專利名稱：采用托盤組件的導引路徑的處理設備和方法
技術領域：
本發明涉及一種處理感光材料的感光材料處理設備。
處理諸如膠片或相紙這樣的感光材料涉及一系列步驟，諸如顯影、漂白、定影、沖洗和干燥。這些步驟涉及傳送連續的一卷膠片或者膠片或相紙的一些切片陸續經過一系列工作臺或處理槽，后者各自盛放一種適合于該工作臺處處理步驟的不同處理溶液。
某些處理裝置的處理槽采用一系列托盤結構，依靠溶液的溢流來處理感光材料。比如，在歐洲專利申請0762205中，各傳送滾輪設置在各溶液器皿的上方。溶液從各滾輪上方隨著感光材料在各傳送滾輪與各溶液器皿之間被傳輸而供向并溢出各溶液器皿。溢出溶液落到下面較低的一組傳送滾輪和/或溶液器皿上面。在這種型式的構造中，隨意感光材料從第一組滾輪和溶液器皿被傳輸到下一較低的一組滾輪和溶液器皿，溶液和感光材料二者都暴露于大氣。這一點在感光材料被傳輸通過沖洗設備時會對其質量產生不利影響。此外，暴露于大氣的溶液可能結晶在各滾輪上，這也會導致對感光材料的損害。
本發明提供一種用于處理感光材料的處理槽和處理組件，包括一溶液托盤或器皿結構，它具有從中伸出的一導引流路或槽道。導引流路接納施加于托盤組件的溢流處理溶液，以便導引處理溶液，以及通過它的感光材料。
采用本發明的構造，隨著感光材料進入溢流處理溶液所通過的導引流路，感光材料可以容易地在導引流路中與處理溶液相互作用，而不被暴露于大氣。
本發明提供一種用于處理感光材料的設備，此設備包括至少一個處理槽，具有一條用于感光材料的處理路徑。此至少一個處理槽包括至少一個沿著處理路徑的向下部分的第一處理組件和至少一個沿著處理路徑的向上部分的第二處理組件。各第一和第二處理組件包括一托盤組件，在其中接納處理溶液；一傳送滾輪組件，它至少部分地浸沒在盛放于托盤內的處理溶液之中；以及從托盤裝置伸出的一導引流路。此導引流路接納來自托盤裝置的處理溶液溢流并導引感光材料和溢流處理溶液從中通過。
本發明還涉及一種用于處理感光材料的設備。此設備包括至少一個處理槽，此槽包括至少一個處理組件。此至少一個處理組件包括一接納部分，用于在其中接納處理溶液，以及一導引部分，該導引部分導引感光材料和來自接納部分的溢流處理溶液從中通過。
本發明還涉及一種處理感光材料的方法，此方法包括以下步驟在一處理槽中配置至少一個處理組件，此至少一部處理組件包括一托盤組件和一從托盤組件伸出的導引流路；向至少一個處理組件供應處理溶液，以便溢出托盤組件并被引入導引流路；以及通過處理組件的導引流路傳送一感光材料，以致溢流處理溶液可在導引流路中處理感光材料。
圖1示出具有本發明的處理組件的一種處理槽的實施例；圖2A和2B示出可以設置在本發明的處理槽的處理路徑上的紋理表面；圖3示出圖1處理槽的另外一種構造；以及圖4示出圖1處理槽的另外一種構造。
現在參照附圖，其中在所有附圖中，同樣的參照編號表示相同的或相應的零部件。圖1示出了用于處理感光材料的一處理機的一處理槽7。處理感光材料涉及一系列步驟，包括一系列盛放顯影溶液、漂白溶液、定影溶液和沖洗溶液的處理槽。處理槽7可以是處理過程中任何上面提到的槽并可以盛放任何上面提到的溶液。因此，如圖1所示槽7可用于但不限于一處理程序的沖洗步驟。槽7也可以是比如示于美國專利第5311235號之中的一種低容積淺槽或者架和槽裝置，此項專利的內容在此納入作為參考。
槽7包括一入口9，用于接收有待處理的感光材料，以及一出口11，感光材料通過該出口離開槽7。在本發明的上下文中，處理和處理溶液可以分別指的是上述一系列步驟和溶液中的任一個步驟和溶液。感光材料進入槽7時，被引向一第一處理組件15。第一處理組件15包括一傳送滾輪組件17，具有滾輪17a和17b，感光材料在其間通過。傳送滾輪組件17部分地位于一托盤組件19之中。托盤組件19包括一第一托盤部分19a，位于滾輪17a以下，以及一第二托盤部分19b，位于滾輪17b以下。一導引路徑或槽道21連通于并從第一和第二托盤部分19a、19b伸向位于第一處理組件15下方的另一處理組件15a。
再回來參照第一處理組件15，諸如沖洗溶液這樣的處理溶液在一孔口22處予以施加，以便溢出托盤組件19。溢出托盤裝置19的處理溶液通過開口90被導向導引路徑21并沿著導引路徑21到位于第一處理組件15下方的處理組件15a。因而，隨著感光材料通過滾輪17a、17b的嚙合部分之間，部分地浸沒在溢流溶液中的滾輪17a、17b向感光材料施加溶液。感光材料以及來自托盤組件19的溢流的處理溶液然后被引進導引路徑21，以便隨著感光材料和處理溶液沿著導引路徑21行走而處理感光材料。由于在托盤組件19的托盤部分19a、19b之間設置導引路徑21，感光材料在移動和盡量減少暴露于大氣的同時受到沖洗。
為了進一步加強處理溶液的處理功能，導引路徑21可以包括一紋理表面，隨著處理溶液沿著導引路徑21向下流動該紋理表面攪動處理溶液。圖2A和2B是紋理式流體承載表面200和205的透視圖，該表面可以設置在導引路徑21的一面或兩面上。紋理表面200和205可以用任何一種已知的工藝方法，比如壓花、模制、EOM電火花加工或者鍍敷，來形成紋理。壓花202或206分別表示在表面200和205上。紋理處理(圖2A、2B)和斜面處理(圖2A)可改進處理溶液在感光材料與導引路徑21的一面或兩面之間的流動，并可防止感光材料粘在表面上。
作為本發明的另一特點，導引路徑21可以包括噴咀23，用以隨著感光材料順著導引路徑21向下通行而把處理溶液施加于感光材料，以進一步加強諸如清洗這樣的處理。
隨著感光材料和處理溶液在開口25處離開第一處理組件15，感光材料進入下一處理組件15a的傳送滾輪組件27的滾輪27a、27b的嚙合部分。同樣，在出口25處離開第一處理組件15的處理溶液落到下一處理組件15a的傳輸滾輪組件27上面并充滿下一處理組件15a的一托盤組件29。這種設置盡量減少了感光材料暴露于大氣。與在處理組件15之中一樣，托盤組件29包括一在滾輪27a下方的第一托盤部分29a和一在滾輪27b下方的第二托盤部分29b。處理溶液溢出托盤組件29并通過開口91被引進另一導引路徑或槽道31。離開第一處理組件15的感光材料連同溢流沖洗溶液一起由傳送滾輪組件27傳送到導引路徑31內。在處理組件15a之中，感光材料在它穿過導引路徑31時進一步由溶液溢流予以處理。如同導引路徑21那樣，導引路徑31也可以包括一種如圖2A和2B所示的和參照處理組件15所說明的紋理表面，以及噴咀23，以進一步加強處理。
隨著感光材料離開與處理組件15一起限定處理路徑的向下部分的處理組件15a，它進入一回轉部分33，此回轉部分包括傳送滾輪35、37、39，以及導引表面41和43。在開口32處離開導引路徑31的處理溶液落到感光材料從中通過的傳送滾輪35上，而傳送滾輪35把處理溶液施加于感光材料并把感光材料導引到導引表面41上。進入槽7的處理溶液可以積蓄在槽7的下部之內，達到由直線45所示的高度，以便確保離開處理組件15a的感光材料保持潮濕并在它沿著導引表面41、傳送滾輪37和導引表面43被傳輸時盡可能少地暴露于大氣。
感光材料此后由傳送滾輪39送入包括處理組件15a′和15′的處理路徑的一向上的路徑內。沿著此向上的路徑，處理組件15a′和15′類似于處理組件15a和15，但不包括噴咀23。于是，用于說明處理組件15和15a的同樣的參照編號也用于說明處理組件15′和15a′，例外的是，在用于處理裝置15′和15a′的參照編號的端部處加上一撇。
因此，感光材料由滾輪39通過開口32′傳送到處理組件15a′的導引路徑31′，并沿著路徑31′向上傳送通過開口91′，直到抵達部分地浸沒在盛放于托盤組件29′之內的處理溶液之中的傳送滾輪組件27′的嚙合部分為止。傳送滾輪組件27′包括分別位于托盤組件29′的托盤部分29a′和29b′之上的滾輪27a′和27b′。傳送滾輪組件27′可把感光材料向上傳送通過開口25′進入處理組件15′的導引路徑21′內，此組件15′包括托盤組件19′，連同設置在其中的傳送滾輪組件17′。感光材料通過開口90′離開導引路徑21′并穿過傳送滾輪組件17′的滾輪17a′和17b′之間的嚙合部分。處理組件15′的傳送滾輪組件17′此后把感光材料傳送到處理槽7的出口11。
本發明的處理槽7可以包括一孔口47，把新鮮處理溶液引入處理組件15′。新鮮處理組件溶液施加于托盤組件19′，以致溢出托盤組件19′并通過開口90′把溢流處理溶液引向導引路徑21′。托盤組件19′包括分別設置在滾輪17a和17b′下方的托盤部分19a和19b′。來自托盤組件19′的溢流處理溶液隨后由導引路徑21′導引并通過開口25′引向傳送滾輪組件27′和托盤組件29′。溢流處理溶液然后通過開口91′進入處理組件15a′的導引路徑31′。
因此，隨著感光材料被引導通過處理路徑的向上部分，以及隨后被傳送通過處理組件15a′和15′，新鮮處理溶液在處理組件15′的孔口47處被施加并朝著處理組件15a′向下流動。在處理組件15a′處，溶液被引導通過導引路徑31′并通過開口32′出來到傳送滾輪39上而到達回轉部分33。這樣就隨著感光材料在處理路徑的向上部分之中向上傳輸而對感光材料形成一股新鮮處理溶液的逆流。
每一導引路徑21′和31′的一面或兩面也可以包括圖2A和2B所示的和參照處理組件15和15a的導引路徑21和31所說明的紋理表面。
處理槽7包括在底部處的一泄放口51，它被裝于一重新循環系統53上。重新循環系統的一個例子示于比如美國專利5309191之中，此專利的內容在此納入作為參考。收集在槽7底部的處理溶液經過重新循環系統53流進第一處理組件15的孔口22。作為本發明的另一特點，重新循環的處理溶液可以有選擇地經由管線53a和53b通向處理組件15和15a的噴咀23。因此，采用本發明的設置，隨著感光材料沿著處理路徑的向下部分(處理組件15和15a)被傳送，感光材料不斷地用重新循環的處理溶液予以處理。隨著感光材料沿著處理路徑的向上部分(處理組件15a′,15′)被傳送，感光材料不斷地用新鮮處理溶液予以處理，此溶液隨后積聚在槽7底部并經由重新循環系統53予以重新循環而因此可選擇地施用于處理組件15,15a。
圖3是圖1實施例的另一構造，因此，對于類似的零件，圖3中使用了與圖1中所使用的相同的參照編號。圖3的實施例不同于圖1的實施例之處在于，所有的處理組件15、15a、15a′和15′都包括噴咀23。圖3實施例的操作，以及圖3各零件的規格都與圖1中所說明的操作和相應的零件一樣。
圖4是圖1實施例的另一構造，因此，對于類似的零件，圖4使用了與圖1中所使用的同樣的參照編號。圖4的實施例不同于圖1的實施例以及圖3的實施例之處在于，處理組件15、15a、15a′和15＇都不包括噴咀23。圖4實施例的操作，以及圖4中零件的規格都與圖1中所說明的操作和相應的零件相同。另外應當指出，如圖3和4所示的導引路徑21、31、21′和31′也可以包括如圖2A和2B所示的紋理表面。
此外，盡管圖中所示的實施例表明沿著處理路徑的向下部分有兩個處理組件和沿著處理路徑的向上部分有兩個處理組件，但應當認識到，處理組件的數量是基于各種設計考慮事項、處理槽的大小和處理路徑的長度。如附圖中進一步表明的那樣，每一處理組件都設置成限定了處理路徑并還盡量減少被處理的感光材料暴露于大氣。另外，應當認識到，在感光材料從槽7出來的區域處施加新鮮處理溶液，是一個例子，并且新鮮處理溶液可以在槽7的入口和出口兩處施加。
本發明已經具體參照其某些優選實施例予以詳細說明，但將會理解，在本發明的原則和范圍內是可以作為各種變更和改動的。
權利要求
1．一種用于處理感光材料的設備，此設備包括至少一個處理槽，具有一用于處理感光材料的處理路徑，所述至少一個處理槽包括沿著處理路徑的一向下部分的至少一個第一處理組件和沿著處理路徑的一向上部分的至少一個第二處理組件；其中各第一和第二處理組件包括一托盤組件，在其中接納一處理溶液；一傳送滾輪組件，至少部分地浸沒在盛放于托盤組件之內的處理溶液之中；以及一導引路徑，從所述托盤組件延伸，所述導引路徑接納來自所述托盤組件的處理溶液溢流并導引感光材料和溢流處理溶液從中通過。
2．按照權利要求1所述的設備，其中所述導引路徑包括一紋理表面，該紋理表面攪動溢出所述托盤組件和行徑所述導引路徑的所述處理溶液，這樣所述經過攪動的處理溶液在所述導引路徑之中處理感光材料。
3．按照權利要求1所述的設備，其中所述導引路徑包括至少一個噴咀，用以把處理溶液噴加于導引路徑之中的感光材料。
4．按照權利要求1所述的設備，其中所述處理溶液是沖洗溶液、顯影溶液、漂白溶液和定影溶液之中的一種，該溶液供向所述托盤組件以產生一股處理溶液溢流，此處理溶液溢流從所述托盤組件被引向所述導引路徑，以允許由溢流處理溶液在導引路徑之中處理感光材料。
5．按照權利要求所述的設備，其中所述傳送滾輪組件包括第一和第二對置的滾輪。感光材料通過其間，而所述托盤組件包括設置在第一滾輪下方的第一托盤部分和設置在第二滾輪下方的第二托盤部分，所述導引路徑從第一與第二托盤部分之間向下延伸。
6．按照權利要求1所述的設備，其中所述至少一個在處理路徑的向下部分中的第一處理組件位于處理槽的一進口處，所述至少一個第一處理組件的導引路徑把感光材料和導引路徑中的溢流處理溶液引向一相鄰的下游處理組件的一傳送滾輪組件的嚙合部分。
7．按照權利要求1所述的設備，其中所述至少一個在處理路徑向上部分中的第二處理組件位于處理槽的一出口處，所述至少一個第二處理組件的導引路徑從一相鄰的上游處理組件的一傳送滾輪的嚙合部分接納感光材料，而溢流處理溶液由至少一個第二處理組件的導引路徑引向相鄰的上游處理組件的傳送滾輪組件的嚙合部分。
8．一種用于處理感光材料的設備，此設備包括至少一個處理槽，該槽包括至少一個處理組件，所述至少一個處理組件包括一接納部分，用于在其中接納處理溶液，以及一導引部分，用以導引感片材料和來自接納部分的溢流處理溶液從中通過。
9．一種處理感光材料的方法，此方法包括以下步驟在一處理槽中設置至少一個處理組件，所述至少一個處理組件包括一托盤組件和一從托盤組件延伸的導引路徑；向至少一個處理組件供應處理溶液，以便溢出托盤組件并被引入導引路徑；以及傳送感光材料通過處理組件的導引路徑，以致溢流處理溶液可在導引路徑中處理感光處理。
10．按照權利要求9所述的方法，其中至少一個處理組件的所述導引路徑延伸到另一處理組件，以便把感光材料引向另一處理組件。
全文摘要
一種處理組件,包括一處理槽,此槽具有一條用于感光材料的處理路徑。處理槽包括至少一個沿著處理路徑的向下部分的第一處理組件和至少一個沿著處理路徑的向上部分的第二處理組件。各處理組件都包括一托盤組件和從托盤伸出的導引路徑或槽道。導引路徑或槽道接納來自托盤組件的溢流處理溶液并還導引感光材料。
文檔編號G03D3/13GK1214466SQ9812091
公開日1999年4月21日 申請日期1998年10月9日 優先權日1997年10月9日
發明者小R·L·皮斯尼諾 申請人:伊斯曼柯達公司