專利名稱：成像復印薄膜的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種成像復印薄膜，特別是一種靜電成像復印薄膜。
可投射影像的幻燈片是人所共知的，并可由一種透明的聚合物薄膜基質和用靜電復印法加在上面的影像或印跡制成。但是，這種靜電復印法使用比較高的溫度，這就影響了聚合物薄膜的卷曲度和平直度。日本的未審查過的專利申請書63-11326號描述了由一種無涂層的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜制成的低畸變光學記錄介質。
此外，靜電復印的影像可能缺乏持久性，即在重復的觸摸和使用中耐磨性較差，除非是采取特殊的措施，使薄膜基質與影像層之間產生適當的粘著力。適于在靜電激光照相印刷機或在寬型(841×1189毫米)復印機中使用的有顏料(白色)的或不透明的復印或繪圖薄膜也遇到類似的問題。
本發明涉及對靜電成像薄膜的卷曲度和平直度和該薄膜基質與成像層(由復印用色粉和靜電復印法生成)之間的粘著力的同時改善。
因此，本發明提供一種成像復印薄膜，它由兩部分構成(1)一種熱塑性聚合物材料基膜，該薄膜的橫向(TD)熱脹百分率在150℃時為0.01到1.0%，縱向(MD)百分率的熱縮在150℃時為0.4到2.0%;(2)至少一個面上有一層接受層，它由一種丙烯酸樹脂和/或甲基丙烯酸樹脂構成。
本發明還提供一種生產成像復印薄膜的方法，即在熱塑性聚合物薄膜基質的至少一面上生成一種丙烯酸樹脂和/或甲基丙烯酸樹脂接受層，該聚合物薄膜的橫向(TD)熱脹百分率在150℃時為0.01到1.0%，縱向(MD)熱縮百分率在150℃時為0.4到2.0%。
按照本發明，成像薄膜的基質可由任何一種適用的熱塑性聚合物成膜材料構成。適用的熱塑性材料包括1-烯烴，如乙烯、丙烯和1-丁烯的均聚物或共聚物;聚酰胺;聚碳酸酯;尤其是合成的線型聚酯，后者可由一種或多種二羧酸或其較低級的烷基(6碳原子以下的)二酯與一種或多種二醇起縮合反應而得。比如由有對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、2，5-2，6-或2，7-萘二甲酸、丁二酸、癸二酸、己二酸、壬二酸、4，4′-二苯基二羧酸、六氫化對苯二甲酸或1，2-雙-對羧基苯氧基乙烷(可與任意選用一種一元羧酸，如新戊酸共用)等與一種或多種二醇類特別是脂族二醇，例如乙二醇、1，3-丙二醇、1，4-丁二醇、新戊二醇和1，4-環己烷二甲醇等縮合而成。聚對苯二甲酸乙二酯薄膜特別適用，尤其是在互相垂直的兩個方向經過相繼拉伸的。典型的拉伸溫度為70到125℃之間，最好是在典型的溫度范圍150到250℃之間經過熱定形的，例如英國專利838708號中所述。
該基質還可含有一種聚芳基醚或其硫代類似物，特別是聚芳基醚酮、聚芳基醚砜、聚芳基醚醚酮、聚芳基醚醚砜或它們的共聚物或硫代類似物。這些聚合物的例子在EP-A-1879、EP-A-184458和US-A-4008203等專利中曾公開過;其中特別適用的材料是ICIPLC以STABAR注冊商標出售的那些。也可使用這些聚合物的共混物。
按照本發明，成像復印薄膜的基質可以方便地含有聚合物薄膜生產中任何一種常用的添加劑。因此，染料、顏料、疏松劑、潤滑劑、抗氧化劑、防粘劑、表面活性劑、助滑劑、光澤劑、降解助劑、防紫外線劑、粘度調節劑和分散穩定劑等可適當地加入基質層中。
欲用作投影薄膜的基質應透明，以便在投影操作中能相對無限制地通過光線。但是，對于素紙的復印操作則可使用不透明或有顏料的聚合物基質。因此，一種基質可通過在其一面上施加一種有顏料的涂層而成為有顏料的;或者一種基質可通過在成膜熱塑性聚合物中加入有效數量的不透明劑而變為不透明。在本發明的另一個實施例中，通過在聚合物中加入有效數量的能形成不透明、疏松的基質結構的藥品而使不透明的基質變得疏松。同時能賦予不透明性的適用疏松劑含有一種不相容的樹脂填料、一種顆粒狀無機填料或者兩種或多種這些填料的混合物。
適用于制造不透明、疏松基質的顆粒狀無機顏料包括通常的無機顏料和填料，特別是金屬或準金屬的氧化物，如氧化鋁、二氧化硅和二氧化鈦，以及堿土金屬的鹽類，如鈣和鋇的碳酸鹽和硫酸鹽類。硫酸鋇是特別適用的填料，它還兼有疏松劑的功用。
生產具有良好的不透明度、疏松度和白度的基質時，要求填料應為細粉碎狀，其平均粒度希望是從0.1到10微米，并保證99.9%(數目)的顆粒的實際粒度不超過30微米。填料的平均粒度以從0.1到1.0微米較好，最好是從0.2到0.75微米。
填料，特別是硫酸鋇在聚合物基質中加入的數量，以聚合物的重量為準，希望既不小于5%(重量)，也不大于50%(重量)。當填料的比例(以聚合物基質的重量為準)為從8到30%(重量)，特別是從15到20%(重量)時，其不透明度和光澤達到特別優良的水平。
薄膜基質的厚度以從25到500微米較好，從50到300微米更好，最好是從75到175微米。
為了使本發明的成像復印薄膜畸變較小，卷曲度較輕和平直度較高(或皺紋較輕)，要求該聚合物基質150℃的沿薄膜橫向(TD)的熱脹百分率為0.01到1.0%，而150℃時沿薄膜縱向(MD)的熱縮百分率為0.4到2.0%。該基質在150℃時的TD膨脹為0.2到0.8%和150℃時的MD收縮為0.5到1.5%較好;150℃時的TD膨脹為0.3到0.5%和150℃時的MD收縮為0.7到1.0%最好。如果該基質的性能超出上述范圍，則該薄膜在靜電復印法中使用后會在邊緣產生卷曲和平直度低劣，因而畸變嚴重。
例如，在生產一種雙軸拉伸的薄膜時，可制備本發明的成像復印薄膜的基質。在典型的生產雙軸拉伸的薄膜的方法中，最好是先將薄膜在一系列轉輥上進行縱向拉伸，然后再在拉伸幅機烘箱中進行橫向拉伸。最好隨后在拉幅機裝置中在張力下進行加熱定形。橫向張力可借夾持薄膜的夾片來產生，這些夾片連接在拉幅機裝置相對兩側的平行軌道上。可以通過將軌道朝著拉幅機的出口端往內移來減小或消除橫向張力，這稱為“回縮”(toe-in)。采用回縮法，可使薄膜收縮到一定程度，用此方法可制得具有所要求的TD膨脹和MD收縮性能的薄膜。所采用的回縮量，例如在生產聚對苯二甲酸乙二酯薄膜時應為0.1到10%，以3到7%較好，3.5到6%最好。所需的準確回縮量，視所生產具體薄膜和所采用的其他操作條件而定。拉幅機以在較高的溫度下操作較好。例如，對于聚對苯二甲酸乙二酯薄膜來說，拉幅機溫度以230到245℃為宜，最好是235到240℃。
本發明的成像復印薄膜的接受層，由一種成像聚合物樹脂構成。適用的聚合物至少含有由一種丙烯酸酯組成的一種單體，特別是一種烷基酯，其烷基含有10個以下的碳原子，如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、己基、2-乙基己基、庚基和正辛基。由一種丙烯酸烷基酯(如丙烯酸乙酯和丙烯酸丁酯)與甲基丙烯酸烷基酯共同生成的聚合物較好。由丙烯酸乙酯和甲基丙烯酸甲酯生成的聚合物特別適用。丙烯酸酯單體的含量比例最好在30到65%(摩爾)的范圍內，而甲基丙烯酸酯單體的含量比例則最好在20到60%的范圍內。
適用于制備接受層聚合物樹脂并可能作為任選的補充單體而與丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸及其衍生物進行共聚合的其他單體有丙烯腈、甲基丙烯腈、鹵代丙烯腈、鹵代甲基丙烯腈、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-羥甲基丙烯酰胺、N-乙醇丙烯酰胺、N-丙醇丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-乙醇甲基丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-叔丁基丙烯酰胺、甲基丙烯酸羥乙酯、丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、衣康酸、衣康酸酐和衣康酸半酯。
接受層聚合物的其他選用單體有乙烯基酯如乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、乙烯基吡啶、氯乙烯、偏氯乙烯、馬來酸、馬來酸酐、苯乙烯及苯乙烯衍生物，如氯苯乙烯、羥基苯乙烯和烷化苯乙烯(烷基含有1到10個碳原子)。
接受層聚合物最好由三種單體制得，含有35～60%(摩爾)的丙烯酸乙酯，30～55%(摩爾)的甲基丙烯酸甲酯和2～20%(摩爾)的甲基丙烯酰胺。
接受層聚合物的分子量可在很寬的范圍內變動，但以在40，000到300，000之間較好，50，000到200，000范圍內更好。
如有必要，接受層組合物還可包含一種交聯劑，它有使聚合物層交聯的功用，從而改善它與聚合物薄膜間的粘著力。此時，該交聯劑最好能導致內交聯，以防止溶劑滲透。適用的交聯劑有環氧樹脂、醇酸樹脂、胺衍生物如六甲氧基甲基蜜胺和/或一種胺與一種醛例如甲醛的縮合產物，所用胺有蜜胺、二嗪、尿素、環亞乙基脲、環亞丙基脲、硫脲、環亞乙基硫脲、烷基蜜胺、芳基蜜胺、苯并胍胺、胍胺、烷基胍胺或芳基胍胺。蜜胺與甲醛的縮合產物甚為有用。該縮合產物也可被烷氧基化。交聯劑的用量以涂料中聚合物的重量為準，最好是25%(重量)以下。最好還要加入一種催化劑，以利于交聯劑的交聯作用。使蜜胺甲醛交聯的較好催化劑有氯化銨、硝酸銨、硫氰酸銨、磷酸二氫銨、硫酸銨、磷酸氫二銨、對甲苯磺酸、與堿反應后而穩定化的馬來酸和對甲苯磺酸嗎啉。
接受層組合物中的聚合物通常是水不溶性的。含有水不溶性聚合物的涂層組合物，仍可作為水分散體或者一種有機溶劑的溶液而加入到聚合物薄膜基質中。涂層介質也可涂在一種已取向的薄膜基質上。但是，這種涂層介質最好在拉伸操作之前或過程中施用。
尤其是，接受層材料最好在雙軸拉伸操作的兩個階段(縱向和橫向)之間涂布在薄膜基質上。這樣的拉伸和涂布順序，特別適用于生產被涂線性聚酯的薄膜基質，例如被涂的聚對苯二甲酸乙二酯的薄膜。這種薄膜最好是首先在一系列轉輥間進行縱向拉伸，然后涂布，再在展幅機烘箱中進行橫向拉伸，最好隨后進行熱定形，并調整到所需的回縮度。
接受層材料可以以水分散體或在有機溶劑中的溶液的形式，采用任何適當的常用涂布技術，如浸涂法、珠粒涂布法、逆向輥涂法或縫隙涂布法來涂在聚合物薄膜上。
涂在聚合物薄膜基質上的接受層材料，最好是以水分散體的形式來涂布。在隨后的拉伸和/或熱定形過程中施加在已涂薄膜上的溫度，對于水介質或溶劑(如果使用含溶劑的材料時)等的干燥，以及使涂料聚結并形成連續而均勻的層狀起很大的作用。可交聯的接受層材料的交聯，也是在這樣的拉伸過程中進行的，最好是在這樣的熱定形溫度下進行。
為了生成連續的涂層，涂在聚合物薄膜上的接受層的膜重以0.1到10毫克分米-2之間較好，最好是0.2到2.0毫克分米-2。采用小于0.1毫克分米-2的膜重時，可能生成不連續的接受層。涂上接受層可改善薄膜的滑潤性和許多適用的上色劑粉末與基質薄膜之間的粘著力。將接受層加以處理，例如用火焰處理法、離子轟擊法、電子束處理法、紫外線處理法或最好用電暈放電法，均可改善隨后涂布的上色劑粉末的粘著力，但也許不是賦予它良好粘著力的主要方法。
電暈放電處理法最好是在空氣中、大氣壓力下和通常設備中進行，采用高頻和高壓的發電機，其輸出功率最好是1到20千瓦，電壓為1到100千伏。在放電的同時，使薄膜通過放電裝置的介電支承輥，其線速最好是每分鐘1.0到500米。放電的電極可位于距移動中的薄膜表面0.1到10.0米處。
但是，不用任何預先的表面處理如電暈放電處理等，也能賦予直接涂在涂層表面的一系列生色劑粉末良好的粘著力。不用電暈放電處理而具有適當粘著力的接受層的實例由下列單體生成的三元共聚物構成丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺，一般其大致的摩爾比率分別為46/46/8%。
在將接受層沉積在聚合物基質上以前，根據需要，可將外露表面進行化學或物理的表面改性處理，以改進該表面與隨后涂布的接受層之間的粘著力。一種由于簡單和有效而較為可取的處理方法是使該基質的外露表面經受高壓電場和電暈放電。或者，該基質可用一種在先有技術中為公知的，對于基質聚合物具有溶劑或溶脹作用的藥品進行預處理。特別適用于處理聚酯基質的這類藥品的實例有溶于一種普通有機溶劑中的鹵代酚，例如對氯間甲酚、2，4-二氯苯酚、2，4，5-或2，4，6-三氯苯酚或4-氯間苯二酚溶于丙酮或甲醇而成的溶液。
雖然接受層的厚度最好是不小于基質厚度的0.004%和不大于10%，基質與接受層二者厚度之比，可在較寬的范圍內變動。實際上，接受層的厚度希望至少為0.01微米，最好不要超過1.0微米太多。
按照本發明，成像復印薄膜的接受層可以含有通常在生產聚合物薄膜中所采用的任何一種添加劑。因此，在接受層中可適當地加入下列各種藥品染料、顏料、疏松劑、潤滑劑、抗氧化劑、防粘劑、表面活性劑、增滑劑、光澤劑、降解助劑、防紫外線劑、粘度調節劑和分散穩定劑等。接受層可以含有一種顆粒狀填料，如粒度較小的二氧化硅。如果在接受層中采用一種填料，則希望其含量(以重量計)不超過聚合物材料的50%，其粒度應不超過0.5微米，以小于0.3微米較好，最好是從0.005到0.2微米。接受層中的填料含量以5到15%(重量)較好，最好是10%。
影像層的形成，可采用通常的靜電復印技術，使用一種熱溶性(熱塑性塑料)上色劑粉末。可使用的上色劑粉末有以苯乙烯-丙烯酸酯共聚物為基礎的上色劑粉末及其共混物。
所用靜電復印機為大家所熟悉的，并且是辦公室復印操作所普遍使用的。按照本發明，尤其是可以采用注冊商標為“Xerox”的市售靜電復印機來在透明的薄膜基質上形成影像。這類性質的復印機的一般操作如下先由電暈放電電極將均勻的靜電正電荷淀積在一保持在黑暗環境中的、具有光電導表面的滾筒即涂硒滾筒上。然后將帶電的表面對著原始文件的影像或待復印的藝術作品曝光，則其電荷便從滾筒上受光照射的區域耗散并流向地面。滾筒上被原始文件或藝術作品遮蔽的暗區內的電荷則不受影響。然后使帶負電的彩色熱塑性塑料上色劑粉末通過已曝光的滾筒上，使這種粉末靠靜電作用吸附在滾筒表面的剩余帶電區域。這樣形成的上色劑粉末影像可以按以下操作轉移到本發明的薄膜基質上將該基質的接受層置于上色劑影像上，并用電暈放電法使基質帶正電荷，于是上色劑粉末便靠上色劑粉末上的剩余負電荷吸附在基質上。最后，可將基質加熱以使上色劑粉末熔化，并使后者在薄膜基質的接受層上粘結成影像層。
熔化的上色劑粉末在薄膜基質上的熱粘結一般在較高的熔融溫度下進行，例如，在熟知的靜電復印法中為200℃左右，通常采用紅外加熱法達到。但是，也可采用加熱輥或紫外線燈，在120℃的區域內進行。已經發現，按照本發明，上色劑粉末與薄膜基質間的粘結作用在較高和較低的粘結溫度下都是令人滿意的。
本發明成像復印薄膜適用于其他類型的復印機，如激光打印機。
一張薄膜基質的一面或兩面上都可涂以接受層，從而在一面或兩面的接受層上都可生成影像。本發明特別適用于生產紙底復印薄膜。一般這種薄膜基質的非成像面沿一邊緣層壓在襯紙上(通常為40到100克/米2表壓)，借助于一種粘結材料，例如一種粘結劑的縱向薄涂層(壓敏或非壓敏的)或膠帶。層壓的復印薄膜中的紙層妨礙復印過程熱粘結階段中熱量傳到接受層上，從而大大減弱上色劑的粘結作用。即使在復印薄膜上結合使用紙襯層時，本發明的接受層材料也能使上色劑的粘結令人滿意地牢固。
欲在高速靜電復印機上生產復合復印件時，可在接受層材料中加入一種粉碎得很細的顆粒狀材料，例如二氧化硅等作為抗粘劑。根據需要，還可向離影像接受層較遠的薄膜支承材料的表面上加入一種抗靜電涂層介質。薄膜基質的靜電摩擦，可用向薄膜支承材料的一面或兩面打蠟的方法來減輕，這些蠟有天然蠟，如巴西蠟棕蠟;或合成蠟。蠟層涂在承載著接受層的支承材料面上。這種預防措施有利于將一疊薄膜一張一張地送入高速復印機中。
接受層上的抗摩擦材料如蠟等，在將一疊襯紙的層壓復印薄膜連續送入復印機時特別需要。因此，在成疊進料的裝置中，一張復印層壓薄膜在進料機中與相鄰的一張復印層壓薄膜的襯紙表面相接觸，這兩種在一定程度上互不相容的表面間的摩擦作用必須加以控制，以便用通常的輸送帶或真空裝置將這些層壓薄膜送入復印機時，一張層壓薄膜應能順利地在另一張上滑過。出乎意外的是，我們觀察到，接受層上的蠟并不怎么影響上色劑的粘結性能。
本發明可用下列各實施例加以說明。
實施例1-3將聚對苯二甲酸乙二酯熔融擠塑成為薄膜，在一冷卻的滾筒上進行流延，然后沿擠出的方向拉伸到原有尺寸的3.2倍左右。在冷卻后的已拉伸薄膜兩面均涂以一種含水組合物，含有下列組分丙烯酸樹脂(重量濃度16%的含有甲基丙烯酸 18.75升甲酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酰胺46/46/8摩爾%的水基膠乳與重量濃度25%的甲氧基化蜜胺-甲醛樹脂)Ludox TM(重量濃度50%的二氧化硅混懸 0.43升液，平均粒度約20納米，由杜邦公司供應)硝酸銨(重量濃度10%的水溶液) 0.22升Synperonic N(重量濃度27%的壬基酚 0.50升乙氧基化物，由帝國化學工業公司供應)軟化水 補足100升將混合物的pH值調節到二甲氨基乙醇指示為9.0(在加Ladox TM以前)。
將有涂層的薄膜送入拉幅機的烘箱，在此，薄膜進行干燥并沿橫向拉伸到原有尺寸的3.6倍。將雙軸拉伸過的有涂層薄膜在溫度約235℃下進行熱定形，使回縮量分別為3%、4%或5%。薄膜最終產品的厚度為100微米，干燥涂層的厚度約為300埃，干燥涂層的重量約為0.03毫克分米-2。
TD和MD的膨脹或收縮，在將薄膜樣條置于烘箱中在150℃下加熱30分鐘后進行測定。其結果列于表1中，表示出3個試樣的平均變化%。
將原生產的薄膜切割成A4尺寸的樣片，將半數樣片襯上紙(如前所述)，使單純的和襯紙的樣片均通過一臺Xerox 1025型復印機。
檢驗印有影像的試樣的卷曲度和平直度。將每個樣片放在一水平的平面上，通過測量每個樣片隆起最高的一角的高度來決定其卷曲度。取10個樣片的平均值。其結果列于表1中。用目測法檢驗各樣片的平直度或皺紋。所有的單純的和襯紙的試樣都顯示出足夠的平直度。
樣片的喂進性能，通過向復印機送入一疊樣片來測定，單純的和襯紙的樣片都展示出均勻而良好的喂進性能。
上色劑粉末(由Xerox公司供應)與接受層之間的粘結優良。
實施例4這是一個不按照本發明的對比實例。
重復了實施例1-3的程序，唯有在薄膜上不涂接受層，在展幅機中不用回縮法。
TD和MD的膨脹或收縮結果和單純的和襯紙的樣片的卷曲度列于表1中。
薄膜的平直度、樣片的進料性能和生色劑粉末的粘著力，比實施例1-3(及下面的5-8)差得多。
實施例5-8重復了實施例1-3的程序，唯有薄膜是在溫度240℃下進行熱定形的，回縮量分別為3%、4%或5%。
TD和MD的膨脹或收縮結果和單純的和襯紙的樣片的卷曲度列于表1中。
薄膜的平直度和樣片的進料性能良好，上色劑粉末與接受層之間的粘結優良。
實施例9這是一個不按本發明的對比實例。
重復了實施例1-3的程序，唯有在薄膜上不涂接受層，薄膜在溫度240℃下進行熱定形，在拉幅機中不用回縮法。
TD和MD的膨脹或收縮和單純的與襯紙的樣片的卷曲度列于表1中。
薄膜的平直度、樣片的進料性能和上色劑粉末的粘著力，比實施例1-3和5-8差得多。
表1實施例 拉幅機 單純樣片 襯紙樣片序號溫度回縮 TD＊MD 的卷曲度的卷曲度(℃) % 收縮 收縮 (毫米) (毫米)1 235 3 -0.39 0.73 1.2 12.62 235 4 -0.36 0.65 0.4 9.23 235 5 -0.41 0.74 2.2 13.24 235 0 0.99 0.69 3.4 18.4(對比)5 240 3 -0.74 0.83 1.8 8.26 240 4 -0.53 0.91 1.6 6.47 240 5 -0.40 0.78 2.4 6.48 240 6 -0.32 0.79 3.2 6.89 240 0 0.96 0.84 3.4 23.4(對比)
＊負值表示熱膨脹上述實施例說明本發明的成像復印薄膜的性能優越。
權利要求
1.一種成像復印薄膜，該薄膜包括一種熱塑性塑料基膜，薄膜的橫向(TD)熱膨脹百分率在150℃時為0.01到1.0%，縱向(MD)的熱收縮百分率在150℃時為0.4到2.0%；該薄膜至少有一面上有接受層，后者由一種丙烯酸類樹脂和/或甲基丙烯酸類樹脂構成。
2.按照權利要求1的復印薄膜，其中其基質薄膜的橫向(TD)的熱膨脹百分率在150℃為0.2到0.8%，縱向(MD)的熱收縮百分率在150℃為0.5到1.5%。
3.按照權利要求1和2之一的復印薄膜，其中，所述丙烯酸類樹脂由甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺的三元共聚物構成。
4.按照上述各權利要求之一的復印薄膜，在該接受層或各接受層中均含有一種細粉碎的顆粒狀材料。
5.按照權利要求4的復印薄膜，其中所述顆粒狀材料由二氧化硅構成。
6.按照上述各權利要求之一的復印薄膜，它包含一種紙底，粘結在薄膜基質的非成像表面上。
7.按照上述各權利要求之一的復印薄膜，在該接受層或各接受層上包含一蠟層。
8.按照上述各權利要求之一的復印薄膜，其中所述基質由一種雙軸取向的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜構成。
9.一種生產成像復印薄膜的方法，該方法包括在一種熱塑性聚合物材料的薄膜基質的至少一面上，生成一種由丙烯酸或甲基丙烯酸樹脂構成的接受層，這種薄膜的橫向(TD)熱膨脹百分率在150℃為0.01到1.0%，縱向(MD)的熱收縮百分率在150℃為0.4到2.0%。
10.按照權利要求9的一種方法，其中該基質由一種雙軸取向的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜構成，后者已經在溫度230到245℃下和橫向的較小張力下熱定形。
全文摘要
一種由熱塑性聚合物薄膜基質構成的成像復印薄膜，該薄膜的橫向(TD)熱膨脹百分率在150℃為0.01到1.0％，縱向(MD)熱收縮百分率在150℃為0.4到2.0％。該基質在其至少一面上有接受層，后者由一種丙烯酸類樹脂和/或甲基丙烯酸類樹脂構成。
文檔編號G03G7/00GK1048676SQ9010462
公開日1991年1月23日 申請日期1990年7月13日 優先權日1989年7月13日
發明者查爾斯·理查德·哈特 申請人:帝國化學工業公司