專利名稱：光波導器件的制造方法
技術領域：
本發明涉及一種光波導器件，具體地說，涉及一種用光學聚合物制造光波導器件的方法，這種方法通過從后面照射紫外(UV)光達到簡化制造工藝的目的。
用光學聚合物制造光波導器件通常采用RIE(應離子蝕刻)法、光致漂白法或還原引發波導法。然而，這些方法需要增設真空設備，而且增加處理時間和工藝的復雜性，從而降低生產率。
因此，本發明的目的是提供一種采用可用UV光固化的光學聚合物因而大大簡化了的制造光波導器件的方法。
本發明的另一個目的是提供一種無需增設制取光波導器件的真空設備，能縮短處理時間的制造光波導器件的方法。
為達到上述目的，本發明提供的制造光波導器件的方法是先在玻璃襯底表面形成下被覆層，再在下被覆層上形成金屬層，然后通過有選擇地腐蝕金屬層形成金屬圖形，以便在其中形成波導核。接著，在金屬圖形中形成光學聚合物層，用UV光照射襯底的下表面來固化金屬圖形無金屬部分中的光學聚合物層，再除去光學聚合物層除其固化部分和金屬層以外的其它部分來形成波導核。最后，在下被覆層和波導核上形成上被覆層。
參看附圖詳細說明本發明的最佳實施例可以更清楚了解本發明的上述目的和優點。附圖中
圖1至圖9是依次舉例說明本發明最佳實施例光波導器件制造方法的剖視圖。
現在參看附圖詳細說明本發明的一個最佳實施例。本發明的那些認為可能會使本發明的主題變得模糊的周知功能或結構，這里就不詳細說明了。
圖1至圖9是依次舉例說明本發明最佳實施例光波導器件制造方法的剖視圖。
圖1中，下被覆層102是通過在透明玻璃襯底100上淀積被覆材料形成的。這里，襯底100能讓固化處理光學聚合層110的UV光108透過，是由幻燈片玻璃或聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯制成的聚合物玻璃構成的。下被覆層102的折射率小于形成波導核114的光學聚合物材料，且在所使用的光波長范圍能讓光透過。
圖2中，金屬層104淀積在下被覆層102上，光致抗蝕劑106通過旋轉被覆法淀積在金屬層104上，將波導核114掩埋起來。
接著，如圖3所示用UV光108通過掩模照射上面形成有光致抗蝕劑106的金屬層104，從而如圖4所示形成波導核114相應的金屬圖形W。接著，將光致抗蝕劑106浸漬在顯影液中使光致抗蝕劑106顯影，然后烘焙。這樣，金屬圖形W就在金屬層104上形成，如圖5所示。
圖6中，為形成波導核114，用旋轉被履法在金屬層104上淀積可用UV光108固化的光學聚合物，形成光學聚合物層110。這里，光學聚合物層110的光學聚合物可以是線性或非線性的，其折射率大于下被覆層102和上被覆層116，而且在所使用的光波長范圍的光透射損耗低。接著，將UV光108照射到上面形成有光學聚合物層110的襯底100下表面。于是，由于采用金屬層104作為掩模，固化的只是金屬圖形W中光學聚合物層110的一部分，金屬層104的其它部分仍然處在未固化狀態。
圖7中，用適當的腐蝕液清理光學聚合物層110時，光學聚合物層110未固化的部分被腐蝕，金屬圖形W中的固化部分沒有受到腐蝕，從而形成波導核114。接著，用適當的腐蝕液將作為掩模的金屬層104腐蝕掉，如圖8中所示。
圖9中，上被覆層116由折射率小于波導核114的被覆材料在上面有波導核114的下被覆層102上形成，這樣就完成了光波導器件的制造過程。
這里，要使非線性光學聚合物的電場產生還原作用可以在襯底100上配備透明電極，而這些電極可用來制造依靠光電效應的器件。此外，還可以在上被覆層116上形成金屬電極加熱器或金屬電極，以便制造利用光熱或光電效應的器件。
綜上所述，在本發明實施例制造光波導器件的方法，采用UV光可固化的光學聚合物制取光波導器件可以簡化制造工藝。此外，從背后照射UV光可以防止光學聚合物和光掩膜因光掩膜與光學聚合物層直接接觸而受污染。形成金屬層作為UV光照射到襯底下表面時的掩模，可以無需在襯底上對正光掩膜，從而產生自行對準的作用。
上面已就本發明的某一最佳實施例進行示范和說明，但本技術領域的行家們都知道，在不脫離本發明在所附權利要求書所述的精神實質和范圍的前提下是可以在形式和細節上作種種修改的。
權利要求
1.一種制造光波導器件的方法，其特征在于，它包括下列步驟在玻璃襯底表面形成下被覆層；在下被覆層上形成金屬層；通過有選擇地蝕刻金屬層形成金屬圖形，以便在其中形成波導核；在金屬圖形中形成光學聚合物層；用UV光照射襯底的下表面固化金屬圖形無金屬部分的光學聚合物層；除去光學聚合物層除固化部分和金屬層以外的其它部分，由此形成波導核；在下被覆層和波導核上形成上被覆層。
2.如權利要求1所述的制造光波導器件的方法，其特征在于，襯底由幻燈片玻璃、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯制成。
3.如權利要求1所述的制造光波導器件的方法，其特征在于，光學聚合物層在所使用的光波長范圍能讓光透過，且由折射率大于上被覆層和下被覆層的非線性聚合物材料制成。
4.如權利要求1所述的制造光波導器件的方法，其特征在于，光學聚合物層在所使用的光波長范圍能讓光透過，且由折射率大于上被覆層和下被覆層的線性聚合物材料制成。
5.如權利要求1所述的制造光波導器件的方法，其特征在于，光學聚合物層和金屬層用腐蝕除去。
全文摘要
光波導器件的一種制造方法。制取光波導器件時,先在玻璃襯底表面形成下被覆層,再在下被覆層上形成金屬層,然后通過有選擇地腐蝕金屬層形成金屬圖形,以便在其中形成波導核。接著,在金屬圖形中形成光學聚合物層,再用UV光照射襯底的下表面固化金屬圖形無金屬部分中的光學聚合物層,然后除去光學聚合物層除固化部分和金屬層以外的其它部分,由此形成波導核。最后,在下被覆層和波導核上形成上被覆層。
文檔編號G03F7/00GK1194381SQ98105599
公開日1998年9月30日 申請日期1998年3月12日 優先權日1997年3月12日
發明者俞炳權, 李炯宰, 李泰衡, 李勇雨 申請人:三星電子株式會社