水溶性負性光刻膠組合物的制作方法

專利名稱：水溶性負性光刻膠組合物的制作方法
背景技術：
本發明涉及一種水溶性聚合物，當該聚合物與光致酸生成劑(PAG)一起使用時，形成負性(negative working)水溶性光刻膠。
光刻膠組合物用于制造微型化電子部件如制造計算機芯片和集成電路的微平版印刷方法中。通常，在這些方法中，首先將光刻膠組合物薄膜涂層施于基材，如用于制造集成電路的硅片上。然后將該涂敷基材加熱以蒸出光刻膠組合物中的任何溶劑并使涂層固定于基材上。然后將該基材的涂敷表面掩蔽，接著在照射下曝光。
該照射曝光在涂敷表面的曝光區域引起化學變化。可見光、紫外(UV)光、電子束和X射線能量是目前常用于微平版印刷方法中的照射類型。在該掩蔽曝光后，將涂敷基材用顯影劑溶液處理，以溶解并除去基材涂敷表面的照射曝光或未曝光區域。
存在兩種類型的光刻膠組合物，即負性和正性光刻膠組合物。當將負性光刻膠組合物進行照射曝光時，照射曝光的光刻膠組合物區域變得不太溶于顯影劑溶液中，而光刻膠涂層的未曝光區域仍溶于該溶液中。因此，用顯影劑處理已曝光的負性光刻膠導致除去光刻膠涂層的未曝光區域，并在涂層中形成負性圖象，由此露出其上沉積有光刻膠組合物的下層基材表面的所需部分。
另一方面，當將正性光刻膠組合物進行照射曝光時，光刻膠組合物的照射曝光區域變得更可溶于顯影劑溶液中，而未曝光的區域仍然不溶于顯影劑溶液中。因此，用顯影劑處理已曝光的正性光刻膠導致除去涂層的曝光區域，并在光刻膠涂層中形成正性圖象。同樣露出下層基材表面的所需部分。
顯影后，可以將部分未保護的基材用基材-浸蝕劑溶液或等離子體氣體等進行處理。該浸蝕劑溶液或等離子氣體浸蝕在顯影期間除去光刻膠涂層的基材部分。仍然保留光刻膠涂層的基材區域被保護，由此在基材中形成浸蝕圖形，這相當于用于照射曝光的光罩。接著，光刻膠涂層的剩余區域可在反萃取操作期間除去，留下清潔的浸蝕基材表面。在某些情況下，需要在顯影步驟之后在浸蝕步驟之前對剩余的光刻膠層進行熱處理，以提高其與下層基材的粘結力和其耐浸蝕溶液性能。
光刻膠圖形分辨率定義為該光刻膠組合物在曝光和顯影后能以高圖象敏銳度自光罩轉移至基材上的最小特征。在目前大多數制造應用中，要求光刻膠分辨率大約低于1μm。此外，幾乎總是要求顯影的光刻膠側壁輪廓差不多與基材垂直。這種在光刻膠涂層的已顯影與未顯影區域之間的分界線轉化為掩蔽圖象向基材上的精確的圖案轉移。
以前，正性光刻膠優于負性光刻膠，因為它們通常顯示優異的分辨性能。這通常是由于負性圖象在顯影期間溶脹造成的。本發明消除了這種溶脹，因為聚合物進行光化學誘導的消除反應而非交聯，由此改變了溶解性。在此反應期間，出現了極性轉換，且所得產物具有不同的溶解度參數。結果，該產品與流延時所用的溶劑無親和性。因此，對于水流延光刻膠，刻蝕圖象在顯影期間與顯影劑水溶液無親和性，所以不會溶脹。
發明概述本發明涉及一種水溶性聚合物，當該聚合物與合適的光致酸生成劑(PAG)一起使用時，形成負性水溶性光刻膠。照射曝光時，聚合物不交聯，但改變溶解度參數，因此在顯影時不溶脹，由此獲得改進的分辨率。這使所用的光刻膠在流線(i-line)上和深UV波長下能夠具有高分辨率。此外，由于與本發明光刻膠一起使用的溶劑為水，因此在半導體制造中使用這種光刻膠將是環保的。該聚合物由通過連接基團與縮醛保護的β-酮酸基團偶聯的主鏈，如聚乙烯基醚組成。主鏈和任何共聚單體的選取受到其在水中的溶解度的影響，因為初始聚合物必須足以溶于水中，以提供合適的制劑粘度。通過加入大量的市購光致酸生成劑，聚合物制劑形成水溶性負性光刻膠。照射曝光會造成光致酸催化的縮醛基團脫保護，生成β-酮酸，該β-酮酸在加熱時會進行脫羧反應，導致水不溶性光致產品。由于起始聚合物是水溶性的，因此當用含水基質顯影時，極性轉換將形成負性圖象。
該聚合物具有如下結構 其中R1-R4獨立地為H、(C1-C5)烷基或(C1-C5)烷氧基，X為C=O、OCO、CONH、O、芳基(C1-C5)烷基。
本發明的聚合物通常為水溶性粉末形式。然而，光刻膠制劑為包括聚合物、PAG和溶劑水的液體溶液。通常用作光刻膠的溶液含1至30 wt％的聚合物粉末、在照射曝光時導致該聚合物的活性基團開裂的有效量的光致酸生成劑，余量為水。可與本發明聚合物一起使用的光致酸生成劑可市購。所要求的是，經合適波長照射曝光時，該光致酸生成劑生成導致縮醛部分開裂的足夠的酸。合適的光致酸生成劑包括鎓鹽、羥基馬來酰亞胺三氟甲磺酸鹽和磺酸重氮鹽。不同的光致酸生成劑通過不同波長的光活化，因此光致酸生成劑的選取可以基于微平版印刷方法的分辨率要求。光致酸生成劑的分辨率和靈敏度可以用于種方法改變。例如，鎓鹽還可用蒽敏化通過以用于i-線微平版印刷方法。其它光致酸生成劑見于美國專利5,585,223第3欄中，該專利公開的內容這里作為參考全文引入。
可將制備的光刻膠組合物溶液通過光刻膠領域中使用的任何常規方法，包括浸涂、噴涂、渦轉涂布和旋涂施于基材上。例如當進行旋涂時，可調節該光刻膠溶液的固含量百分比，以在給定使用的旋涂裝置類型和旋涂方法允許的時間下提供所需的涂層厚度。合適的基材包括硅、鋁、聚合樹脂、二氧化硅、摻雜二氧化硅、氮化硅、鉭、銅、多晶硅、陶瓷、鋁/銅混合物；砷化鎵和其它這樣的ⅢN族化合物。
本發明的光刻膠涂料特別適合施用于熱成硅(thermally grownsilicon)/二氧化硅涂布的平板，如用于生產微處理器和其它微型化集成電路部件的平板。還可以使用鋁/氧化鋁平板。該基材還可包括各種聚合樹脂，特別是透明聚合物如聚酯。該基材可具有合適組合物，如含六烷基二硅氨(氮)烷的組合物的粘合促進層。
然后將該光刻膠組合物溶液涂于基材上，將基材在溫度約70℃至約200℃下在熱板上處理或“軟烘烤”約30秒至約180秒，或在對流烘箱中處理或“軟烘烤”約15至約90分鐘。選取此溫度處理以降低殘余溶劑在光刻膠中的濃度，同時不造成光敏劑的明顯熱降解。通常，希望將溶劑的濃度降至最低并進行該第一次溫度處理，直至基本上所有溶劑已蒸發，且約1μm厚的光刻膠組合物薄涂層留于基材上。進行處理直至除去溶劑的速率變化相對不明顯為止。軟烘烤的溫度和時間的選取取決于用戶所需的光刻膠性能，以及使用的裝置和商業上所需的涂布次數。
然后可將涂布的基材以通過使用合適的罩、底片、模版、樣板等產生的任何所需的圖形暴露于光化照射，例如波長約200 nm至約450nm的紫外照射，X-射線、電子束、離子束或激光照射。照射曝光將激活光致酸生成劑，并導致2-取代的3,3-亞乙基二氧基-丁酸的縮醛基團發生光致酸催化脫保護作用，生成β-酮酸，該β-酮酸在加熱時會進行脫羧反應，產生水不溶性光致產品并放出CO2。然后將該光刻膠在顯影前或顯影后進行后曝光第二次烘烤或熱處理。第二次熱處理將趕走另外的CO2。
將已曝光的光刻膠涂敷基材通過浸入堿性顯影水溶液中顯影以除去圖象位置(image-wise)的曝光區域或通過噴涂顯影法顯影。該溶液優選進行攪拌，例如通過氮氣脈沖攪拌。使該基材留在顯影劑中，直至所有或基本上所有光刻膠涂層已從未曝光區域溶解為止。顯影劑可包括銨或堿金屬氫氧化物的水溶液。一種優選的氫氧化物是氫氧化四甲基銨。從顯影劑溶液中取出涂布的平板后，可進行任選的后顯影熱處理或烘烤以提高涂層的粘合性和對浸蝕溶液和其它物質的耐化學性。
本發明的光刻膠還可含有其它任選組分如著色劑、染料、抗條紋劑、敏化劑、均化劑、增塑劑、增粘劑、速度增強劑、溶劑，并可在將光刻膠組合物涂于基材上之前將表面活性劑(如非離子表面活性劑)加入聚合物樹脂、敏化劑和溶劑的溶液中。
溶劑在整個組合物中的存在量可為組合物中固體重量的95％。當然，在將光刻膠溶液涂于基材上并干燥后，溶劑基本上被除去了。可使用的非離子表面活性劑包括例如壬基苯氧基聚(乙烯氧基)乙醇；辛基苯氧基乙醇，其用量按成膜樹脂和敏化劑的總重量計為至多約10重量％。
下面的具體實施例將提供生產和使用本發明組合物的方法的詳細描述。然而，這些實施例不以任何方式限制本發明范圍，并且也不應認為是提供實施本發明必須專用的條件、參數或數值。
在下面的實施例中，實施例1至4給出形成含縮醛保護的β-酮酸基團的官能化苯乙烯聚合物，該聚合物加入光致酸生成劑后將形成負性水溶性光刻膠。實施例5-8涉及含縮醛保護的β-酮酸基團的官能化乙烯基聚合物，實施例9給出官能化乙烯基單體與苯乙烯的共聚物。
實施例1制備2-(4-乙烯基芐基)-3-氧代丁酸乙酯將乙酰乙酸乙酯(27.61g,O.21mol)溶于在冰-水浴中冷卻的乙醇(100 ml)中，并加入乙醇鈉(15.59g,0.22 mol)。加入4-乙烯基芐基氯(33.92g,O.2mol)。將該混合物回流16小時，然后將所得漿料過濾以除去任何鹽，并收集溶液。在減壓下除去溶劑，得到淺紅色液體形式的2-(4-乙烯基芐基)-3-氧代丁酸乙酯(49g)，收率95％。1H NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):7.30和7.10(m,4H,芳族),6.60(m,1H,H2C=CH-),5.70和5.15(d,2H,=CH順H反),4.45(d,2H,-CH2-芳族),4.10(q,2H,-OCH2CH3),3.10[t,1H,-COCH(R)CO2-],2.15(s,3H,CH3CO-),1.15(t,3H,-OCH2CH3).13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):202(-CO2-),169(-CO-),138(=CH2),136(H2C=CH-),135,129,126和113(芳族),61[-COCH(R)CO2-],50(-OCH2CH3),34(-CH2-),29(CH3CO-),14(-OCH2CH3).
實施例2制備2-(4-乙烯基芐基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯將在苯(100ml)中的2-(4-乙烯基芐基)-3-氧代丁酸乙酯(24.63g,0.1 mol)(在實施例1中形成)、乙二醇(12.54 g,0.2 mol)和對甲苯磺酸(250 mg)的混合物回流72小時(Dean-Stark分水器，1.9ml水)。將該溶液冷卻，并用碳酸氫鈉水溶液(5％,2x100 ml)、水(100ml)和鹽水(150 ml)洗滌。將有機層干燥(MgSO4)、過濾并在減壓下除去溶劑，得到橙色液體(27.7 g)，收率81％。將殘余物減壓蒸餾以提供純的無色液體產品2-(4-乙烯基芐基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯(22 g,64％)；bp 121℃(22 mmHg)。1H NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):7.35和7.15(m,4H,芳族),6.70(m,1H,H2C=CH-),5.75和5.20(d,2H,=CH順H反),4.55(d,2H,-CH2-芳族),4.05(q,2H,-OCH2CH3),4.0(m,4H,2x-OCH2-),3.05[t,1H,-COCH(R)CO2-],1.55(s,3H,CH3C-),1.10(t,3H,-OCH2CH3).13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):202(-CO2-),171(-CO-),139(=CH2),136(H2C=CH-),135,129,126和113(芳族),109[-O(R)C(R)O-],65(-OCH2CH2O-),60(-OCH2CH3),56[-COCH(R)CO2-],34(-CH2-),22(CH3C-),14(-OCH2CH3).
實施例3制備2-(4-乙烯基芐基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯聚合物將2-(4-乙烯基芐基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯(14.2 g,0.05 mol)(在實施例2中形成的)溶于DMF(75 ml)中。將該混合物加熱至65℃，同時通過將氬氣經密封橡膠隔膜中的入口針劇烈鼓入溶液中攪拌和脫氣0.5小時。注射AIBN(0.0838 g,0.5 mmol，總單體量的1 mol％)在DMF(0.9ml)中的等分溶液并脫氣0.25小時。取出入口和出口針，并使密封容器在65℃下攪拌24小時。將所得混合物在l600 ml 2-丙醇中沉淀，然后過濾得到灰白色粉末產品。將該產品通過溶于乙酸乙酯中并在2-丙醇中再沉淀進行純化。將固體2-(4-乙烯基芐基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯聚合物在空氣中干燥，得到10g白色固體。
1H NMR(200 MHz,CDCl3+TMS,δppm):6.20～7.10(4H,芳族),3.90～4.20(6H,-OCH2CH3和2×-OCH2-),3.40～3.60[1H,-COCH(R)CO2-],2.80-3.00(2H,-CH2-芳族),2.00～2.20(-CH-,王鏈).1.00～1.70(-CH2-,主鏈),1.00(3H,CH3C-),0.80(3H,～OCH2CH3).13C NMR(200 MHz,CDCl3+TMS,δppm):172(-CO2-),142～146(1C,芳族),135～137(1C,芳族),126～130(4C,芳族),110[-O(R)C(R)O-],65(-OCH2CH2O-),61(-OCH2CH3),56[-COCH(R)CO2-],44～47(-CH2-,主鏈),40～42(-CH-,主鏈),34(-CH2-芳族),22(CH3C-),14(-OCH2CH3).
實施例4制備2-(4-乙烯基芐基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯聚合物將2-(4-乙烯基芐基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯聚合物(在實施例3中形成的)(1.9 g,7.7 mmol)溶于g-丁內酯 (30 ml)中。加入NH4OH溶液(30％,在水中)，并將該溶液溫熱至110℃5小時。將所得溶液通過加入HCl變為弱酸性，并將2-(4-乙烯基芐基)-3,3～(亞乙二氧基)丁酸乙酯聚合物在甲苯中沉淀，然后干燥，得到白色粉末(0.6g)。
1H NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):6.20～7.10(4H,芳族),4.00～4.20(2H,-OCH2CH3),3.60～3.80[1H,-COCH(R)CO2-],2.90～3.10(2H,-CH2-芳族),1.90～2.20(-CH-,主鏈).1.00～1.70(-CH2-,主鏈)，1.25(3H,CH3C-),1.20(3H,-OCH2CH3).13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):202(-CO2-),169(-CO-),143～146(1C,芳族),135～136(1C,芳族),126～130(4C,芳族),62[-COCH(R)CO2-],61(-OCH2CH3),42～46(-CH2-,主鏈)，40～42(-CH-,主鏈),34(-CH2-芳族),29(CH3C-),14(-OCH2CH3).
實施例5制備2-乙酰基-5-己烯酸乙酯將乙酰乙酸乙酯(6.57 g,0.05 mo1)溶于乙醇(25 ml)中并加入乙醇鈉(3.9 g,0.55 mol)。將溶液冷卻至室溫并加入4-溴-1-丁烯(6.96 g,0.05 mol)。將該混合物回流5小時。將所得溶液過濾，加入乙酸乙酯(75 ml)，并用鹽酸溶液(2×200 ml,5N)和鹽水(100 ml)洗滌。將有機層干燥(MgSO4)、過濾、并在減壓下除去溶劑，得到淺黃色液體狀2-乙酰基-5-己烯酸乙酯(9.29 g)，收率91％。
1H NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):5.75(m,1H,H2C=CH-),5.00(m,2H,=CH順H反),4.15(q,2H,-OCH2CH3),3.40[t,1H,-COCH(R)CO2-],2.10(s,3H,CH3CO-),1.80～2.10(m,4H,-CH2CH2-),1.20(t,3H,-OCH2CH3).
13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):202(-CO2-),170(-CO-),137(H2C=CHO-),115(=CH2),61(-OCH2-),59(-CH-),31(=CH-CH2-),29(CH3-),27(=CHCH2CH2-),14(-OCH2CH3).
實施例6制備2-(3-丁烯基)-3.3-(亞乙二氫基)丁酸乙酯將在苯(150ml)中的2-乙酰基-5-己烯酸乙酯(30.62 g,0.15mol)(在實施例5中形成的)、乙二醇(18.82 g,0.3 mol)和對甲苯磺酸(250 mg)的混合物回流48小時(Dean-Stark分水器,2.3 ml水)。將該溶液冷卻，并用碳酸氫鈉水溶液(5％,2 x100 ml)、水(100 ml)和鹽水(150 ml)洗滌。將有機層干燥(MgSO4)、過濾并在減壓下除去溶劑，得到橙色液體(27.7 g)，收率81％。將殘余物減壓蒸餾以提供純的無色液體產品2-(3-丁烯基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯(22 g,64％)；bp 121℃(22 mmHg)。
1H NMR (200 MHz,CDCl3,δppm):5.75(m,1H,H2C=CH-),5.00(m,2H,=CH順H反),4.15(q,2H,-OCH2CH3),3.95(m,4H,2x-OCH2-),2.60[dd,1H,-CCH(R)CO2-],1.60～2.10(m,4H,-CH2CH2-),1.40(s,3H,CH3-),1.20(t,3H,-OCH2CH3).13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):172(-CO2-),137(H2C=CHO-),115(=CH2),109[-O(R)C(R)O-],64(-OCH2CH2O-),60(-OCH2CH3),53(-CH-),32(=CH-CH2-),27(=CHCH2CH2-),21(CH3-),14(-OCH2CH3).
實施例7制備2-(3-丁烯基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯將2-(3-丁烯基)-3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯(在實施例6中形成的)(6.85 g,0.03 mol)和氫氧化鉀水溶液(50 ml, 1.1 M)的混合物回流22小時。然后將冷卻的混合物用醚(100 ml)萃取。將水層(pH=13)在冰水浴中用鹽酸(100 ml,1M,pH=1)酸化，并用醚(2×100ml)萃取。在減壓下除去溶劑，得到粘稠的淺黃色液體狀2-(3-丁烯基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯(5.29 g)，收率88％。
1H NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):5.70(m,1H,H2C=CH-),4.95(m,2H,=CH順H反),3.95(m,4H,2×-OCH2-),2.6[dd,1H,-CCH(R)CO2-],1.60～2.10(m,4H,-CH2CH2-),1.35(s,3H,CH3-),13C NMR(200 MHz,CDCl3,δppm):1 78(-CO2-),137(H2C=CHO-),115(=CH2),109[-O(R)C(R)O-],65(-OCH2CH2O-),53(-CH-),32(=CH-CH2-),27(=CHCH2CH2-),21(CH3-).
實施例8制備2-(3-丁烯基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯聚合物將在實施例7中形成的2-(3-丁烯基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯(4.7 g,0.023 mol)加入四癸基鋁鋰(22.2 ml)、在環己烷(4 ml)中的四氯化鈦和40 ml環己烷的混合物中。將溶液攪拌22小時。形成淺灰色懸浮體，然后加入MeOH使固體溶解，并將所得溶液在EtOAc中沉淀，得到灰白色固體2-(3-丁烯基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯聚合物。
實施例9制備2-(3-丁烯基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯與苯乙烯的共聚物將2-(3-丁烯基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯(在實施例7中形成的)(9.18 g,0.051mol)和苯乙烯(7.59g,0.05 mol)的混合物溶于g-丁內酯(100 ml)中。將該混合物加熱至65℃，同時通過將氬氣經密封橡膠隔膜中的入口針劇烈鼓入溶液中攪拌和脫氣0.5小時。注射入AIBN(0.1314 g，0.8 mmol，總單體量的1 mol％)在g-丁內酯(2.8ml)中的等分溶液并脫氣0.5小時。總計以5小時間隔加入兩個等分部分。取出入口和出口針，并使密封容器在65℃下攪拌20小時。將所得混合物在1000 ml 2-丙醇中沉淀，然后過濾得到白色粉末產品。將該產品溶于乙酸乙酯中并在己烷中再沉淀。將固體2-(3-丁烯基)-3,3-(亞乙二氧基)丁酸乙酯與苯乙烯的共聚物在空氣中干燥，得到1.0 g，收率為13％。
本發明已通過優選的實施方案進行了描述。然而，正如本領域技術人員將認識到的，可在不離開所附權利要求定義的本發明精神和范圍的條件下，對已描述和說明的具體細節進行改進和變動。
權利要求
1． 一種特別適合用作光刻膠的聚合物，包括如下結構 其中R1-R4獨立地為H、(C1-C5)烷基或(C1-C5)烷氧基，X為C=O、OCO、CONH、O、芳基(C1-C5)烷基。
2．如權利要求1的聚合物，還包括光致酸生成劑，以形成光刻膠。
3．一種特別適合用作光刻膠的聚合物，包括a)聚合物主鏈；b)縮醛保護的β-酮酸基團；和c)連接主鏈和縮醛保護的β-酮酸基團的連接基團。
4．如權利要求3的聚合物，其中縮醛保護的β-酮酸基團包括2-取代3,3-亞乙二氧基-丁酸。
5．如權利要求3的聚合物，其中連接基團包括酯基、苯基、烷基和烷氧基中的至少一種。
6．如權利要求3的聚合物，其中主鏈聚合物包括乙烯基類聚合物、乙烯基醚、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、乙烯基酚、乙烯基羧酸和乙烯基丙烯酰胺中的至少一種。
7．一種光刻膠組合物，包括a)聚合物主鏈；b)縮醛保護的β-酮酸基團；c)連接主鏈和縮醛保護的β-酮酸基團的連接基團；d)能夠使縮醛基團脫保護的光敏劑。
8．如權利要求7的光刻膠，其中光敏劑包括光致酸生成劑。
9．如權利要求7的光刻膠，其中縮醛保護的β-酮酸基團包括2-取代3,3-亞乙二氧基-丁酸。
10．如權利要求7的光刻膠，其中連接基團包括酯基、苯基、烷基和烷氧基中至少一種。
全文摘要
一種水溶性聚合物,當該聚合物與光致酸生成劑(PAG)一起使用時,形成負性水溶性光刻膠。該聚合物包括通過連接基團與縮醛保護的β－酮酸基團偶聯的主鏈,如聚乙烯基醚。通過加入大量的市購光致酸生成劑,聚合物制劑形成水溶性負性光刻膠。照射曝光會造成先致酸催化縮醛基團脫保護,生成β－酮酸,該β－酮酸在加熱時會發生脫羧,得到水不溶性光致產品并放出二氧化碳副產品。該光化學誘導反應導致聚合物溶解度參數明顯變化,且產品不再溶于水。由于溶解度改變不需要交聯,因此顯影期間暴露于含水基質時不會出現刻蝕圖象溶脹,因此不會降低分辨率。這使所用的光刻膠在i－線和深UV波長下具有高分辨率。
文檔編號G03F7/038GK1303401SQ99806602
公開日2001年7月11日 申請日期1999年5月18日 優先權日1998年5月27日
發明者I·麥克庫羅克, A·J·伊斯特, 康明, R·克西安, H－N·尹 申請人:克拉里安特國際有限公司