專利名稱:銀鹽平印版材及其工藝方法
本發明屬于銀鹽擴散轉印平印版材及其制造工藝的技術領域：
。該產品用于平印印刷，其制造工藝供制造平印版材用。
已有技術一種是銀鹽向上擴散轉印平印版材。其工藝過程是感光乳劑中的鹵化銀向上擴散轉印過程。制成印版時，版面是呈黑色，圖象部分呈銀灰色。另一種是銀鹽向下擴散轉印工藝過程，是處理型的或是直接涂布型的，沒有產品。
采用向上擴散轉印工藝的專利有阿克發-吉伐公司的U、S、3，721，559，三菱制紙株式會社的昭48-30562、昭49-55402、昭52-106902、昭53-21602、昭56-8145和U、S、4，501，811、U、S、4，562，140等。產品有日本三菱制紙株式會社、比利時阿克發-吉伐公司和美國3M公司生產的銀鹽紙基版材。三菱和阿克發-吉伐公司還試生產了銀鹽滌綸片基平印版材樣品。其制造工藝、技術水平、設備條件高要求真空蒸鍍、陰極濺射、涂布擴散轉印層，目前國內技術無法達到，而且需在暗室條件下加熱固化3～14天，制造工藝復雜。制好的印版不能存放待用，還要用酸性潤版液潤版，有一定的腐蝕性，易污染環境。
其工藝路線是(結構如圖1所示)在支持體(1)上涂有底層(2)(帶防光暈層(3))→銀鹽乳劑層(4)(感光層)擴散轉印層(5)(接受核層)。
另一種采用向下擴散轉印工藝。有兩種方法第一種是處理型向下擴散轉印工藝，專利有富士公司的GB1、363、311、U、S，3，901，706，昭50-32648、昭50-33845。將支持體表面局部水解并同時吸附擴散轉印接受核，即親水層與擴散轉印層為同一層。例如纖維素醋類片基平印版材。
其工藝路線是(結構如圖2所示)在支持體(1)的表層水解，形成水解層(2)，同時吸附接受核-水洗-干燥-涂感乳劑層(3)。
第二種方法是在支持體含有硝化纖維素的底層上直接涂布擴散轉印層。專利有富士公司的昭50-19506，但這種底層在工業生產上不安全，且耐磨性差同公司專利GB1，363，311否定這種工藝。
其工藝路線是(結構如圖3所示)在支持體(1)上涂布底層(2)-涂布接受核層(擴散轉印層(3))-涂銀鹽乳劑層(4)(感光層)。
本發明的目的是改進現有向下擴散轉印工藝，提高銀鹽擴散轉印平印板材的親水、蓄水、耐磨性，降低成本。
本發明是涂層型向下擴散轉印平印版材。其工藝過程是感光乳劑中的鹵化銀向下擴散轉印過程。使用陽圖原稿經照相或拷貝曝光，乳劑層受光部分形成潛影，在擴散轉印顯影液中被還原成金屬銀。未受光部分(即圖象部分)的鹵化銀在顯影過程中形成易溶解的銀鉻合物，并很快被溶解擴散到含有物理顯影核(重金屬硫化物)的接受層中，鉻合物中的銀離子迅速被還原成金屬銀而留在版材的耐磨親水性表面。用35～40℃溫水洗除乳劑層版面上，就露出與原稿一致的帶金屬明亮光澤的銀圖象，而原來在乳劑層中形成潛影部分與乳劑層一同洗掉。
本發明是在滌綸片基、醋酸纖維素片基、涂塑紙基、金屬板基等不同支持體上，依次涂底層(或帶防光暈層)、親水耐磨層、擴散轉印接受核層和不同感光波長的銀鹽乳劑層。
其工藝路線是(結構如圖4所示)在支持體(1)上涂有底層(2)(防光暈層)→涂布親水耐磨涂層(3)→涂布擴散轉印接受核層(4)→涂布銀鹽乳劑層(5)。
本發明由于增加了親水耐磨涂層，提高了版材的親水、蓄水、耐磨性，保持了銀圖象的良好親油墨性，分辨率達到150線/吋，印刷時用清水潤版也不上臟，制好的印版可長期存放，重復使用。本發明采用安全、價廉的普通國產化工原材料，降低了生產成本。
本發明的主要性能是制版工藝簡便，一次曝光，顯影、洗除乳劑層就得到忠實還原原稿的金屬銀圖象。經親油處理后直接上機印刷，省去了一般制版所需的照相和拷貝軟片，節約成本，耐印力較高，滌綸片基平印版耐印力12000張/版以上。
采用清水潤版，節約成本，消除以往酸性潤版液對機器的腐蝕及對操作人員的危害。
版材含銀量比通用的制版軟片降低40%，在制版過程中約有80～85%的銀被洗下來，經過回收，節約銀的消耗。縮短了熱固化時間(由3～14天減到1-7小時)，便于工業生產。
由于大部分工藝操作在明室進行，給操作者帶來方便，又降低了成本。其價格比進口銀鹽紙基版便宜1/2左右。用途廣泛。
其工藝流程是(如圖5所示)先在明室條件下涂布親水耐磨層和擴散轉印層，經數小時熱固化后再在暗室中涂布感光乳劑層。
以下結合圖5以滌綸片基平印版為例進一步對本發明敘述。
1、選用有底層(可帶蘭色或黑色防光暈層)的滌綸片基為支持體。防光暈層涂在片基背面可起防卷曲作用。
2、親水耐磨層，選用平均粒徑為1-10μ、用量0.5-10g/M2的二氧化硅、碳酸鈣、氧化鋁、硫酸鋇、二氧化鈦、等無機顏料和用量為5-20g/M2的硅溶膠。以明膠、羥甲基纖維素、糊精、羥乙基淀粉、羥乙基纖維素、聚乙稀醇等為粘結劑，用量為2-7g/M2，以及適量防腐劑，堅膜劑等附加助劑制備涂布液。
3、擴散轉印層。在親水耐磨層上，涂布含有銻、鉍、鈀、鎘、鈷、鎳、錫、鋅、銀等貴重金屬硫化物的擴散轉印物理顯影核(或稱接受核)層。制備涂布液采用與上述親水耐磨層相同的粘接劑作為分散劑，重金屬硫化物顆粒應在0.5-100mμ范圍內。分散劑用量為0.05-1g/M2。最好是選用價格便宜的氯化鎳與硫化鈉分別配成0.05～0.5%和0.15～1.5%的水溶液，在分散劑條件下反應制成硫化鎳擴散轉印涂布液。涂布接受核層后，在40～100℃左右的溫度下加熱固化1-7小時左右。使版材具有擴散轉印性能，達到印刷需要的反差、轉印密度和銀圖象金屬光澤。
4、感光乳劑層，根據直接制版的使用要求，采用通常的化學增感、光學增感方法，制備與不同波長光源相相配的色盲乳劑、正色乳劑、全色乳劑以及激光乳劑等特殊感光乳劑，分別制成不同光源用的銀鹽平印版。
權利要求
1.一種銀鹽擴散轉印平印版材，是一種涂層型向下擴散轉印平印版材，其特征在于在底層與擴轉層之間多一層含有無機顏料、硅溶膠的親水耐磨層。
2.按照權利要求
1所述的平印版材，其特征在于親水耐磨涂層用二氧化硅、碳酸鈣、氧化鋁、硫酸鋇、二氧化鈦等無機顏料，用量為0.5～10g/M2，用硅溶膠5～20g/M2用明膠、羥甲基纖維素、糊精、羥乙基淀粉、羥乙基纖維素、聚乙烯醇等粘結劑，用量為2～7g/M2，適量防腐劑，堅膜劑制備涂布液。
3.根據權利要求
1所述的平印板材，其特征在于擴散轉印層中含有銻、鉍、鈀、鎘、鈷、鎳、錫、鋅、銀等重金屬硫化物的接受核，采用0.05～0.5%的氯化鎳和0.15～1.5%硫化鈉水溶液在分散劑保護下反應制成含硫化鎳顆粒為0.5～100mμ的擴散轉印層涂布液，其中分散劑用量為0.05～1g/M2。
4.一種銀鹽擴散轉印平印版材的工藝方法，其特征在于工藝路線是在支持體(1)上涂底層(2)→涂布親水耐磨層(3)→涂布擴散轉印接受核層(4)→涂布銀鹽乳劑層(5)。
5.根據權利要求
4所述的工藝方法，其特征在于涂布接受核層后，在40～100℃左右的溫度下加熱固化1-7小時。
專利摘要
一種新型平印版材及其工藝方法，是在不同支持體底層上增加了含有無機顏料和硅溶膠的親水耐磨層，改進了涂層型向下擴散轉印工藝，提高了版材的親水、蓄水和耐磨性能，保持了銀圖象有良好的親墨性，用清水潤版也不上臟，印品質量優良，分辨率達150線/時。該版材大部分工藝過程在明室條件下操作，縮短版材熱固化時間，采用國產原材料，制造工藝簡便，降低了成本，制成的版可長期保存，重復使用，用途廣泛。
文檔編號G03F7/06GK87102319SQ87102319
公開日1988年10月12日 申請日期1987年3月28日
發明者黃頌安, 哈惠榮 申請人:中國印刷科學技術研究所導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan