第η子層23的折射率不同，分別由光導層2的形狀決定。
[0014]工作原理:假設入射光線60沿X方向入射到第一子層21中，經折射變為第一折射光線61，然后入射到第二子層22上，再次折射轉變為第二折射光線62，以此類推，經過η個子層的折射，最后由第η子層23折射出來，變成出射光線64;所有的入射光線60均沿著光導層2的形狀傳播，繞開了隱形物體4，而且傳播到了隱形物體4的另一側，就如果隱形物體4不存在一樣，從而實現了對隱形物體4的隱形。
【主權項】
1.基于反射原理的二維可見光隱裝置，其特征在于:包括光導層(2)、位于所述光導層(2)內部的全反射層(3)、裝設于所述全反射層(3)內部的隱形物體(4);所述光導層(2)為矩形空心柱體，厚度約為1mm;所述光導層(2)包括η個子層，自外向里依次為第一子層(21)、第二子層(22)、以及第η子層(23)，每層厚度約為2-3微米;所述全反射層(3)為折射率為零的材料制作，厚度約為3微米;X向入射光線A (I I)和X向入射光線B (12)入射到所述光導層(2)中，經過一系列的折射，沿著所述光導層(2)的形狀傳播，最后平行于原始入射光線離開所述光導層(2);所述Y向入射光線Α(13)和Y向入射光線Β(14)也沿著所述光導層(2)的形狀傳播，離開所述光導層(2)時平行于原始入射光線；所述第一子層(21)、與所述第二子層(22)、以及所述第η子層(23)的折射率不同，分別由所述光導層(2)的形狀決定。
【專利摘要】本發明公開了一種基于反射原理的二維可見光隱裝置，屬于可見光隱形的材料和儀器領域。它包括光導層、位于光導層內部的全反射層、裝設于全反射層內部的隱形物體；光導層為矩形空心柱體，厚度約為10mm；光導層包括自外向里第一子層21、第二子層、以及第n子層，每層厚度約為2-3微米；全反射層為折射率為零的材料制作，厚度約為3微米；第一子層、與第二子層、以及第n子層的折射率不同，分別由光導層的形狀決定。本發明是一種結構簡單、能夠在二維空間中實現可見光隱形的二維可見光隱裝置。
【IPC分類】G02B17/08, G02B1/00
【公開號】CN105572768
【申請號】CN201610092152
【發明人】班書昊, 李曉艷, 蔣學東, 席仁強, 譚鄒卿, 王知鷙
【申請人】常州大學
【公開日】2016年5月11日
【申請日】2016年2月19日