適用于圓片光刻工藝的感應裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種半導體加工裝置，尤其是一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置。
【背景技術】
[0002]光刻加工過程中，往往需要對待加工圓片的位置進行判斷，方可進行加工。傳統的圓片位置感應均采用光電感應裝置，即采用兩個成對稱分布的光線發生器與接收器，通過光在圓片表面的反射對圓片的位置進行感應。然而，由于圓片，尤其是待加工的圓片表面粗糙，其使得反射角度存在不確定性，從而使得感應精度難以得到保證，進而導致加工過程中時常出現碎片現象。
【發明內容】
[0003]本發明要解決的技術問題是提供一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其可使得感應精度得以改善。
[0004]為解決上述技術問題，本發明涉及一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其包括有用于對圓片進行傳輸的上料裝置；所述上料裝置的前端部設置有感應支架，感應支架之上設置有接近開關，接近開關與上料裝置彼此相對。
[0005]作為本發明的一種改進，所述感應支架與上料裝置的相對端面之上設置有安置槽體，安置槽體的上端面設置有安置孔，所述接近開關通過安置孔連接至感應支架之上，接近開關的下端部延伸至安置槽體內部。采用上述設計，其可通過感應支架中安置槽體的設置，使之形成與接近開關相對應的安裝位置，從而使得接近開關在組裝過程中的布局更為合理；安置孔的設置則使得接近開關的安裝穩定性得以改善。
[0006]作為本發明的一種改進，所述接近開關的下端部連接有傳輸線纜，所述安置槽體的下端部設置有延伸孔，其與安置孔同軸延伸；所述傳輸線纜經由延伸孔延伸至外部。采用上述設計，其可通過延伸孔對傳輸線纜進行安置，避免其發生損壞。
[0007]作為本發明的一種改進，所述接近開關與安置孔上端部與下端部的連接位置分別設置有橡膠減震圈，其可避免接近開關因機械振動等因素發生跌落甚至損壞，從而使得感應裝置的使用壽命得以提升。
[0008]采用上述技術方案的圓片光刻工藝的感應裝置，其可通過接近開關替代傳統圓盤感應裝置所采用的光電感應，從而使得感應裝置不受圓片表面粗糙度的影響，使得感應精度得以改善，以使得加工過程中的碎片現象得以顯著改善。
【附圖說明】
[0009]圖1為本發明示意圖；
附圖標記列表:
1 一上料裝置、2—感應支架、3—接近開關、4 一安置槽體、5—安置孔、6—傳輸線纜、7—延伸孔、8—橡I父減震圈。
【具體實施方式】
[0010]下面結合【具體實施方式】，進一步闡明本發明，應理解下述【具體實施方式】僅用于說明本發明而不用于限制本發明的范圍。需要說明的是，下面描述中使用的詞語“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附圖中的方向，詞語“內”和“外”分別指的是朝向或遠離特定部件幾何中心的方向。
[0011]實施例1
如圖1所示的一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其包括有用于對圓片進行傳輸的上料裝置1 ;所述上料裝置1的前端部設置有感應支架2，感應支架2之上設置有接近開關3，接近開關3與上料裝置1彼此相對。
[0012]作為本發明的一種改進，所述感應支架2與上料裝置1的相對端面之上設置有安置槽體4，安置槽體4的上端面設置有安置孔5，所述接近開關3通過安置孔4連接至感應支架2之上，接近開關3的下端部延伸至安置槽體4內部。采用上述設計，其可通過感應支架中安置槽體的設置，使之形成與接近開關相對應的安裝位置，從而使得接近開關在組裝過程中的布局更為合理；安置孔的設置則使得接近開關的安裝穩定性得以改善。
[0013]作為本發明的一種改進，所述接近開關3的下端部連接有傳輸線纜6，所述安置槽體4的下端部設置有延伸孔7，其與安置孔5同軸延伸；所述傳輸線纜6經由延伸孔7延伸至外部。采用上述設計，其可通過延伸孔對傳輸線纜進行安置，避免其發生損壞。
[0014]采用上述技術方案的圓片光刻工藝的感應裝置，其可通過接近開關替代傳統圓盤感應裝置所采用的光電感應，從而使得感應裝置不受圓片表面粗糙度的影響，使得感應精度得以改善，以使得加工過程中的碎片現象得以顯著改善。
[0015]實施例2
作為本發明的一種改進，所述接近開關3與安置孔5上端部與下端部的連接位置分別設置有橡膠減震圈8，其可避免接近開關因機械振動等因素發生跌落甚至損壞，從而使得感應裝置的使用壽命得以提升。
[0016]本實施例其余特征與優點均與實施例1相同。
【主權項】
1.一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其包括有用于對圓片進行傳輸的上料裝置，其特征在于，所述上料裝置的前端部設置有感應支架，感應支架之上設置有接近開關，接近開關與上料裝置彼此相對。2.按照權利要求1所述的適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其特征在于，所述感應支架與上料裝置的相對端面之上設置有安置槽體，安置槽體的上端面設置有安置孔，所述接近開關通過安置孔連接至感應支架之上，接近開關的下端部延伸至安置槽體內部。3.按照權利要求2所述的適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其特征在于，所述接近開關的下端部連接有傳輸線纜，所述安置槽體的下端部設置有延伸孔，其與安置孔同軸延伸；所述傳輸線纜經由延伸孔延伸至外部。4.按照權利要求3所述的適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其特征在于，所述接近開關與安置孔上端部與下端部的連接位置分別設置有橡膠減震圈。
【專利摘要】本發明公開了一種適用于圓片光刻工藝的感應裝置，其包括有用于對圓片進行傳輸的上料裝置；所述上料裝置的前端部設置有感應支架，感應支架之上設置有接近開關，接近開關與上料裝置彼此相對；采用上述技術方案的圓片光刻工藝的感應裝置，其可通過接近開關替代傳統圓盤感應裝置所采用的光電感應，從而使得感應裝置不受圓片表面粗糙度的影響，使得感應精度得以改善，以使得加工過程中的碎片現象得以顯著改善。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號】CN105319870
【申請號】CN201510806229
【發明人】史進, 伍志軍
【申請人】蘇州賽森電子科技有限公司
【公開日】2016年2月10日
【申請日】2015年11月20日